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1. (WO2016104207) VAPOR DEPOSITION MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/104207    International Application No.:    PCT/JP2015/084885
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 14.12.2015
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: HITACHI MAXELL,LTD. [JP/JP]; 1-1-88,Ushitora,Ibaraki-shi, Osaka 5678567 (JP)
Inventors: KOBAYASHI Yoshihiro; (JP).
TAMARU Hirohito; (JP).
NAKASHIMA Takashi; (JP)
Agent: MORIMOTO Satoshi; (JP)
Priority Data:
2014-266887 27.12.2014 JP
Title (EN) VAPOR DEPOSITION MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 蒸着マスク及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a vapor deposition mask, with which a luminous layer with a uniform height can be formed with high precision and good reproducibility; and a manufacturing method therefor. A vapor deposition pattern 6 obtained from multiple independent vapor deposition through holes 5 is provided on a mask body 2. In the vapor deposition through holes 5, small hole parts 5a, which are located on the side of the substrate 30 to be coated, are formed so as to be in communication with large hole parts 5b, which are located on the vaporization source-side and are formed to be larger than the shape of the opening of the small hole parts 5a. As a result, the vapor deposition through holes 5 have a form that widens toward vaporization source, making it possible for the holes to accept organic material from the vaporization source at a wide angle and making it possible to form a luminous layer with a uniform height with good precision.
(FR)La présente invention se rapporte à : un masque de dépôt en phase vapeur, avec lequel une couche lumineuse ayant une hauteur uniforme peut être formée avec une précision élevée et une bonne reproductibilité; et un procédé de fabrication associé. Un motif 6 de dépôt en phase vapeur obtenu à partir de multiples trous traversants 5 indépendants de dépôt en phase vapeur est formé sur un corps de masque 2. Dans les trous traversants 5 de dépôt en phase vapeur, des parties à petits trous 5a, qui sont situées sur le côté du substrat 30 devant être revêtu, sont formées de manière à se trouver en communication avec des parties à grands trous 5b, qui sont situées sur le côté source de vaporisation et sont formées de manière à ce qu'elles soient plus grandes que la forme de l'ouverture des parties à petits trous 5a. Il s'ensuit que les trous traversants 5 de dépôt en phase vapeur présentent une forme qui s'élargit en direction de la source de vaporisation, permettant aux trous d'accepter un matériau organique provenant de la source de vaporisation selon un large angle et permettant la formation avec une bonne précision d'une couche lumineuse ayant une hauteur uniforme.
(JA) 均一な高さ寸法を有する発光層を高精度に再現性良く形成することができる蒸着マスク及びその製造方法を提供する。 マスク本体2に多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6が設けられ、蒸着通孔5は、被蒸着基板30側に位置する小孔部5aと、気化源側に位置し、小孔部5aの開口形状よりも大きく形成された大孔部5bとが連通形成されているものである。これにより、蒸着通孔5が気化源に向かって外広がり形状となって、広い角度で気化源からの有機材料を受け入れることが可能となり、均一な高さ寸法を有する発光層を精度良く形成することが可能となる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)