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1. (WO2016099758) VARIABLE RADIUS MIRROR DICHROIC BEAM SPLITTER MODULE FOR EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/099758    International Application No.:    PCT/US2015/061166
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 17.11.2015
IPC:
G02B 5/08 (2006.01), G02B 27/10 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; (a Netherlands Corporation) P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: PURVIS, Michael Anthony; (US).
RAFAC, Robert Jay; (US).
SCHAFGANS, Alexander Anthony; (US).
ZHANG, Kevin Weimin; (US)
Agent: NGUYEN, Joseph A.; (US)
Priority Data:
14/804,976 21.07.2015 US
62/092,493 16.12.2014 US
Title (EN) VARIABLE RADIUS MIRROR DICHROIC BEAM SPLITTER MODULE FOR EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE
(FR) MODULE SÉPARATEUR DE FAISCEAU DICHROÏQUE À MIROIR À RAYON VARIABLE POUR SOURCE D'ULTRAVIOLETS EXTRÊMES
Abstract: front page image
(EN)A laser produced plasma extreme ultraviolet laser source comprising at least one variable radius mirror. The at least one variable radius mirror to adjust a beam diameter of a main pulse at a specified distance from a pre-pulse focal plane, where the pre-pulse radiates droplets into target droplets and the main pulse radiates the target droplets into a plasma state to generate the extreme ultraviolet radiation.
(FR)La présente invention se rapporte à une source laser d'ultraviolets extrêmes à plasma produit par laser, qui comprend au moins un miroir à rayon variable. Ledit miroir à rayon variable permet d'ajuster le diamètre de faisceau d'une impulsion principale à une distance spécifiée par rapport à un plan focal de pré-impulsion, la pré-impulsion émettant des gouttelettes sous la forme de gouttelettes cibles et l'impulsion principale émettant les gouttelettes cibles à l'état de plasma afin de générer le rayonnement ultraviolet extrême.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)