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1. (WO2016099705) UV ASSISTED CVD ALN FILM FOR BEOL ETCH STOP APPLICATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/099705    International Application No.:    PCT/US2015/059761
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 09.11.2015
IPC:
H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: DEMOS, Alexandros T.; (US).
PADHI, Deenesh; (US)
Agent: PATTERSON, Todd, B.; (US)
Priority Data:
62/091,836 15.12.2014 US
Title (EN) UV ASSISTED CVD ALN FILM FOR BEOL ETCH STOP APPLICATION
(FR) FILM DE NITRURE D'ALUMINIUM OBTENU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTÉ PAR ULTRAVIOLETS POUR APPLICATION D'ARRÊT DE GRAVURE EN FIN DE LIGNE
Abstract: front page image
(EN)Implementations described herein generally relate to methods for depositing etch stop layers, such as AlN layers, using UV assisted CVD. Methods disclosed herein generally include positioning a substrate in a process region of a process chamber; delivering an aluminum-containing precursor to the process region, the aluminum-containing precursor depositing an aluminum species onto the substrate; purging the process region of aluminum-containing precursor using an inert gas; delivering a UV responsive nitrogen-containing precursor to the process region, the UV responsive nitrogen-containing gas being activated using UV radiation to create nitrogen radicals, the nitrogen radicals reacting with the aluminum species to form an AlN layer; and purging the process region of UV responsive nitrogen-containing precursor using an inert gas.
(FR)Dans des modes de réalisation, l'invention concerne en général des procédés permettant de déposer des couches d'arrêt de gravure, telles que des couches de nitrure d'aluminium (AlN) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) assisté par ultraviolets (UV). Les procédés précités consistent généralement à positionner un substrat dans une région de traitement de chambre de traitement ; à délivrer un précurseur contenant de l'aluminium à la région de traitement, le précurseur contenant de l'aluminium déposant une espèce d'aluminium sur le substrat ; à purger la région de traitement du précurseur contenant de l'aluminium à l'aide d'un gaz inerte ; à distribuer un précurseur contenant de l'azote sensible aux UV à la zone de traitement, le gaz contenant de l'azote sensible aux UV étant activé à l'aide d'un rayonnement UV pour créer des radicaux d'azote, ces derniers réagissant avec l'espèce d'aluminium pour former une couche d'AlN ; et à purger la région de traitement du précurseur contenant de l'azote sensible aux UV à l'aide d'un gaz inerte.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)