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Pub. No.:    WO/2016/103456    International Application No.:    PCT/JP2014/084540
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 26.12.2014
H05G 2/00 (2006.01)
Applicants: GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventors: UMEDA Hiroshi; (JP).
KAMIKANNA Kazukiyo; (JP)
Agent: MATSUURA Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223 (JP)
Priority Data:
(JA) 極端紫外光生成装置
Abstract: front page image
(EN)To stably generate EUV light. This extreme ultraviolet light generation device may be provided with: a chamber, which is connected to ground, and in which extreme ultraviolet light is generated when a metal target supplied to the inside is irradiated with laser light; a target supply unit, which is connected to the ground, fixed to the chamber, and outputs the target from a nozzle, said target being to be supplied to the inside of the chamber; an extraction electrode, which is disposed on the target output side of the nozzle, and adds an electrostatic force to the target by applying a negative first potential; a first power supply that applies the first potential to the extraction electrode; an acceleration electrode unit, which is disposed at a position where the target extracted by means of the extraction electrode passes, and which accelerates the target by applying a negative second potential that is lower than the first potential; a second power supply that applies the second potential to the acceleration electrode unit; and a charge neutralizer, which is disposed inside of the acceleration electrode unit, and which emits electrons to the target.
(FR)L'invention vise à générer de façon stable de la lumière ultraviolette extrême (EUV). Un dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême selon l'invention peut être pourvu : d'une chambre, qui est connectée à la masse, et dans laquelle de la lumière ultraviolette extrême est générée lorsqu'une cible métallique introduite à l'intérieur est exposée à de la lumière laser; d'une unité d'alimentation en cible, qui est connectée à la masse, est fixée à la chambre, et délivre la cible par une buse, ladite cible étant destinée à alimenter l'intérieur de la chambre; d'une électrode d'extraction, qui est disposée côté sortie de cible de la buse, et communique une force électrostatique à la cible par application d'un premier potentiel négatif; d'une première alimentation électrique qui applique le premier potentiel à l'électrode d'extraction; d'une unité à électrodes d'accélération, qui est disposée à une position où passe la cible extraite au moyen de l'électrode d'extraction, et qui accélère la cible par application d'un second potentiel négatif qui est inférieur au premier potentiel; d'une seconde alimentation électrique qui applique le second potentiel à l'unité à électrodes d'accélération; et d'un dispositif de neutralisation de charge, qui est disposé à l'intérieur de l'unité à électrodes d'accélération, et qui émet des électrons vers la cible.
(JA) EUV光を安定的に生成する。 極端紫外光生成装置は、グランドに接地され、内部に供給された金属のターゲットにレーザ光が照射されることで極端紫外光が生成されるチャンバと、前記グランドに接地されていると共に前記チャンバに固定され、前記チャンバ内に供給する前記ターゲットをノズルから出力するターゲット供給部と、前記ノズルのターゲット出力側に配置され、負の第1電位を印加することで前記ターゲットに静電気力を加える引出電極と、前記引出電極に前記第1電位を印加する第1電源と、前記引出電極によって引き出された前記ターゲットが通過する位置に配置され、前記第1電位よりも低い負の第2電位を印加することで前記ターゲットを加速させる加速電極部と、前記加速電極部に前記第2電位を印加する第2電源と、前記加速電極部の内部に配置され、前記ターゲットに電子を放出する電荷中和器と、を備えてもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)