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1. (WO2016105733) DEPTH PROXIMITY LAYERING FOR WEARABLE DEVICES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/105733    International Application No.:    PCT/US2015/061795
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 20.11.2015
IPC:
G06F 3/01 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Blvd. Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: WEAST, John, C.; (US).
MARCH, Wendy; (US).
LEWALLEN, Eric; (US).
BOOTH, Cory, J.; (US)
Agent: KACVINSKY, John, F.; (US)
Priority Data:
14/582,018 23.12.2014 US
Title (EN) DEPTH PROXIMITY LAYERING FOR WEARABLE DEVICES
(FR) DISPOSITION EN COUCHES DE PROXIMITÉ DE PROFONDEUR POUR DES DISPOSITIFS POUVANT ÊTRE PORTÉS
Abstract: front page image
(EN)Techniques to determine depth for a number of wearable devices, which may be worn in layers are provided. A wearable device can receive measurements from sensors to include sensors from a number of other wearable devices. Based on the sensor measurements, the wearable device can determine a depth for the wearable devices. The depth can include an indication of which wearable device is closest to a user, which wearable device is closest to an external environment, or the like.
(FR)L'invention concerne des techniques pour déterminer la profondeur pour un certain nombre de dispositifs pouvant être portés, qui peuvent être portés en couches. Un dispositif pouvant être porté peut recevoir des mesures provenant de capteurs pour inclure des capteurs provenant d'un certain nombre d'autres dispositifs pouvant être portés. Sur la base des mesures de capteur, le dispositif pouvant être porté peut déterminer une profondeur pour les dispositifs pouvant être portés. La profondeur peut inclure une indication du dispositif pouvant être porté qui est le plus proche d'un utilisateur, du dispositif pouvant être porté qui est le plus proche d'un environnement externe, ou autre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)