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1. (WO2016106086) ZIRCONIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/106086    International Application No.:    PCT/US2015/066434
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 17.12.2015
IPC:
H01L 21/316 (2006.01), C07F 7/00 (2006.01), C07F 7/30 (2006.01), C07F 17/00 (2006.01), C07F 19/00 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01)
Applicants: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE [FR/FR]; 75, Quai d'Orsay F-75007 Paris (FR).
LANSALOT-MATRAS, Clément [FR/US]; (US) (US only).
LIEFFRIG, Julien [FR/FR]; (FR) (US only).
ISHII, Hana [JP/JP]; (JP) (US only).
DUSSARRAT, Christian [FR/JP]; (JP) (US only)
Inventors: LANSALOT-MATRAS, Clément; (US).
LIEFFRIG, Julien; (FR).
ISHII, Hana; (JP).
DUSSARRAT, Christian; (JP)
Agent: MCQUEENEY, Patricia E.; (US)
Priority Data:
14/580,324 23.12.2014 US
Title (EN) ZIRCONIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS
(FR) COMPOSITIONS DE FORMATION DE FILM CONTENANT DU ZIRCONIUM POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR DE FILMS CONTENANT DU ZIRCONIUM
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are Zirconium-containing film forming compositions comprising Germanium- and Zirconium-containing precursors having one of the following formulae: formula (I) and formula (II) wherein each R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 and R10 is independently selected from H; a C1-C5 linear, branched, or cyclic alkyl group; and a C1-C5 linear, branched, or cyclic fluoroalkyl groups. Also disclosed are methods of synthesizing the disclosed compositions and using the same to deposit Zirconium-containing films on substrates via vapor deposition processes.
(FR)L'invention concerne des compositions de formation de film contenant du zirconium qui comprennent des précurseurs contenant du germanium et du zirconium ayant une des formules suivantes : formule (I) et formule (II), dans lesquelles R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 et R10 sont choisis chacun indépendamment parmi H ; un groupe alkyle en C1-C5 linéaire, ramifié ou cyclique ; et un groupe fluoroalkyle en C1-C5 linéaire, ramifié ou cyclique. L'invention concerne également des procédés pour synthétiser les compositions de l'invention et les utiliser pour déposer des films contenant du zirconium sur des substrats par le biais de procédés de dépôt en phase vapeur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)