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1. (WO2016105757) METHOD AND APPARATUS FOR EXPANDING A MASK TO A VECTOR OF MASK VALUES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/105757    International Application No.:    PCT/US2015/062062
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 23.11.2015
IPC:
G06F 9/30 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: JHA, Ashish; (US).
OULD-AHMED-VALL, Elmoustapha; (US).
VALENTINE, Robert; (IL)
Agent: WEBSTER, Thomas; (US)
Priority Data:
14/581,578 23.12.2014 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR EXPANDING A MASK TO A VECTOR OF MASK VALUES
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR ÉTENDRE UN MASQUE À UN VECTEUR DE VALEURS DE MASQUE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus and method for performing a mask expand. For example, one embodiment of a processor comprises: a source mask register to store a plurality of mask values; mask expand logic to identify a first mask bit in the source mask register to be expanded using an index value and to determine a number of bit positions within a destination mask register into which the first mask bit is to be expanded using a second value, the mask expand logic to responsively copy the first mask bit to each of the determined bit positions within the destination mask register.
(FR)L’invention concerne un appareil et un procédé pour réaliser une extension de masque. Par exemple, un mode de réalisation d’un processeur comprend : un registre de masque source pour stocker une pluralité de valeurs de masque ; une logique d’extension de masque pour identifier un premier bit de masque dans le registre de masque source à étendre à l’aide d’une valeur d’index et déterminer un nombre de positions de bit dans un registre de masque de destination en lequel le premier bit de masque doit être étendu à l’aide d’une seconde valeur, la logique d’extension de masque étant conçue pour copier en réponse le premier bit de masque sur chacune des positions de bit déterminées dans le registre de masque de destination.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)