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1. (WO2016106337) APPARATUS AND METHOD FOR MANAGING A TEMPERATURE PROFILE USING REFLECTIVE ENERGY IN A THERMAL DECOMPOSITION REACTOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/106337    International Application No.:    PCT/US2015/067423
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 22.12.2015
IPC:
H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: REC SILICON INC [US/US]; 3322 Road N Ne Moses Lake, WA 98837 (US)
Inventors: TROUTMAN, Timothy; (US).
LOUSHIN, Bryan, J.; (US).
RUSCHETTI, Joe; (US)
Agent: GARDNER, Gillian; (US)
Priority Data:
62/096,435 23.12.2014 US
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR MANAGING A TEMPERATURE PROFILE USING REFLECTIVE ENERGY IN A THERMAL DECOMPOSITION REACTOR
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE GESTION DE PROFIL DE TEMPÉRATURE À L'AIDE D'ÉNERGIE RÉFLÉCHIE DANS UN RÉACTEUR DE DÉCOMPOSITION THERMIQUE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of a reflective surface and a reflector comprising a reflective surface for use in a thermal decomposition reactor are disclosed. Methods for using the reflective surface, or reflector comprising the reflective surface, to manage a temperature profile in a silicon rod grown in the thermal decomposition reactor are also disclosed. The reflective surface is configured to receive radiant heat energy emitted from an energy emitting region of an elongated polysilicon body grown during chemical vapor deposition onto a silicon filament and reflect at least a portion of the received radiant heat energy to a reflected energy receiving region of the elongated polysilicon body or to a reflected energy receiving region of a second elongated polysilicon body, to thereby add radiant heat energy to the reflected energy receiving region.
(FR)Dans certains modes de réalisation, l'invention concerne une surface réfléchissante et un réflecteur comprenant une surface réfléchissante destinés à être utilisés dans un réacteur de décomposition thermique. L'invention concerne également des procédés d'utilisation de la surface réfléchissante, ou du réflecteur comprenant la surface réfléchissante, permettant de gérer un profil de température dans un barreau de silicium devenu important dans le réacteur de décomposition thermique. La surface réfléchissante est conçue pour recevoir de l'énergie thermique rayonnante émise par une région d'émission d'énergie d'un corps en polysilicium allongé devenu important au cours d'un dépôt chimique en phase vapeur sur un filament de silicium et réfléchir au moins une partie de l'énergie thermique rayonnante reçue vers une région de réception d'énergie réfléchie du corps en polysilicium allongé ou vers une région de réception d'énergie réfléchie d'un second corps en polysilicium allongé, ce qui permet d'ajouter de l'énergie thermique rayonnante à la région de réception d'énergie réfléchie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)