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1. (WO2016173079) DIGITAL PHASE SHIFT LATERAL SHEARING INTERFEROMETER AND OPTICAL SYSTEM WAVE ABERRATION MEASUREMENT METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/173079    International Application No.:    PCT/CN2015/080419
Publication Date: 03.11.2016 International Filing Date: 29.05.2015
IPC:
G01J 9/02 (2006.01), G01M 11/02 (2006.01)
Applicants: SHANGHAI INSTITUTE OF OPTICS AND FINE MECHANICS CHINESE ACADEMY OF SCIENCES [CN/CN]; No.390, Qinghe Road, Jiading District Shanghai 201800 (CN)
Inventors: DAI, Fengzhao; (CN).
WANG, Xiangzhao; (CN).
TANG, Feng; (CN)
Agent: SHANGHAI XIN TIAN PATENT AGENCY CO., LTD.; Room1606, No.59, Nan Chang Road, Huangpu District Shanghai 200020 (CN)
Priority Data:
2015102160175 30.04.2015 CN
Title (EN) DIGITAL PHASE SHIFT LATERAL SHEARING INTERFEROMETER AND OPTICAL SYSTEM WAVE ABERRATION MEASUREMENT METHOD
(FR) INTERFÉROMÈTRE À CISAILLEMENT LATÉRAL ET DÉCALAGE DE PHASE NUMÉRIQUE ET PROCÉDÉ DE MESURE D'ABERRATION D'ONDE DE SYSTÈME OPTIQUE
(ZH) 数字相移横向剪切干涉仪及光学系统波像差测量方法
Abstract: front page image
(EN)A digital phase shift lateral shearing interferometer and an optical system wave aberration measurement method. The interferometer comprises a light source (1), a small-hole mask (2), a first spatial light modulator (4), a second spatial light modulator (6), a two-dimensional photoelectric detector (8) and a computer (9), the first spatial light modulator (4) being set as an optical grating by means of computer programming and taken as a shearing light splitter, and the second spatial light modulator (6) being set as a double-window mask and taken as a filter device configured to filter out high order diffractive light of grade 0 and grade 2 or above, thereby enabling only diffractive light of grade +1 and grade -1 to take part in interference. The digital phase shift lateral shearing interferometer and the optical system wave aberration measurement method solve the problem of participation in interference of high order diffractive light, and have the advantages of realizing a changeable shearing direction and an adjustable shearing rate without replacing or rotating any device; and a system is more flexible.
(FR)L'invention concerne un interféromètre à cisaillement latéral et décalage de phase numérique et un procédé de mesure d'aberration d'onde de système optique. L'interféromètre comprend une source de lumière (1), un masque à petits trous (2), un premier modulateur de lumière spatiale (4), un second modulateur de lumière spatiale (6), un détecteur photoélectrique bidimensionnel (8) et un ordinateur (9), le premier modulateur de lumière spatiale (4) étant réglé comme un réseau optique au moyen d'une programmation informatique et pris comme un diviseur de lumière à cisaillement et le second modulateur de lumière spatiale (6) étant réglé comme un masque à double fenêtre et pris comme un dispositif de filtre conçu pour filtrer la lumière de diffraction d'ordre élevé de niveau 0 et de niveau 2 ou supérieur, permettant ainsi uniquement à la lumière de diffraction de niveau +1 et de niveau -1 de participer à l'interférence. L'interféromètre à cisaillement latéral et décalage de phase numérique et le procédé de mesure d'aberration d'onde de système optique résolvent le problème de participation à l'interférence de la lumière de diffraction d'ordre élevé et présentent les avantages qui consistent à réaliser une direction de cisaillement modifiable et une vitesse de cisaillement réglable sans remplacer ni faire tourner de dispositif quelconque et le système est plus flexible.
(ZH)一种数字相移横向剪切干涉仪及光学系统波像差测量方法,干涉仪由光源(1)、小孔掩模(2)、第一空间光调制器(4)、第二空间光调制器(6)、二维光电探测器(8)及计算机(9)组成,通过计算机编程将第一空间光调制器(4)设置为光栅,作为剪切分光器件,将第二空间光调制器(6)设置为双窗口掩模,作为滤波器件,滤除0级与2级以上高级衍射光,使参与干涉的仅有+1级和-1级衍射光。这种数字相移横向剪切干涉仪及光学系统波像差测量方法解决了高级衍射光参与干涉问题的同时,具有不需要更换或旋转任何器件实现剪切方向可变、剪切率可调的优点,系统更灵活。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)