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1. (WO2016104639) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/104639    International Application No.:    PCT/JP2015/086089
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 24.12.2015
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventors: FUJII, Tetsufumi; (JP).
KIMURA, Naohiro; (JP).
KAJIWARA, Takuya; (JP)
Agent: TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2014-264400 26.12.2014 JP
2014-264402 26.12.2014 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CARTE IMPRIMÉE
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)This photosensitive resin composition includes a component (A): a binder polymer, a component (B): a photopolymerizable compound, a component (C): a photopolymerization initiator, and a component (D): a compound having at least two types of structural unit selected from the group consisting of polyethylene oxide [-(C2H4O)k-], polypropylene oxide [-(C3H6O)1-], and polytetramethylene oxide [-(C4H8O)m-] (wherein k, l, and m are each independently a number equal to 1 or greater, and k + l + m = 20 or greater), the content of component (D) being 2-20 mass% of the entire amount of nonvolatile components, or component (B) including a compound having an isocyanuric ring.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible comprenant un constituant (A) : un polymère liant, un constituant (B) : un composé photopolymérisable, un constituant (C) : un initiateur de photopolymérisation, et un constituant (D) : un composé possédant au moins deux types de motif structural choisis dans le groupe constitué par l'oxyde de polyéthylène [-(C2H4O)k-], l'oxyde de polypropylène [-(C3H6O)1-] et l'oxyde de polytétraméthylène [-(C4H8O)m-] (où k, l et m représentent chacun indépendamment un nombre supérieur ou égal à 1, et k + l + m ≥ 20), la teneur en constituant (D) étant située dans la plage allant de 2 à 20 % en masse de la quantité totale de constituants non volatils, ou le constituant (B) comprenant un composé ayant un cycle isocyanurique.
(JA) (A)成分:バインダーポリマーと、(B)成分:光重合性化合物と、(C)成分:光重合開始剤と、(D)成分:ポリエチレンオキサイド〔-(CO)-〕、ポリプロピレンオキサイド〔-(CO)-〕及びポリテトラメチレンオキサイド〔-(CO)-〕からなる群より選択される少なくとも2種を構造単位として有する化合物(但し、k、l及びmはそれぞれ独立に1以上の数であり、k+l+mは20以上である)と、を含有し、前記(D)成分の含有率が不揮発成分総量の2質量%~20質量%であるか、前記(B)成分はイソシアヌル環を有する化合物を含む、感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)