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1. (WO2016102749) ALD METHOD AND APPARATUS INCLUDING A PHOTON SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/102749    International Application No.:    PCT/FI2015/050820
Publication Date: 30.06.2016 International Filing Date: 25.11.2015
IPC:
C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/48 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Applicants: PICOSUN OY [FI/FI]; Tietotie 3 02150 Espoo (FI)
Inventors: MALINEN, Timo; (FI)
Agent: ESPATENT OY; Kaivokatu 10 D 00100 Helsinki (FI)
Priority Data:
20140362 22.12.2014 FI
Title (EN) ALD METHOD AND APPARATUS INCLUDING A PHOTON SOURCE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE COMPRENANT UNE SOURCE DE PHOTONS
Abstract: front page image
(EN)A deposition method, comprising providing a horizontal channel formed by a bottom part (255) and a top part ( 250) through a deposition apparatus, feeding precursor vapor (211) into the channel, and depositing material from the precursor vapor onto a substrate on its way through the deposition apparatus. The substrate is exposed to the precursor vapor and to alternating photon exposure and shade periods within the channel. The invention also relates to an apparatus, which includes a photon source (240) with impermeable areas (251) and non-shaded areas (262). Objects of the invention are to achieve a fast atomic layer deposition and a lowered required processing temperature.
(FR)L'invention concerne un procédé de dépôt, consistant à fournir un canal horizontal formé d'une partie inférieure (255) et d'une partie supérieure (250) par l'intermédiaire d'un appareil de dépôt, à introduire de la vapeur de précurseur (211) dans le canal, et à déposer un matériau à partir de la vapeur de précurseur sur un substrat pendant son déplacement sur l'appareil de dépôt. Le substrat est exposé à la vapeur de précurseur et à des périodes d'exposition de photons et d'ombre alternées à l'intérieur du canal. L'invention concerne également un appareil qui comprend une source de photons (240) comportant des zones imperméables (251) et des zones non ombrées (262). Le but de la présente invention est d'obtenir un dépôt de couche atomique rapide et une réduction de la température de traitement nécessaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)