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1. (WO2016098793) THIAZOLE DERIVATIVE HAVING CYCLIC GUANIDYL GROUP

明 細 書

発明の名称

技術分野

0001  

背景技術

0002   0003  

先行技術文献

特許文献

0004  

非特許文献

0005  

発明の概要

発明が解決しようとする課題

0006  

課題を解決するための手段

0007   0008   0009   0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016  

発明の効果

0017  

発明を実施するための形態

0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052   0053   0054   0055   0056   0057   0058   0059   0060   0061   0062   0063   0064   0065   0066   0067   0068   0069   0070   0071   0072   0073   0074   0075   0076   0077   0078   0079   0080   0081   0082   0083   0084   0085   0086   0087   0088   0089   0090   0091   0092   0093   0094   0095   0096   0097   0098   0099   0100   0101   0102   0103   0104   0105   0106   0107   0108   0109   0110   0111   0112   0113   0114   0115   0116   0117   0118   0119   0120   0121   0122   0123   0124   0125   0126   0127   0128   0129   0130   0131   0132   0133   0134   0135   0136   0137   0138   0139   0140   0141   0142   0143   0144   0145   0146   0147   0148   0149   0150   0151   0152   0153   0154   0155   0156   0157   0158   0159   0160   0161   0162   0163   0164   0165   0166   0167   0168   0169   0170   0171   0172   0173   0174   0175   0176   0177   0178   0179   0180   0181   0182   0183   0184   0185   0186   0187   0188   0189   0190   0191   0192   0193   0194   0195   0196   0197   0198   0199   0200   0201   0202   0203   0204   0205   0206   0207   0208   0209   0210   0211   0212   0213   0214   0215   0216   0217   0218   0219   0220   0221   0222   0223   0224   0225   0226   0227   0228   0229   0230  

実施例

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実施例 1

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実施例 2

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実施例 3

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実施例 4

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実施例 59

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実施例 66

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実施例 67

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産業上の利用可能性

0614  

請求の範囲

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   12   13   14   15   16  

明 細 書

発明の名称 : 環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体

技術分野

[0001]
本発明は、抗真菌活性を有する新規な環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体またはその塩、およびそれらを含有する抗真菌剤に関する。

背景技術

[0002]
近年、致死率の高い難治性深在性真菌症が大きな問題となっている。深在性真菌症の増加背景の1つとして、医療の高度化にともなう易感染性患者の増加が挙げられる。高度救命医療や臓器移植などに用いられる抗菌薬、抗腫瘍薬及び免疫抑制薬の頻用に伴って、これら高度医療適用患者は免疫力が低下している場合が多く、その為、健常人においては感染・発症することのない内因性または外因性の日和見感染菌であるカンジダ属菌やアスペルギルス属菌などの真菌が起因菌となって重篤な感染症を発症することがある。例えば、AIDS(後天性免疫不全症候群)患者では口腔・食道カンジダ症、クリプトコッカス髄膜炎などの併発や、臓器移植や抗癌化学療法を受けている患者では、播種性カンジダ症、侵襲性アスペルギルス症などの発症頻度が高い(非特許文献1,2)。欧米先進国やわが国において重度の免疫不全の患者は、今後益々増加することが予想され、深在性真菌症の対策を講じることが重要である。
深在性真菌症の治療には、抗真菌化学療法が適用されている。アムホテリシンBはカンジダ属菌、アスペルギルス属菌に対して強い殺真菌効果を示すが、腎毒性の軽減のため現在では主にリポソーム製剤が使用されており、薬効の減少により有効な治療が実現できていない問題がある(非特許文献3)。カスポファンギンおよびミカファンギンは、カンジダ属菌に対して殺真菌活性を示して比較的安全性が高いことから、カンジダ症に対して多用されて良好な臨床効果を示している。しかしながら、これらの薬剤に対する低感受性菌種や耐性菌の増加が懸念されている(非特許文献4)。イトラコナゾールおよびボリコナゾールは,アスペルギルス属菌に対して殺真菌活性を示してアムホテリシンBより安全性が高いことから、アスペルギルス症に対して多用されて致死率の改善に大きく貢献している。しかしながら,薬物相互作用や肝毒性などの副作用により十分量の投与ができていない問題や(非特許文献5)、長期投与によるアゾール耐性菌の増加の問題がある(非特許文献6,7,8)。
 そのため,これらの抗真菌剤以上の抗真菌活性を持ちながら、安全性および薬物相互作用が改善され、その結果として臨床治癒率や再発率が向上し、さらには既存薬の耐性菌に対しても効果を有する新系統の抗真菌剤が強く望まれている。
[0003]
 特許文献1~4には環状または非環状のグアニジル基を有するチアゾール誘導体が開示されているが、抗真菌作用に関する記載や示唆はない。また、特許文献5~9および非特許文献9、10には抗真菌作用を有する環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体が開示されているが、本発明の化合物またはその塩、およびそれらを含有する抗真菌剤は記載されていない。

先行技術文献

特許文献

[0004]
特許文献1 : 特開平03-141270号公報
特許文献2 : 国際公開第96/05187号
特許文献3 : 特開平02-72177号公報
特許文献4 : 特開平05-78353号公報
特許文献5 : 特開昭58-216186号公報
特許文献6 : 特開平02-270870号公報
特許文献7 : 独国特許出願公開第3836160号明細書
特許文献8 : 特開平02-164879号公報
特許文献9 : 独国特許出願公開第3836161号明細書

非特許文献

[0005]
非特許文献1 : Drugs (2007), 67(11), 1567-1601
非特許文献2 : Clinical Infectious Diseases (2003), 37(5), 634-643
非特許文献3 : Clinical Infectious Diseases (2007), 44(10), 1289-1297
非特許文献4 : Journal of Clinical Microbiology (2013), 51(8), 2571-2581
非特許文献5 : Clinical Infectious Diseases (2012), 55(8), 1080-1087
非特許文献6 : Journal of Antimicrobial Chemotherapy (2010), 65, 2116-2118
非特許文献7 : Antimicrobial Agents and Chemotherapy (2012), 56(9):4870-4875
非特許文献8 : Antimicrobial Agents and Chemotherapy (2013), 57(8), 3513-3517
非特許文献9 : Indian Journal of Chemistry, Section B: Organic Chemistry Including Medicinal Chemistry (1989), 28B(9), 786-789
非特許文献10 : Chemotherapy (2008), 54(4), 245-259

発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0006]
 本発明の課題は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌をはじめとする病原性真菌や種々の耐性菌に対して優れた抗真菌活性を示し、医薬品として有用な新規化合物を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0007]
 本発明は、少なくとも環状グアニジル基有するチアゾール誘導体を合成することにより、上記課題を解決し、以下の発明を提供する。
[0008]
(項目1)式(I):
[化1]



(式中、Zは-CR-であり、
はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、
隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成するか、
はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであるか、
同一炭素原子に結合するRおよびRが、該炭素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、
または、
同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソ、置換もしくは非置換のアルキルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ、または置換もしくは非置換のメチリデンを形成し、
Gは置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式(I-G1):
[化2]



(式中、
およびRについては、
a)RおよびRが隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、
b)RおよびRが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成し、
X’はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。)
で示される基であり、
nは2~5の整数である。
ただし、
Gの炭素環式基がフェニルの場合、
i)該フェニル基は少なくとも1つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく、および/または
ii)該フェニル基の少なくとも1つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、かつ、
以下の化合物(A-1)~(A-34)を除く。
[化3]




[化4]



[化5]



)で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
[0009]
(項目2)Gが式(I-G1):
[化6]



(式中、各記号は前記と同意義である。)で示される基
または式(I-G2):
[化7]



(式中、
Yは炭素環または複素環であり、mは0~5であり、
Xはそれぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。)で示される基である、項目1記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[0010]
(項目3)Gが式(I-G2)で示される基である、項目1記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
(項目4)Yが複素環である、項目3記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
(項目5)nが2または3である、項目1~4のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
(項目6)nが3である、項目5記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
(項目7)式:
[化8]



が、式:
[化9]



(式中、各定義は前記と同意義である。)
である、項目5記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[0011]
(項目8)Rがそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、Rがそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、同一炭素原子に結合するRおよびRが隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである、項目1~7のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[0012]
(項目9)Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシである、項目2~8のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[0013]
(項目10)Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、mが1または2である、項目2~8のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[0014]
(項目11)Yが芳香族炭素環であり、mが2であり、Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキル、置換もしくは非置換の複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである、項目2、3、および5~10のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
(項目12)
化合物I-0004、I-0034、I-0084、I-0159、I-0183、I-0251、I-0332、I-0355、I-0376、I-0382、I-0474、I-0478、I-0609、I-0616、I-0650、I-0829、I-0830、I-0842、I-0845、I-0856、I-0874、I-0894、I-0911、I-0932、I-0937、I-0958、およびI-1052から選択される、項目1記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
[0015]
(項目13)
項目1~12のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
(項目14)
抗真菌作用を有する、項目13記載の医薬組成物。
(項目15)
項目1~12のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、真菌感染に関連する疾患の治療またはその予防方法。
(項目16)
真菌感染に関連する疾患を治療または予防するための、項目1~12のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
[0016]
(項目101)項目1~10のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、経口投与のための医薬組成物。
(項目102)錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤またはチンキ剤である、(項目101)記載の医薬組成物。
(項目103)糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、ドライシロップ、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤である、(項目102)記載の医薬組成物。
(項目104)項目1~10のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、非経口投与のための医薬組成物。
(項目105)経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳または膣内投与のための、(項目104)記載の医薬組成物。
(項目106)注射剤、点滴剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤または坐剤である、(項目104)または(項目105)記載の医薬組成物。
(項目107)項目1~10のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、小児用または高齢者用の医薬組成物。
(項目108)項目1~10のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩と、ポリエン系化合物、ファンギン系化合物およびアゾール系化合物から選択される1つ以上の化合物との組み合わせからなる医薬組成物。
(項目109)項目1~10のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、ポリエン系化合物、1,3-βグルカンシンテース阻害剤またはエルゴステロール生合成阻害剤との併用療法のための医薬組成物。

発明の効果

[0017]
 式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌または白癬属菌等に対して優れた抗真菌活性を有し、抗真菌剤として有用である。また、別の態様では、式(I)で示される化合物または製薬上許容される塩は、安全性、体内動態、溶解度、安定性等にも優れており医薬品として有用である。

発明を実施するための形態

[0018]
 以下、本発明の実施の形態を説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現(例えば、英語の場合は、「a」、「an」、「the」など、他の言語において対応する冠詞、形容詞など)は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用されるすべての専門用語および化学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書(定義を含めて)が優先する。以下に、本明細書において具体的に使用される用語について具体的な定義を記載する。
「からなる」という用語は、構成要件のみを有することを意味する。
「含む」という用語は、構成要件に限定されず、記載されていない要素を排除しないことを意味する。
[0019]
 本明細書における各用語は、特に断りのない限り、単独または他の用語を組み合わされて、以下の通り定義される。
[0020]
 「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。好ましくは、フッ素または塩素である。
[0021]
 「アルキル」とは、炭素数1~15、好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~6、さらに好ましくは炭素数1~4の直鎖又は分枝状の炭素水素来を包含する。例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、n-ヘプチル、イソヘプチル、n-オクチル、イソオクチル、n-ノニル、n-デニル等が挙げられる。
[0022]
 「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、tert-ブチルが挙げられる。
[0023]
「アルケニル」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する、炭素数2~15、好ましくは炭素数2~10、より好ましくは炭素数2~6、さらに好ましくは炭素数2~4の直鎖または分枝状の炭化水素来を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
[0024]
「アルキニル」とは、任意の位置に1以上の三重結合を有する、炭素数2~10、好ましくは炭素数2~8、さらに好ましくは炭素数2~6、さらに好ましくは炭素数2~4の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。さらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
[0025]
 「アルキレン」とは、炭素数1~15、好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~6、さらに好ましくは炭素数1~4の直鎖又は分枝状の2価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げられる。
[0026]
 「アルケニレン」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する、炭素数2~15、好ましくは炭素数2~10、より好ましくは炭素数2~6、さらに好ましくは炭素数2~4の直鎖又は分枝状の2価の炭化水素基を包含する。例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン等が挙げられる。
[0027]
 「アルキニレン」とは、任意の位置に1以上の三重結合を有する、炭素数2~15、好ましくは炭素数2~10、より好ましくは炭素数2~6、さらに好ましくは炭素数2~4の直鎖又は分枝状の2価の炭化水素基を包含する。さらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、ヘキシニレン等が挙げられる。
[0028]
「芳香族炭素環式基」とは、単環または2環以上の環状芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。
[0029]
「非芳香族炭素環式基」とは、単環または2環以上の、環状飽和炭化水素基または環状非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。2環以上の「非芳香族炭素環式基」は、単環または2環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
[化10]



単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数3~16が好ましく、より好ましくは、炭素数3~12、さらに好ましくは炭素数3~8である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
2環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。
[0030]
「非芳香族炭素環」とは、上記「非芳香族炭素環式基」から導かれる環を意味する。
[0031]
「シクロアルキル」とは、環状飽和炭化水素基を意味し、炭素数3~16が好ましく、より好ましくは、炭素数3~12、さらにこの好ましくは炭素数3~8である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
「シクロアルキル」の好ましい態様としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。
[0032]
「シクロアルカン」とは、上記「シクロアルキル」から導かれる環を意味する。
[0033]
「炭素環式基」とは、上記「芳香族炭素環式基」および「非芳香族炭素環式基」を包含する。
「炭素環」とは、上記「炭素環式基」から導かれる環を意味する。
[0034]
「芳香族複素環式基」とは、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する、単環または2環以上の、芳香族環式基を意味する。2環以上の芳香族複素環式基は、単環または2環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、5~8員が好ましく、より好ましくは5員または6員である。例えば、5員の単環の芳香族複素環式基としては、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられ、6員の単環の芳香族複素環式基としては、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル等が挙げられる。
2環の芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
3環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
[0035]
「芳香族複素環」とは、上記「芳香族複素環式基」から導かれる環を意味する。
[0036]
「非芳香族複素環式基」とは、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する、単環または2環以上の、環状非芳香族環式基を意味する。2環以上の非芳香族複素環式基は、単環または2環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および/または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
[化11]



単環の非芳香族複素環式基としては、3~8員が好ましく、より好ましくは5員または6員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル、アゼパン-1-イル等が挙げられる。
2環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル、オクタヒドロ-7H-ピラノ[2,3-c]ピリジン-7-イル、ヘキサヒドロ-2H-ピラノ[3,2-c]ピリジン-6(5H)-イル、7,8-ジヒドロピリド[4,3-d]ピリミジン-6(5H)-イル等が挙げられる。
[0037]
「非芳香族複素環」とは、上記「非芳香族複素環式基」から導かれる環を意味する。
[0038]
「複素環式基」とは、上記「芳香族複素環式基」および「非芳香族複素環式基」を包含する。
[0039]
「複素環」とは、上記「複素環式基」から導かれる環を意味する。
[0040]
「アシル」とは、ホルミルおよび置換基を有するカルボニルを意味する。
「置換基を有するカルボニル」とは、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル等が挙げられる。
[0041]
「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、tert-ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、sec-ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
[0042]
 「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n-プロピルカルボニルが挙げられる。
[0043]
 「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニル、プロペニルカルボニル等が挙げられる。
[0044]
 「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。
[0045]
「ヒドロキシアルキル」とは、1以上のヒドロキシ基が、上記「アルキル」の炭素原子に結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチル、1-ヒドロキシエチル、2-ヒドロキシエチル、1-ヒドロキシプロピル、2-ヒドロキシプロピル、1,2-ヒドロキシエチル等が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル」の好ましい態様として、ヒドロキシメチルが挙げられる。
[0046]
「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、n-プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n-ブチルオキシ、tert-ブチルオキシ、イソブチルオキシ、sec-ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、n-プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
[0047]
「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、1-プロペニルオキシ、2-ブテニルオキシ、2-ペンテニルオキシ、2-ヘキセニルオキシ、2-ヘプテニルオキシ、2-オクテニルオキシ等が挙げられる。
[0048]
「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、1-プロピニルオキシ、2-プロピニルオキシ、2-ブチニルオキシ、2-ペンチニルオキシ、2-ヘキシニルオキシ、2-ヘプチニルオキシ、2-オクチニルオキシ等が挙げられる。
[0049]
「ハロアルキル」とは、1以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、2,2,2-トリフルオロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、1,2-ジブロモエチル、1,1,1-トリフルオロプロパン-2-イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。
[0050]
「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ等が挙げられる。
[0051]
「アシルオキシ」とは、ホルミルオキシおよび置換基を有するカルボニルオキシを意味する。「置換基を有するカルボニルオキシ」とは、上記「置換基を有するカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ等が挙げられる。
[0052]
「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、tert-ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、sec-ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。
[0053]
「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
[0054]
「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
[0055]
「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル等が挙げられる。
[0056]
「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキルオキシ」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ等が挙げられる。
[0057]
 「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、tert-ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec-ブチルスルホニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニル等が挙げられる。
[0058]
 「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニル、プロペニルスルホニル等が挙げられる。
[0059]
 「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。
[0060]
 「モノアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、tert-ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、sec-ブチルカルボニルアミノ等が挙げられる。
[0061]
 「モノアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノが挙げられる。
[0062]
 「ジアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、N,N-ジイソプロピルカルボニルアミノ等が挙げられる。
[0063]
 「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノが挙げられる。
[0064]
 「モノアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、tert-ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec-ブチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
[0065]
 「モノアルキルスルホニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノが挙げられる。
[0066]
 「ジアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキルスルホニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノ、N,N-ジイソプロピルスルホニルアミノ等が挙げられる。
[0067]
 「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノが挙げられる。
[0068]
 「アルキルイミノ」とは、上記「アルキル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、n-プロピルイミノ、イソプロピルイミノ等が挙げられる。
[0069]
 「アルケニルイミノ」とは、上記「アルケニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルイミノ、プロペニルイミノ等が挙げられる。
[0070]
 「アルキニルイミノ」とは、上記「アルキニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルイミノ、プロピニルイミノ等が挙げられる。
[0071]
 「アルキルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えばメチルカルボニルイミノ、エチルカルボニルイミノ、n-プロピルカルボニルイミノ、イソプロピルカルボニルイミノ等が挙げられる。
[0072]
 「アルケニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子を置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルイミノ、プロペニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
[0073]
「アルキニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルイミノ、プロピニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
[0074]
「アルキルオキシイミノ」とは、上記「アルキルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシイミノ、エチルオキシイミノ、n-プロピルオキシイミノ、イソプロピルオキシイミノ等が挙げられる。
[0075]
「アルケニルオキシイミノ」とは、上記「アルケニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルオキシイミノ、プロペニルオキシイミノ等が挙げられる。
[0076]
「アルキニルオキシイミノ」とは、上記「アルキニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルオキシイミノ、プロピニルオキシイミノ等が挙げられる。
[0077]
「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、tert-ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、sec-ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。
[0078]
「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0079]
「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0080]
「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、n-プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル等が挙げられる。「アルキルスルファニル」の好ましい態様として、メチルスルファニル、エチルスルファニル、n-プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ヘキシルスルファニル等が挙げられる。
[0081]
「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルスルファニル、プロペニルスルファニル等が挙げられる。
[0082]
「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファニル、プロピニルスルファニル等が挙げられる。
[0083]
「ハロアルキルスルファニル」とは、上記「ハロアルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、モノフルオロメチルスルファニル、モノフルオロエチルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、トリクロロメチルスルファニル、トリフルオロエチルスルファニル、トリクロロエチルスルファニル等が挙げられる。
「ハロアルキルスルファニル」の好ましい態様として、トリフルオロメチルスルファニル、トリクロロメチルスルファニル等が挙げられる。
[0084]
「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル気に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。
[0085]
「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。
[0086]
「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。
[0087]
「モノアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子の1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル等が挙げられる。
[0088]
「ジアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子の2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていても良い。例えば、ジメチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
[0089]
「モノアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファモイル、エチルスルファモイル等が挙げられる。
[0090]
「ジアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。
[0091]
「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」3個がケイ素原子に結合している基を意味する。3個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、tert-ブチルジメチルシリル等が挙げれれる。
[0092]
「ペンタハロゲノチオ」とは、上記「ハロゲン」5個が硫黄原子の結合している基を意味する。5個のハロゲンは同一でも異なっていても良い。該ハロゲンはフッ素または塩素が好ましい。例えば、ペンタフルオロチオ(-SF)、モノクロロテトラフルオロチオ(-SClF)等が挙げられる。
[0093]
「炭素環アルキル」、「芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「複素環アルキル」、「芳香族複素環アルキル」、「非芳香族複素環アルキル」、「炭素環アルキルオキシ」、「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「複素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、「非芳香族複素環アルキルオキシ」、「炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「複素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「複素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「炭素環アルキルアミノ」、「芳香族炭素環アルキルアミノ」、「非芳香族炭素環アルキルアミノ」、「複素環アルキルアミノ」、「芳香族複素環アルキルアミノ」、および「非芳香族複素環アルキルアミノ」のアルキル部分も、上記「アルキル」と同様である。
[0094]
「芳香族炭素環アルキル」とは、1以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基:
[化12]



等が挙げられる。
「芳香族炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル等が挙げられる。
[0095]
「非芳香族炭素環アルキル」とは、1以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、以下に示される基:
[化13]



等が挙げられる。
[0096]
「炭素環アルキル」とは、「芳香族炭素環アルキル」および「非芳香族炭素環アルキル」を包含する。「炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、以下に示される基:
[化14]



等が挙げられる。
[0097]
「芳香族複素環アルキル」とは、1以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および/または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基
[化15]



等が挙げられる。
[0098]
「非芳香族複素環アルキル」とは、1以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および/または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基
[化16]



等が挙げられる。
[0099]
「複素環アルキル」とは、「芳香族複素環アルキル」および「非芳香族複素環アルキル」を包含する。「複素環アルキル」の好ましい態様としては、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基:
[化17]



等が挙げられる。
[0100]
「芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、1以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基:
[化18]



等が挙げられる。
[0101]
 「非芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、1以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロヘキシルメチルオキシ、以下に示される基:
[化19]



等が挙げられる。
[0102]
 「芳香族複素環アルキルオキシ」とは、1以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および/または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、不らニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基:
[化20]



等が挙げられる。
[0103]
 「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、1以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および/または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基:
[化21]



等が挙げられる。
[0104]
 「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、1以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基:
[化22]



等が挙げられる。
[0105]
 「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、1以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロヘキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基:
[化23]



等が挙げられる。
[0106]
 「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、1以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および/または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
[化24]



等が挙げられる。
[0107]
 「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、1以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および/または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
[化25]



等が挙げられる。
[0108]
 「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、1以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピルオキシメチル、ベンズヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基
[化26]



等が挙げられる。
[0109]
 「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、1以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族炭素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基
[化27]



等が挙げられる。
[0110]
 「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、1以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および/または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基
[化28]



等が挙げられる。
[0111]
 「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、1以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および/または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基
[化29]



等が挙げられる。
[0112]
「芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個または2個と置き換わった基を意味する。例えば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、フェニルプロピルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。
[0113]
「非芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個または2個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルメチルアミノ、シクロブチルメチルアミノ、シクロペンチルメチルアミノ、シクロヘキシルメチルアミノ等が挙げられる。
[0114]
「芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個または2個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルメチルアミノ、フラニルメチルアミノ、イミダゾリルメチルアミノ、イソオキサゾリルメチルアミノ、チアゾリルメチルアミノ、イソチアゾリルメチルアミノ、ピラゾリルメチルアミノ、イソピラゾリルメチルアミノ、ピロリジニルメチルアミノ、ベンズオキサゾリルメチルアミノ等が挙げられる。
[0115]
「非芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個または2個と置き換わった基を意味する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、ピペラジニルメチルアミノ等が挙げられる。
[0116]
「芳香族炭素環オキシ」「芳香族炭素環カルボニル」、「芳香族炭素環オキシカルボニル」、「芳香族炭素環スルファニル」、「芳香族炭素環スルフィニル」および「芳香族炭素環スルホニル」の「芳香族炭素環」部分も、上記「芳香族炭素環式基」と同様である。
[0117]
 「芳香族炭素環オキシ」とは、上記「芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
[0118]
 「芳香族炭素環カルボニル」とは、上記「芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ベンゾイル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。
[0119]
「芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、「芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0120]
「芳香族炭素環スルファニル」とは、「芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。
[0121]
「芳香族炭素環スルフィニル」とは、「芳香族炭素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルフィニル、ナフチルスルフィニル等が挙げられる。
[0122]
「芳香族炭素環スルホニル」とは、「芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。
[0123]
「非芳香族炭素環オキシ」、「非芳香族炭素環カルボニル」、「非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「非芳香族炭素環スルファニル」、「非芳香族炭素環スルフィニル」、および「非芳香族炭素環スルホニル」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。
[0124]
「非芳香族炭素環オキシ」とは、上記「非芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ、シクロプロペニルオキシ、シクロブテニルオキシ、シクロペンテニルオキシ、シクロヘキセニルオキシ、シクロヘプテニルオキシ、シクロヘキサジエニルオキシ、インダニルオキシ、テトラヒドロナフチルオキシ、フルオレニルオキシ、アダマンチルオキシ等が挙げられる。
[0125]
 「非芳香族炭素環カルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロプロペニルカルボニル、インダニルカルボニル等が挙げられる。
[0126]
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキセニルカルボニル等が挙げられる。
[0127]
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0128]
「非芳香族炭素環スルファニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロブチルスルファニル、シクロペンチルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘプチルスルファニル、シクロオクチルスルファニル、シクロプロペニルスルファニル、シクロブテニルスルファニル、シクロペンテニルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル、シクロヘプテニルスルファニル、シクロヘキサジエニルスルファニル、インダニルスルファニル、テトラヒドロナフチルスルファニル、フルオレニルスルファニル、アダマンチルスルファニル等が挙げられる。
[0129]
「非芳香族炭素環スルフィニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルフィニル、シクロブチルスルフィニル、シクロペンチルスルフィニル、シクロヘキシルスルフィニル、シクロヘプチルスルフィニル、シクロヘキセニルスルフィニル、テトラヒドロナフチルスルフィニル、アダマンチルスルフィニル等が挙げられる。
[0130]
「非芳香族炭素環スルホニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。
[0131]
「芳香族複素環オキシ」、「芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「芳香族複素環スルファニル」、「芳香族複素環スルフィニル」、および「芳香族複素環スルホニル」の「芳香族複素環」部分も、上記「芳香族複素環式基」と同様である。
[0132]
 「芳香族複素環オキシ」とは、上記「芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。
[0133]
 「芳香族複素環カルボニル」とは、上記「芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、インドリルカルボニル等が挙げられる。
[0134]
「芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0135]
「芳香族複素環スルファニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルスルファニル、オキサゾリルスルファニル等が挙げられる。
[0136]
「芳香族複素環スルフィニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルフィニル、オキサゾリルスルフィニル等が挙げられる。
[0137]
「芳香族複素環スルホニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルホニル、オキサゾリルスルホニル等が挙げられる。
[0138]
「非芳香族複素環オキシ」、「非芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環スルファニル」、「非芳香族複素環スルフィニル」、および「非芳香族複素環スルホニル」の「非芳香族複素環」部分も、上記「非芳香族複素環式基」と同様である。
[0139]
 「非芳香族複素環オキシ」とは、上記「非芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ジオキサニルオキシ、チイラニルオキシ、オキシラニルオキシ、オキセタニルオキシ、オキサチオラニルオキシ、アゼチジニルオキシ、チアニルオキシ、チアゾリジニルオキシ、ピロリジニルオキシ、ピロリニルオキシ、イミダゾリジニルオキシ、イミダゾリニルオキシ、ピラゾリジニルオキシ、ピラゾリニルオキシ、ピペリジルオキシ、ピペラジニルオキシ、モルホリニルオキシ、インドリニルオキシ、クロマニルオキシ等が挙げられる。
[0140]
「非芳香族複素環カルボニル」とは、上記「非芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ジオキサニルカルボニル、オキセタニルカルボニル、ピラゾリニルカルボニル、モルホリノカルボニル、モルホリニルカルボニル、インドリニルカルボニル等が挙げられる。
[0141]
「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。
[0142]
「非芳香族複素環スルファニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ジオキサニルスルファニル、チイラニルスルファニル、オキシラニルスルファニル、オキセタニルスルファニル、オキサチオラニルスルファニル、アゼチジニルスルファニル、チアニルスルファニル、チアゾリジニルスルファニル、ピロリジニルスルファニル、ピロリニルスルファニル、イミダゾリジニルスルファニル、イミダゾリニルスルファニル、ピラゾリジニルスルファニル、ピラゾリニルスルファニル、ピペリジルスルファニル、ピペラジニルスルファニル、モルホリニルスルファニル、インドリニルスルファニル、クロマニルスルファニル等が挙げられる。
[0143]
「非芳香族複素環スルフィニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルフィニル、テトラヒドロフリルスルフィニル等が挙げられる。
[0144]
「非芳香族複素環スルホニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。
[0145]
 「炭素環オキシ」とは、上記「炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。すなわち、非芳香族炭素環オキシおよび芳香族炭素環オキシを包含する。
[0146]
 「複素環オキシ」とは、上記「複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。すなわち、非芳香族複素環オキシおよび芳香族複素環オキシを包含する。
[0147]
 「置換もしくは非置換のアルキル」、「置換もしくは非置換のアルケニル」、「置換もしくは非置換のアルキニル」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルキルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルキレン」、「置換もしくは非置換のアルケニレン」、および「置換もしくは非置換のアルキニレン」の置換基としては、次の置換基群Aが挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基群Aから選択される1以上の基と結合していてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Gが挙げられる。より好ましくは、置換基群Kが挙げられる。
[0148]
置換基群A:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0149]
  「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」における「炭素環」、「複素環」、「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、「芳香族複素環」、および「非芳香族複素環」の環上の置換基としては、次の置換基群Bが挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基群Bから選択される1以上の基と結合していてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Eが挙げられる。より好ましくは、置換基群Fが挙げられる。さらに好ましくは置換基群Fが挙げられる。別の好ましい態様としては、置換基群Iが挙げられる。
[0150]
置換基群B:オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたメチリデン、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Aから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたカルバモイル、非置換または置換基群Cから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0151]
 「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」および「置換もしくは非置換の複素環アルキル」の「炭素環」および「複素環」の環上の置換基としても、置換基群Bが挙げられる。環上の任意の位置の原子が置換基群Bから選択される1以上の基と結合していてもよい。該置換基が2つ以上存在する場合は同一でも異なっていても良い。好ましい置換基としては、置換基群Eが挙げられる。より好ましくは、置換基群Fが挙げられる。さらに好ましくは置換基群Fが挙げられる。別の好ましい態様としては、置換基群Iが挙げられる。
[0152]
 「置換もしくは非置換のアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」の「アルキル」上の置換基としても、置換基群Aが挙げられる。アルキル上の任意の位置に置換基群Aから選択される1以上の基と結合していてもよい。該置換基が2つ以上存在する場合は同一でも異なっていても良い。好ましい置換基としては、置換基群Gが挙げられる。より好ましくは、置換基群Kが挙げられる。
[0153]
 「置換もしくは非置換のアミノ」、「置換もしくは非置換のカルバモイル」、「置換もしくは非置換のスルファモイル」、「置換もしくは非置換のアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルファモイル」、および「置換もしくは非置換のジアルキルスルファモイル」における「アミノ」上の置換基としては、次の置換基群Cが挙げられる。該置換基が2つ存在する場合は同一でも異なっていてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Hが挙げられる。より好ましくは、置換基群Jが挙げられる。
[0154]
置換基群C:ヒドロキシ、アミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0155]
 「置換もしくは非置換のメチリデン」および「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基としては、置換基群Cが挙げられる。好ましくは、置換基群Hである。
[0156]
 「置換基を有するカルボニル」および「置換基を有するカルボニルオキシ」の置換基としては、次の置換基群Dが挙げられる。
置換基群D:置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル。
[0157]
置換基群E:オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、アルキニル、ハロアルキル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたハロアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキニル、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたカルバモイルアルキルオキシ、アルキルスルホニルアミノアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイルアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたアミノアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Hから選択される1または2つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Hから選択される1または2つの基で置換されたカルバモイル、非置換または置換基群Hから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0158]
置換基群F:オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、シアノアルキル、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ヒドロキシアルキルオキシ、カルボキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキシアルキニル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルアルキル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0159]
置換基群G:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、ペンタハロゲノチオ、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つのの基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0160]
置換基群H:ヒドロキシ、アミノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
[0161]
置換基群I:オキソ、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたカルバモイル、および非置換もしくは置換基群Jから選択される1または2つの基で置換されたスルファモイル。
[0162]
置換基群J:アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、カルバモイル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキルスルホニル、およびハロアルキルスルホニル。
[0163]
置換基群K:シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、スルファモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルスルホニル、およびアルキルスルホニルアミノ。
[0164]
また、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」は「オキソ」で置換されていてもよい。この場合、以下のように炭素原子上の2個の水素原子が置換もしくは非置換のされている基を意味する。
[化30]



 上記、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の非芳香族炭素環、および非芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。
[0165]
「置換もしくは非置換のメチリデン」および「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基としては、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基等が挙げられる。複数の置換基で置換される場合は、置換基は同一でも異なっていても良い。
[0166]
「脱離基」としては、たとえば、ハロゲン、C1-6アルキルスルホニルオキシまたはアリールスルホニルオキシが挙げられる。
[0167]
式(I)で示される化合物における、R,R,R,R、X,X’,Z,G,Y,m,およびnの好ましい態様を以下に示す。 下記の可能な組み合わせの化合物が好ましい。
[0168]
およびRは、好ましくは、
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、シアノ、ニトロ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニルであるか、
隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、
同一炭素原子に結合するRおよびRが隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の非芳香族炭素環を形成するか、
または同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンを形成する。
およびRは、より好ましくは、
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であるか、
隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、
同一炭素原子に結合するRおよびRが隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである。
およびRは、さらに好ましくは、
が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルスルファニル、または、シクロアルキルであり、かつ、Rが、水素原子、ハロゲン、またはアルキルであるか、
隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、アルキレンを形成し、かつRが水素原子であるか、
同一炭素原子に結合するRおよびRが、隣接する原子と一緒になって非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソまたはメチリデンである。
およびRが、それぞれ独立した基である場合、特に好ましい態様としては、(R,R)が、それぞれ独立して、(水素原子、水素原子)、(水素原子、メチル)、(メチル、水素原子)、(メチル、メチル)、(水素原子、ハロゲン)、(ハロゲン、水素原子)または(ハロゲン、ハロゲン)である。さらに好ましい態様としては、(R,R)が、それぞれ独立して、(水素原子、水素原子)、(水素原子、メチル)、(メチル、水素原子)、(メチル、メチル)、(水素原子、フッ素原子)、(フッ素原子、水素原子)または(フッ素原子)である。
[0169]
 Rおよび/またはRが置換基を有する場合、RまたはRの好ましい置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、シアノ、ニトロ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニルおよびアルキニルスルファニルから選択される1以上の基である。より好ましい置換基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、ジアルキルアミノおよびアルキルスルホニルから選択される1以上の基である。
[0170]
「隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成する」としては、例えば以下のような基:
[化31]



(式中、Rは置換もしくは非置換のアルキニレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンであり、その他の各定義は上記を同意義である。)
等を含有する。
[0171]
は、好ましくは置換もしくは非置換のアルキニレンであり、より好ましくは非置換もしくはハロゲンで置換されたアルキニレンである。該アルキニレンの炭素数は、好ましくは1~4、より好ましくは1~3である。
[0172]
「同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」および「RおよびRが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」とは、式:
[化32]



(RおよびRは、それぞれ独立して上記の「置換もしくは非置換のメチリデン」の置換基と同意義である。)
で示される基を意味する。
およびRは、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。さらに好ましくは、水素原子、非置換またはハロゲンで置換されたアルキル、または非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルキルである。特に好ましくは、水素原子である。
[0173]
nは、好ましくは2~4、より好ましくは2または3、特に好ましくは3である。
[0174]
 式:
[化33]



の好ましい態様としては、式:
[化34]



(式中、各定義は前記と同意義である。)
が挙げられる。
より好ましい態様としては、式:
[化35]



(式中、各定義は前記と同意義である。)
が挙げられる。
[0175]
Gは、好ましくは、置換されたフェニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式(I-G1):
[化36]



(式中、各定義は前記と同意義である。)
で示される基ある。
好ましくは、置換もしくは非置換の2環の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式(I-G1)で示される基である。
より好ましくは、置換もしくは非置換の複素環式基、または式(I-G1)で示される基である。
さらに好ましくは、置換もしくは非置換の単環の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の単環または2環の非芳香族複素環式基、または式(I-G1)で示される基である。
Gが置換基を有する場合、該置換基の好ましい態様は、置換基群Bから選択される1以上の基である。より好ましい態様としては、置換基群Eから選択される1以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。
別の好ましい置換基の態様としては、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、シアノアルキル、アルキル、アルケニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ヒドロキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルキニル、シアノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、モノアルキルスルホニルアミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルアルキル、アルキルスルファニル、アルキルスルフィニル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、および非置換または置換基群Bから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニルから選択される1以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。好ましい置換基の数としては、0~8であり、より好ましくは0~5、さらに好ましくは0~3である。
Gの非芳香族炭素環式基としては、シクロプロピル、インダニル(特に好ましくは、インダン-4-イル)等が挙げられる。
Gの複素環式基としては、チエニル(特に好ましくは、チオフェン-2-イルまたはチオフェン-3-イル)、フリル(特に好ましくは、フラン-3-イル)、チアゾール(特に好ましくは、チアゾール-4-イル)、ピロリル(特に好ましくは、ピロール-2-イル)、イミダゾリル(特に好ましくは、イミダゾール-2-イル)、ピリジル(特に好ましくは、ピリジン-2-イル、ピリジン-3-イル、ピリジン-4-イル)、ピリミジニル(特に好ましくは、ピリミジン-2-イル、ピリミジン-4-イル、ピリミジン-5-イル)、ピラジニル(特に好ましくは、ピラジン-2-イル)、ピペリジニル(特に好ましくは、ピペリジン-3-イル、ピペリジン-4-イル)、ピペラジニル(特に好ましくは、ピペラジン-1―イル)、チオモルホリニル(特に好ましくは、チオモルホリン-2-イル)、アゼパン-1-イル、オクタヒドロ-7H-ピラノ[2,3-c]ピリジン-7-イル、ヘキサヒドロ-2H-ピラノ[3,2-c]ピリジン-6(5H)-イル、7,8-ジヒドロピリド[4,3-d]ピリミジン-6(5H)-イル、インドリル(特に好ましくは、1-インドリル、インドール-2-イル、インドール-4-イル、インドール-3-イル)、ベンゾフリル(特に好ましくは、ベンゾフリル-3-イル、ベンゾフリル-7-イル、ベンゾフリル-4-イル)、ベンゾチエニル(特に好ましくは、ベンゾチオフェン-3-イル、ベンゾチオフェン-4-イル)、キノリル(特に好ましくは、キノリン-5-イル)、イソキノリル(特に好ましくは、イソキノリン)、ベンズチアゾリル(特に好ましくは、ベンズチアゾール-4-イル、ベンズチアゾール-5-イル)、テトラヒドロイソキノリル(特に好ましくは、1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン-5-イル)、ジベンゾフリル(特に好ましくは、ジベンゾ[b、d]フラン-4-イル)等が挙げられる。
[0176]
「Gの炭素環式基がフェニルの場合、i)該フェニル基は少なくとも1つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく」の該フェニルにさらに置換される置換基としては、置換基群Bから選択される基が挙げられる。好ましくは、置換基群Iから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、該置換基は同一でも異なっていても良い。該フェニルにさらに置換される置換基の数としては、0~4であり、好ましくは0~2、より好ましくは0または1である。「置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキル」の好ましい置換位置としては、オルト位またはメタ位であり、より好ましくはメタ位である。該フェニルにさらに置換される置換基の好ましい置換位置としては、オルト位またはメタ位であり、より好ましくは、オルト位である。好ましい態様としては、Gが下式:
[化37]



(式中、R11は置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルであり、R12は水素原子または置換基群Bから選択される基が挙げられる)
で示される基である。
11は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の芳香族複素環式基が好ましく、より好ましくは、置換もしくは非置換の単環または二環の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の単環または二環の芳香族複素環式基である。R11の置換基としては、置換基群Bから選択される1以上の基が挙げられる。好ましくは、置換基群Iから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。該置換基の数は、0~5であり、好ましくは0~3、より好ましくは0~2である。該置換基は、少なくとも1つのオルト位に置換されているのが好ましい。
12は、好ましくは水素原子または置換基群Iから選択される基であり、より好ましくはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。
[0177]
「Gの炭素環式基がフェニルの場合、ii)該フェニル基の少なくとも1つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、」の該フェニルにさらに置換される置換基としては、置換基群Bから選択される基が挙げられる。好ましくは、置換基群Iから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、該置換基は同一でも異なっていても良い。該置換基の置換位置としては、オルト位またはパラ位が好ましく、オルト位がより好ましい。該フェニルにさらに置換される置換基の数としては、0~4であり、好ましくは0~2、より好ましくは0または1である。好ましい態様としては、Gが下式:
[化38]



(式中、R13は置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、R14は水素原子または置換基群Bから選択される基である)
で示される基である。
13は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシが好ましく、より好ましくは、置換もしくは非置換の単環の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の単環の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の単環の芳香族炭素環アルキルオキシである。R13の置換基としては、置換基群Bから選択される1以上の基が挙げられる。好ましくは、置換基群Iから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。該置換基の数は、0~5であり、好ましくは0~3、より好ましくは0~2である。該置換基は、少なくとも1つのオルト位に置換されているのが好ましい。
13は、好ましくは水素原子または置換基群Iから選択される基であり、より好ましくはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。
[0178]
 RおよびRが「a)RおよびRが隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する」場合、好ましくは、置換もしくは非置換の単環の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の架橋構造もしくはスピロ構造を有する非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の単環の非芳香族複素環または置換もしくは非置換の架橋構造もしくはスピロ構造を有する非芳香族複素環である。該環は、好ましくは3~8員の環であり、より好ましくは3~5員の環である。
[0179]
 RおよびRが「一緒になって、置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成する」とは、式:
[化39]



(式中、Rは上記「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基と同意義である。ここで、窒素原子と酸素原子との間の波線は、シス結合、トランス結合またはその混合であることを意味する。)
で示される基である。
は好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。さらに好ましくは、非置換またはハロゲンで置換されたアルキル、または非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルキルである。
[0180]
 RおよびRが「一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」とは、式:
[化40]



(式中、RおよびR10は上記「置換もしくは非置換のメチリデン」の置換基と同意義である。)
で示される基である。
およびR10は好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである。さらに好ましくは、ともに水素原子である。
[0181]
 X’は、好ましくは、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環オキシ、置換もしくは非置換の複素環オキシ、置換もしくは非置換の炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の複素環アルキルオキシである。より好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである。さらに好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである。
X’の置換基としては、置換基群Fから選択される基が挙げられる。好ましくは、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Iから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、および置換基群Iから選択される基等が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、および非置換もしくは置換基群Kから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基等が挙げられる。
[0182]
Yは、好ましくは、ベンゼンまたは複素環である。より好ましくは、ベンゼン、単環の芳香族複素環もしくは非芳香族複素環、または2環もしくは3環の非芳香族複素環である。2環もしくは3環の非芳香族複素環は架橋構造および/またはスピロ構造を有していてもよい。特に好ましくは、5~6員の芳香族複素環または9~10員の非芳香族複素環である。
[0183]
 Xは、好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
より好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Xの別の好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Xのより好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
[0184]
 Xが環式基を有する場合、該環の好ましい態様としては、単環の置換もしくは非置換の芳香族炭素環、単環もしくは2環の置換もしくは非置換の芳香族複素環、または単環もしくは2環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環である。より好ましい態様としては、6員の置換もしくは非置換の芳香族炭素環、5~6員の単環もしくは9~10員の2環の置換もしくは非置換の芳香族複素環、または5~6員の単環もしくは9~10員の2環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環である。
Xの芳香族炭素環式基としては、ベンジル、ナフチル(特に好ましくは、ナフタレン-2-イル)等が挙げられる。
Xの非芳香族炭素環式基としては、下式:
[化41]


で示される基等が挙げられる。特に好ましくは、下式:
[化42]



で示される基等が挙げられる。
Xの芳香族複素環式基としては、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フリル、イミダゾリル、チエニル、チアゾリル、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、キナゾリル等が挙げられる。特に好ましくは、下式:
[化43]


で示される基が挙げられる。
[0185]
 Xの非芳香族複素環式基としては、下式:
[化44]


[化45]


で示される基等が挙げられる。特に好ましくは、下式:
[化46]



[化47]



で示される基等が挙げられる。
[0186]
 Xの別の好ましい態様としては、下式:
[化48]



(式中、環上にさらに1以上の置換基を有していても良い。該置換基としては、下記の置換基等が挙げられる)
で示される基等が挙げられる。
[0187]
Xが置換基を有する場合、該置換基は置換基群A、置換基群B、置換基群C、または置換基群D等が挙げられる。好ましくは、置換基群G、置換基群Eまたは置換基群H等が挙げられ、より好ましくは、置換基群K、置換基群F、または置換基群J等が挙げられる。該置換基の好ましい態様としては、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、非置換もしくは置換基群Cから選択される1以上の基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Cから選択される1以上の基で置換されたカルバモイル、シアノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ヒドロキシアルキニル、シアノアルキル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、ハロアルキルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニルアルキル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Cから選択される1以上の基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非芳香族炭素環オキシイミノ、アルキルオキシ芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニルから選択される1以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。
より好ましくは、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ヒドロキシアルキル、シアノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Hから選択される1以上の基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Hから選択される1以上の基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Gから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニルメチリデン、非置換もしくは置換基群Fから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Eから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、および非芳香族複素環スルホニルである。
[0188]
 mは、好ましくは、0~3であり、より好ましくは0~2である。
[0189]
式(I):



の好ましい態様は、式(I-A):
[化49]



(式中、Uは、単結合、-O-、-NR15-、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置で1以上の酸素原子および/または窒素原子を介在している置換もしくは非置換のアルキレンであり、R15は水素原子または置換もしくは非置換のアルキルであり、Wは置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり、X1Aは、それぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、kは0~5であり、その他の定義は上記と同意義である)
で示される化合物、または、式(I-B):
[化50]



(式中、各記号は前記と同意義である)
で示される化合物が挙げられる。各定義の好ましい態様は上記の通りである。
Uは、好ましくは、単結合、-O-、-NR15-、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、-O-(CR1617-、-O-(CR1617-O-、-(CR1617-O-、-(CR1617-O-(CR1617-、-NR15-(CR1617-、-(CR1617-NR15-、-NR15-(CR1617-O-、-O-(CR1617-NR15-、または-(CR1617-NR15-(CR1617-、である。ここで、R16およびR17は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルであるか、R16およびR17が一緒になってオキソを形成していてもよい。eは1~4である。
Wは、好ましくは、芳香族炭素環、非芳香族炭素環、芳香族複素環、または非芳香族複素環である。より好ましくは、ベンゼン、ナフタレン、単環または多環の非芳香族炭素環
、単環の芳香族複素環もしくは非芳香族複素環、または2環もしくは3環の非芳香族複素環である。多環の非芳香族炭素環および2環もしくは3環の非芳香族複素環は、架橋構造および/またはスピロ構造を有していてもよい。
1Aは、好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
より好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
1Aの別の好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
1Aのより好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
[0190]
抗真菌剤とは、病原性真菌に作用して、その生育を抑制または殺菌する能力を持つ物質を意味する。真菌の繁殖を抑えたり、一部の真菌を殺してその数を減少させたりするようなものでもよい。
[0191]
病原性真菌とは、例えば酵母様真菌、糸状真菌、接合菌などを挙げることができる。酵母様真菌として、例えば、カンジダ属(カンジダ・アルビカンス、カンジダ・グラブラータ、カンジダ・ギリエルモンディ、カンジダ・クルセイ、カンジダ・パラプシローシス、カンジダ・トロピカリスなど)、クリプトコッカス属(クリプトコッカス・ネオフォルマンスなど)、マラセチア属(マラセチア・フルフルなど)、トリコスポロン属(トリコスポロン・アサヒなど)が挙げられる。糸状真菌として、例えば、アスペルギルス属(アスペルギルス・フミガーツス、アスペルギルス・テレウス、アスペルギルス・ニゲール、アスペルギルス・フラバスなど)、白癬菌属(トリコフィトン・ルブルム、トリコフィトン・メンタグロファィテス、トリコフィトン・トンズランスなど)、フサリウム属(フサリウム・ソラニなど)、セドスポリウム属(セドスポリウム・アピオスペルマムなど)、小胞子菌(ミクロスポルム・カニスなど)が挙げられる。接合菌として、例えば、ムコール属(ムコール・プルムベウスなど)、リゾプス属(リゾプス・オリゼなど)、アブシディア属(アブシディア・コリンビフェラなど)が挙げられる。
本発明の抗真菌剤は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌およびクリプトコッカス属菌などの菌種に対して優れた抗真菌作用を示し、アスペルギルス属菌に対してより優れた抗真菌作用を示す。
また、別の態様では、本発明の抗真菌剤は、カンジダ・アルビカンス、アスペルギルス・フミガーツス、アスペルギルス・フラバスおよびクリプトコッカス・ネオフォルマンスなどの菌種に対して優れた抗真菌作用を示す。
また、別の態様では、本発明の抗真菌剤は、種々の耐性菌に対して優れた抗真菌作用を示す。
[0192]
式(I)で表される化合物またはその製薬上許容される塩は、優れた安全性を示す。安全性は、種々の試験によって評価されるが、たとえば、細胞毒性試験、hERG試験、反復投与毒性試験、シトクロムP450(CYP)活性阻害試験、代謝依存性阻害試験、インビボ(in vivo)マウス小核試験およびインビボ(in vivo)ラット肝UDS試験などから選ばれる各種安全性試験などで評価することができる。
[0193]
 式(I)の化合物の製薬上許容される塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシもしくはカルボキシ基などの酸性基における塩を挙げることができる。
[0194]
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸との塩;ギ酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩が挙げられる。
[0195]
酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N、N-ジメチルアニリン、N-メチルピペリジン、N-メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N-ベンジル-β-フェネチルアミン、1-エフェナミンおよびN、N'-ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。
好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。
[0196]
式(I)で示される化合物の製薬上許容される塩としては、例えば、式(I)で示される化合物と、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(例えば、カルシウム、バリウム等)、マグネシウム、遷移金属(例えば、亜鉛、鉄等)、アンモニア、有機塩基(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等)およびアミノ酸との塩、または無機酸(例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等)、および有機酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等)との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
[0197]
式(I)で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体(例えば、ケト-エノール異性体、イミン-エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等)、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。例えば、式(I)で示される化合物は、以下のような互変異体を包含する。
[化51]


[0198]
 式(I)で示される化合物の一つ以上の水素、炭素および/または他の原子は、それぞれ水素、炭素および/または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれH、H、11C、13C、14C、15N、18O、17O、31P、32P、35S、18F、123Iおよび36Clのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式(I)で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式(I)で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、該「放射性標識体」は、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および/または診断のツールとして有用である。
[0199]
 式(I)で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式(I)で示されるトリチウム標識化合物は、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式(I)で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばPd/Cの存在下、塩基の存在下または非存在下で、式(I)で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。トリチウム標識化合物を調製するための他の適切な方法は、“Isotopes in the Physical and Biomedical Sciences,Vol.1,Labeled Compounds (Part A),Chapter 6 (1987年)”を参照することができる。14C-標識化合物は、14C炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
[0200]
 本発明の式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物(例えば、水和物等)、共結晶、および/または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物、共結晶および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式(I)で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子(例えば、水分子等)と配位していてもよい。式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することで結晶多形を形成する場合がある。「共結晶」は、式(I)で示される化合物または塩とカウンター分子が同一結晶格子内に存在することを意味し、任意の数のカウンター分子を含んでいても良い。
[0201]
 本発明の式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて式(I)で示される化合物に変換される化合物、胃酸等により加水分解されて式(I)で示される化合物に変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えば “Design of Prodrugs, Elsevier, Amsterdam, 1985”に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。
[0202]
 式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えば、CHCOO-、CCOO-、tert-BuCOO-、C1531COO-、PhCOO-、(m-NaOOCPh)COO-、NaOOCCHCHCOO-、CHCH(NH)COO-、CHN(CHCOO-、CHSO-、CHCHSO-、CFSO-、CHFSO-、CFCHSO-、p-CHO-PhSO-、PhSO-、p-CHPhSO-が挙げられる。
[0203]
本発明の式(I)の化合物またはその製薬上許容される塩を医薬として用いる場合、通常、製剤化に使用される賦形剤、単体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよい。これらは、常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、紛体製剤、坐剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、貼付剤、軟膏剤または注射剤などの形態で、経口または非経口で投与することができる。また、投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができる。通常、成人に対しては、経口または非経口投与(たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など)により、1日、0.01~1000mg/kgを1回から数回に分割して投与すればよい。
[0204]
 本発明化合物は、各種真菌に対する高い抗真菌作用を有するため、抗真菌剤、特に深在性真菌症の治療剤及び/又は予防剤として有用である。さらに、本発明化合物は、血清添加条件下における各種真菌に対しても、優れた抗真菌活性を有するため、医薬品としての有用性を備えている。
[0205]
 本発明化合物は、抗真菌作用のみならず、以下のいずれか1つ以上の特徴を有している点で医薬品としての有用性を備えている。
a)CYP酵素(例えば、CYP1A2、CYP2C9、CYP2C19、CYP2D6、CYP3A4等)に対する阻害作用が弱い。
b)血中濃度が高い、経口吸収性が高い、効果持続時間が長い、適度なクリアランスを有する、適度なタンパク結合率を有する、適度な組織移行性を有する等の良好な薬物動態を示す。
c)代謝安定性(例えば、ラットおよび/またはヒトの代謝酵素に対する安定性)が高い。
d)CYP酵素(例えば、CYP3A4)に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さない。
e)変異原性を有さない。
f)心血管系のリスクが低い。
g)化合物の安定性および/または水に対する溶解性が高い。
h)薬物相互作用を示さない。
i)肝毒性、腎毒性等の毒性を示さない。
j)生体内への投与後に、発熱や痙攣などの副作用を示さない。
[0206]
 本発明の医薬組成物は、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。非経口投与の方法としては、経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳、膣内投与等が挙げられる。
[0207]
 経口投与の場合は常法に従って、内用固形製剤(例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤等)、内用液剤(例えば、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤、チンキ剤等)等の通常用いられるいずれの剤型に調製して投与すればよい。錠剤は、糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠または口腔内崩壊錠であってもよく、散剤および顆粒剤はドライシロップであってもよく、カプセル剤は、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤であってもよい。
[0208]
 非経口投与の場合は、注射剤、点滴剤、外用剤(例えば、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤、坐剤等)等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。注射剤は、O/W、W/O、O/W/O、W/O/W型等のエマルジョンであってもよい。
[0209]
 本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。さらに、該医薬組成物は、本発明化合物の有効量、剤型および/または各種医薬用添加剤を適宜変更することにより、小児用、高齢者用、重症患者用または手術用の医薬組成物とすることもできる。小児用医薬組成物は、12歳または15歳未満の患者に投与するのが好ましい。また、小児用医薬組成物は、出生後27日未満、出生後28日~23か月、2歳~11歳または12歳~16歳もしくは18歳の患者に投与されうる。高齢者用医薬組成物は、65歳以上の患者に投与するのが好ましい。
[0210]
 本発明の医薬組成物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、経口投与する場合、通常0.05~100mg/kg/日であり、好ましくは0.1~10mg/kg/日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常0.005~10mg/kg/日であり、好ましくは0.01~1mg/kg/日の範囲内である。これを1日1回~数回に分けて投与すれば良い。
[0211]
 本発明化合物は、該化合物の作用の増強または該化合物の投与量の低減等を目的として、ポリエン系の薬剤、ファンギン系の薬剤、またはアゾール系の薬剤等(以下、併用薬剤と称する)と組み合わせて用いることができる。この際、本発明化合物と併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。さらに、本発明化合物と併用薬剤とは、それぞれの活性成分を含む2種類の製剤として投与されてもよいし、両方の活性成分を含む単一の製剤として投与されてもよい。
[0212]
 併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる。また、本発明化合物と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状、組み合わせ等により適宜選択することができる。例えば、投与対象がヒトである場合、本発明化合物1重量部に対し、併用薬剤を0.01~100重量部用いればよい。
[0213]
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、自体公知の方法を組み合わせることにより製造されるが、たとえば、次に示す製造法にしたがって製造することができる。
[0214]
(製法A)
[化52]



(式中、P1はアミノ保護基であり、その他の記号は前記と同意義であり、P1はProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および/または脱保護できる基であればよく、例えばP1はアルキルオキシカルボニルやtert―ブチル等である。)
工程1:
式[2a]で示される化合物とグアニジン塩酸塩を反応させ、式[3a]で示される化合物を製造する工程である。
式[2a]で示される化合物としては,たとえば,1,3-プロパンジアミン,1,2-エタンジアミン等が挙げられる.
反応温度としては0~150℃で、反応時間としては0.5~48時間で反応させればよい。
[0215]
工程2:
式[3a]で示される化合物と式[4a]で示される化合物を反応させ、式[5a]で示される化合物を製造する方法である。
反応溶媒としては、上記工程を効率よく進行させるものであれば特に限定されない。例えば、アルコール系溶媒(例:メタノール、エタノール、イソプロパノール等)、アミド系溶媒(例:N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチルー2-イミダゾリジノン等)、酢酸エステル系溶媒(例:酢酸エチル、酢酸プロピル等)、炭化水素系溶媒(例:トルエン、ベンゼン、ヘキサン等)、エーテル系溶媒(例:シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、アニソール等)、ニトリル系溶媒(例:アセトニトリル、プロピオニトリル等)、ハロゲン系溶媒(例、ジクロロメタン、クロロホルム等)、ケトン系溶媒(例:アセトン、メチルエチルケトン等)、ジメチルスルホキシド、水等から選ばれる1以上を用いることができる。溶媒は、必要に応じて水との2層溶媒や含水溶媒として用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒,ケトン系溶媒である。
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間で反応させればよい。
[0216]
工程3:
式[5a]で示される化合物の脱保護を行い、式[6a]で示される化合物を製造する工程である。保護基の脱保護反応は公知であり、例えばProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で実施することができる。反応溶媒としては、工程2記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒,水である.
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間で反応させればよい。
[0217]
工程4:
式[6a]で示される化合物と式[7a]で示される化合物を反応させ、式[1]で示される化合物を製造する方法である。
反応溶媒としては、製造Aの工程2記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒である.
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間反応させればよい。
[0218]
(製法B)
[化53]


(式中、各記号は前記と同意義であり、「Hal」はハロゲン、「Alk」はアルキル基を意味する。Alkとしては、メチル基、エチル基等が挙げられる。)
工程1:
式[1b]で示される化合物と二硫化炭素とハロゲン化アルキルを塩基存在下で反応させ、式[2b]で示される化合物を製造する工程である。
ハロゲン化アルキルとしては、ヨウ化メチル,臭化メチル,ヨウ化エチルが挙げられる.
塩基としては、例えば金属水素化物(例、水素化ナトリウムなど)、金属水酸化物(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなど)、金属炭酸塩(例、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウムなど)、金属アルコキシド(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシドなど)、炭酸水素ナトリウム、金属ナトリウム、金属アミド、有機アミン(例、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DBU、2,6-ルチジンなど)、ピリジン、アルキルリチウム(n-BuLi、sec-BuLi、tert-BuLi)等が挙げられる。特に好ましくは、水素化ナトリウムである。
反応溶媒としては、製法Aの工程2記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒(テトラヒドロフラン)、アミド系溶媒である。
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間で反応させればよい。
[0219]
工程2:
式[2b]で示される化合物と式[2a]で示される化合物を反応させ、式[3b]で示される化合物を製造する工程である。
反応溶媒としては、製法Aの工程2記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒(テトラヒドロフラン)、アミド系溶媒である。
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間で反応させればよい。 
[0220]
工程3:
式[3b]で示される化合物と式[4b]で示される化合物をパラジウム触媒下で反応させ、式[1]で示される化合物を製造する工程である。なお、式:[4b]で示される化合物については、ボロン酸エステルを用いてもよい。
[0221]
 溶媒としては、製法Aの工程2記載の溶媒を用いることができる。好ましくは、N-ジメチルホルムアミド、芳香族炭化水素類(例、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)またはエーテル類(例、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、1,2-ジメトキシエタンなど)を用いればよい。
[0222]
 塩基としては、製法Bの第1工程記載の塩基を用いることができる。好ましくは、金属炭酸塩(例、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウムなど)または有機アミン(例、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DBU、2,6-ルチジンなど)を用いればよい。
[0223]
 反応は、パラジウム触媒(例:Pd(PPh、PdCl、Pd(OAc)、Pd(dba)等)とホスフィン配位子(例:PPh、BINAP等)の存在下、使用する溶媒が還流する温度で0.5~12時間反応させればよい。
[0224]
 マイクロウェーブを用いて反応を行う際は、80~200℃で5分~1時間反応させればよい。
[0225]
 式:R-B(OH)で示される化合物としては、たとえば、フェニルボロン酸などが挙げられる。
[0226]
(製法C)
[化54]



(式中、各記号は前記と同意義である。)
工程1:
 式[7a]示される化合物とチオウレアを反応させ、式[1c]で示される化合物を製造する工程である。
反応溶媒としては、製造Aの工程2記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒である.
反応温度としては0~120℃で、反応時間としては0.5~24時間で反応させればよい。
[0227]
工程2:
式[1c]示される化合物から式[2c]で示される化合物を製造する工程である。
[0228]
 上記製造Bの第1工程と同様に行えばよい。
[0229]
工程3:
式[2c]示される化合物と式[2a]で示される化合物を反応させ,式[1]で示される化合物製造する工程である。
[0230]
 上記製造Bの第2工程と同様に行えばよい。
実施例
[0231]
 以下に実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。数値(例えば、量、温度など)に関して正確性を保証する努力をしているが、いくらかの誤差および偏差は考慮されるべきである。特に示さなければ、%は成分の重量%および組成物の全重量の重量%であり、当量は成分のモル当量を意味する。圧力は大気圧かまたはそれに近い圧力である。本明細書で使用する他の略語は以下のように定義される。:gはグラム、Lはリットル、mgはミリグラム、mLはミリリットルを表す。
[0232]
 また、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ac:アセチル
Bn:ベンジル
Boc:tert-ブチルオキシカルボニル
BocO:ジ-tert-ブチルジカーボネート
Bu:ブチル
Bz:ベンゾイル
CDI:カルボニルジイミダゾール
DIEA:N,N-ジイソプロピルエチルアミン
DMA:N,N-ジメチルアセトアミド
DMAP:4-ジメチルアミノピリジン
DMF:N,N-ジメチルホルムアミド
DMSO:ジメチルスルホキシド
DPPF:1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン
Et:エチル
Fmoc:9-フルオレニルメチルオキシカルボニル
HATU:O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-1,1,3,3-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
Hex:ヘキシル
i-Pr:イソプロピル
LDA:リチウムジイソプロピルアミド
Me:メチル
Ms:メタンスルホニル
NBS:N-ブロモスクシンイミド
NMP:N-メチルピロリドン
n-Bu:n-ブチル
n-Pr:n-プロピル
Pd(OAc):酢酸パラジウム
Pd(PPh:テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
PdCl(dppf):[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物
PdCl2(dtbpf):[1,1’-ビス(ジ‐tert-ブチルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド 
Ph:フェニル
t-Bu:tert-ブチル
Xantphos:4,5’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-9,9’-ジメチルキサンテン
ローソン試薬:2,4-ビス(4-メトキシフェニル)-1,3,2,4-ジチアジホスフェタン-2,4-ジスルフィド
[0233]
実施例で得られたNMR分析は300MHzもしくは400MHzで行い、DMSO-D6、CDCl等を用いて測定した。
[0234]
実施例で得られたLCMS分析は、以下の条件下で測定した。
(測定条件A):
カラム:ACQUITY UPLC(登録商標)BEH C18 (1.7μm i.d.2.1x50mm)(Waters)
流速:0.8 mL/分
PDA検出波長:254nm
移動相:[A]は0.1%ギ酸含有水溶液、[B]は0.1%ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント:3.5分間で5%-100%溶媒[B]のリニアグラジエントを行った後、0.5分間、100%溶媒[B]を維持した。
(測定条件B):
カラム:ACQUITY UPLC(登録商標)BEH C18 (1.7μm i.d.2.1x50mm)(Waters)
流速:0.8 mL/分
PDA検出波長:254nm
移動相:[A]は10mM炭酸アンモニウム含有水溶液、[B]はアセトニトリル溶液
グラジェント:3.5分間で5%-100%溶媒[B]のリニアグラジエントを行った後、0.5分間、100%溶媒[B]を維持した。
(測定条件C):
カラム:Luna C18(2)(5μm、i.d.4.6x50mm)(Phenomenex)
流速:3.0 mL/分
PDA検出波長:254nm
移動相:[A]は0.1%ギ酸含有水溶液、[B]は0.1%ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント:3分間で10%-100%溶媒[B]のリニアグラジエントを行った後、1分間、100%溶媒[B]を維持した。
(測定条件D):
カラム:Shim-pack XR-ODS(2.2μm、i.d.50x3.0mm)(Shimadzu)
流速:1.5 mL/分
PDA検出波長:254nm
移動相:[A]は0.1%ギ酸含有水溶液、[B]は0.1%ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント:3分間で10%-100%溶媒[B]のリニアグラジエントを行い、0.5分間、100%溶媒[B]を維持した。
(測定条件E):
カラム:Shim-pack XR-ODS(2.2μm、i.d.50x3.0mm)(Shimadzu)
流速:1.6 mL/分
PDA検出波長:254nm
移動相:[A]は0.1%ギ酸含有水溶液、[B]は0.1%ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント:3分間で10%-100%溶媒[B]のリニアグラジエントを行い、0.5分間、100%溶媒[B]を維持した。
実施例 1
[0235]
化合物I-1の合成 
[化55]



工程1: 
 化合物1a(2g、9.84mmol)のトルエン(20mL)溶液に、ピリジニウムブロミドペルブロミド(3.15g、9.84mmol)を加えた。100℃で3時間撹拌した後に、室温まで放冷し、エタノール(30mL)、化合物1b(1.56g、9.84mmol)を加えた。60℃で2時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣にクロロホルムと酢酸エチルを加え、析出している固体をろ取することで、化合物I-1(2.17mg、収率65%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.87 (m, 2H), 3.37 (m, 4H), 7.24 (s, 1H), 7.49-7.57 (m, 3H), 7.98-8.03 (m, 2H), 8.15 (s, 1H), 8.41 (brs, 2H).
実施例 2
[0236]
化合物I-2の合成 
[化56]



工程1: 化合物2bの合成
化合物2a(10.0g、55.9mmol)をDMF(200mL)に溶解させ、二硫化炭素(8.44 mL、140mmol)、を加えて0℃に冷却、60%水素化ナトリウム(5.58g、140mmol)を加え、0℃で45分間撹拌した。ヨードメタン(8.73mL、140mmol)を加えて室温で18時間撹拌した。残渣を水に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、化合物2b(16.0g、100%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.62 (s, 6H), 6.98 (s, 1H).
[0237]
工程2: 化合物2cの合成
化合物2b(15.9g、56.1mmol)をテトラヒドロフラン(200mL)に溶解し、1、3-ジアミノプロパン(4.01mL、47.7mmol)を加え、70℃で2時間撹拌した。その後溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物2c(5.48g、37%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.92-2.00 (m, 2H), 3.41-3.53 (m, 4H), 6.35 (s, 1H), 7.70 (bs, 1H).
[0238]
工程3: 化合物I-2の合成
化合物2c(30mg、0.115mmol)をテトラヒドロフラン(0.3mL)に溶解し、5-クロロチオフェン-2-ボロン酸(9.4mg、0.172 mmol)、Pd(dppf)(9.4 mg、0.011 mmol)、2mol/L炭酸ナトリウム水溶液(0.23mL)を加え、150℃で15分間マイクロ波を照射した。残渣にクロロホルム-メタノールの混合溶液(9:1、2ml)、2mol/Lソルビトール水溶液(0.5ml)、2mol/L炭酸ナトリウム水溶液(0.5ml)を順に加え、1時間撹拌後、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を逆相HPLC(アセトニトリル-水)によって精製し、化合物I-2(7.8mg、収率23%)を得た。
LCMS(測定条件B)、保持時間:2.20分、[M+H]:299
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82-1.83 (m, 2H), 3.31-3.33 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.07 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 8.17 (s, 2H).
実施例 3
[0239]
化合物I-3の合成 
[化57]



工程1:化合物3bの合成
 1,3-ジブロモプロパン-2-オン(4.57g,21.2moL)をアセトン(20mL)に溶解させ、室温で化合物3a(3.35g,21.2moL)を加え、室温で8時間撹拌した。得られた固体をろ取し、粗精製物として化合物3bを得て、精製せずに次の反応に用いた。LCMS (測定条件A); 保持時間:0.94 分、 [M+H]:344
[0240]
工程2:化合物I-3の合成
 4-クロロフェノール(27mg、0.21mol)をジメチルアセトアミド(1mL)に溶解し、工程1で得られた化合物3b(50mg、0.14mol)、炭酸カリウム(97mg、0.70mol)を加え、65℃で3時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-3(11mg,27%)を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.93-1.99 (m, 2H), 3.37-3.43 (m, 4H), 4.93 (s, 2H), 6.47 (s, 1H), 6.93 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 7.23 (J = 8.8 Hz, d, 2H).
実施例 4
[0241]
化合物I-4の合成 
[化58]



工程1 化合物4cの合成
化合物4aと化合物4bを用いて、実施例5の工程2と同様の手法により合成した。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.47 (s, 9H), 1.52-1.65 (m, 2H), 1.72 (d, J = 9.6Hz, 1H), 1.96 (s, 2H), 2.09 (d, J = 10.0Hz, 1H), 2.68 (s, 1H), 2.81-2.87 (m, 2H), 3.43 (s, 4H), 4.00-4.04 (m, 1H), 4.26 (s, 1H), 6.11 (s, 1H).
[0242]
工程2 化合物4dの合成
 化合物4c(1.5g、4.10mmol)に2mol/L塩酸-酢酸エチル溶液(30mL、60mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後、析出している固体をろ取することにより、化合物4d(1.35g、収率97%)を得た。
LCMS(測定条件B)、保持時間:0.83分、[M+H]:266
[0243]
工程3 I-4の合成
 化合物4d(70mg、0.207mmol)をDMA(1.5mL)に溶解し、化合物4e(34mg、0.207mmol)、炭酸セシウム(270mg、0.828mmol)を加えた。130℃で4時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した後、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)で精製することにより、化合物I-4(21mg、収率25%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.59 (m, 1H), 1.66-1.85 (m, 4H), 2.06 (m, 1H), 2.70 (m, 1H), 2.89-3.08 (m, 2H), 3.33 (m, 4H), 4.46 (m, 1H), 4.71 (m, 1H), 6.31 (s, 1H), 7.19 (t, J = 7.2Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.8Hz, 1H), 7.39-7.56 (m, 2H), 7.68 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.01 (d, J = 8.8Hz, 1H), 8.25 (s, 2H).
実施例 5
[0244]
化合物I-5の合成 
[化59]



工程1:化合物5cの合成
化合物5a(400mg、2.326mmol)と化合物5b(730mg、4.65mmol)をジクロロメタン(12mL)に溶解し、ピリジン(0.47mL、5.81mmol)、酢酸銅(422mg、2.33mmol)を加えた。室温で激しく5時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製し、化合物5c(122mg、収率19%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.21 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.59-1.72 (m, 2H), 1.78 (m, 1H), 1.93 (m, 1H), 2.69 (m, 1H), 2.93 (m, 1H), 3.12 (dd, J = 12.4, 9.6Hz, 1H), 3.55 (m, 1H), 3.72 (dd, J = 12.4, 3.2Hz, 1H), 4.11 (q, J = 7.2Hz, 2H), 7.18 (s, 1H), 7.25 (m, 1H), 7.30-7.40 (m, 2H), 7.70-7.77 (m, 3H).
[0245]
工程2:I-5の合成
 窒素気流下、化合物5c(300mg、1.06mmol)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液にクロロヨードメタン(0.31mL、4.23mmol)を加え、-78℃に冷却した。0.75mol/LLDAのテトラヒドロフラン溶液(7.1mL、5.3mmol)を滴下し、1時間撹拌した。酢酸(0.3mL、5.25mmol)を加え、室温に昇温した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0246]
 得られた残渣をエタノール(6mL)に溶解して化合物5d(142mg、0.90mmol)を加え、室温にて6時間撹拌した。酢酸エチルを加え、析出している固体をろ取することで、化合物I-5(102mg、23%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.62-1.93 (m, 5H), 2.08 (m, 1H), 2.81-2.95 (m, 2H), 3.05 (m, 1H), 3.43 (m, 4H), 3.82 (m, 1H), 3.99 (m, 1H), 7.04 (brs, 1H), 7.22 (s, 1H), 7.25 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.35-7.44 (m, 2H), 7.69-7.77 (m, 3H), 8.95 (s, 2H), 11.91 (s, 1H).
実施例 6
[0247]
化合物I-6の合成 
[化60]



工程1:化合物6bの合成
 Fmocイソチオシアネート(166mg、0.59mmol)と炭酸水素ナトリウム(248mg、2.96mmol)をクロロホルム(3mL)に懸濁した。この溶液に化合物6a(200mg、0.59mmol)を4回に分けて加えた。室温で2時間撹拌した後に、硫酸マグネシウムを加えた。固体をセライトを用いて除去し、ろ液を減圧濃縮することで化合物6b(340mg)を得た。化合物6bは粗精製のまま次工程へ用いた。
[0248]
工程2:化合物I-6の合成
 粗精製の化合物6b(34mg、0.062mmol)をDMF(0.7mL)に溶解し、ピペリジン(0.14mL、1.41mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後に、化合物6c(17.7mg、0.089mmol)を加えて、室温で2時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物I-6(19.9mg、収率76%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.66-1.72 (m, 2H), 1.77-1.86 (m, 3H), 2.04 (m, 1H), 2.79 (m, 1H), 3.15 (m, 2H), 3.29 (m, 4H), 3.88 (m, 1H), 4.19 (m, 1H), 6.32 (s, 1H), 7.25 (s, 1H), 7.28 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.6Hz, 2H), 7.86 (d, J = 7.6Hz, 2H), 8.25 (s, 2H).
実施例 7
[0249]
化合物I-7の合成 
[化61]



工程1:化合物7bの合成
化合物7a(200mg、0.59mmol)のDMF(2mL)溶液に、炭酸セシウム(578mg、1.77mmol)と2、4-ジクロロピリミジン(114mg、0.769mmol)を加えた。50℃で4時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出して有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物7bと化合物7cの混合物(171mg)を得た。
[0250]
工程2 化合物I-7の合成
化合物7bと化合物7cの混合物(50mg、0.132mmol)をエタノール(1mL)に溶解し、フェニルボロン酸(22.6mg、0.185mmol)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(9.3mg、0.013mmol)、2.3mol/L炭酸カリウム水溶液(0.2mL、0.46mmol)を加えた。120℃で3時間撹拌した後、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相HPLC(アセトニトリル-水)により精製して、化合物I-7(2.6mg、収率5%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.55 (m, 1H), 1.68-1.84 (m, 4H), 2.06 (m, 1H), 2.67 (m, 1H), 3.00-3.11 (m, 2H), 3.26 (m, 4H), 4.73 (m, 1H), 4.94 (m, 1H), 6.30 (s, 1H), 7.17 (d, J = 5.2Hz, 1H), 7.48-7.53 (m, 3H), 8.10-8.14 (m, 2H), 8.24 (s, 2H), 8.43 (d, J = 5.2Hz, 1H).
実施例 8
[0251]
化合物I-8の合成 
[化62]



工程1:化合物8bの合成
 化合物8a(5g、23.8mmol)のエタノール溶液にメチルアミン(40%メタノール溶液、28mL)とシアノ水素化ホウ素ナトリウム(2.23g、35.8mmol)を加えた。次いで酢酸(5.5mL)を滴下した後に4時間加熱還流した。室温に放冷して水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物8b(2.4g、収率45%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:2.06 (m, 1H), 2.49 (m, 1H), 2.53 (s, 3H), 2.94 (m, 1H), 3.07 (m, 1H), 4.53 (dd, J = 7.6, 5.2Hz, 1H), 5.00 (brs, 1H), 7.13 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.40 (d, J = 7.6Hz, 1H), 7.46 (d, J= 7.6Hz, 1H).
[0252]
工程2:化合物8c合成
 化合物8b(1.5g、6.63mmol)をテトラヒドロフラン(15mL)に溶解し、BocO(1.7mL、7.3mmol)、DMAP(81mg、0.663mmol)を加えた。室温で4時間撹拌した後に、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物8c(1.26g、収率58%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.50 (s, 9H), 1.96 (m, 1H), 2.39 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 2.83 (m, 1H), 3.02 (m, 1H), 5.68 (m, 1H), 5.94 (m, 1H), 7.06-7.10 (m, 2H), 7.38 (m, 1H).
[0253]
工程3:化合物8eの合成
 化合物8c(1.25g、3.83mmol)をトルエン(13mL)に溶解して1-エトキシトリ-n-ブチルスズ(1.42mL、4.21mmol)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(0.27g、0.383mmol)を加えて系内を窒素置換した。100℃で3時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣をテトラヒドロフラン(20mL)、水(2mL)に溶解した。氷冷下でNBS(0.68mg、0.383mmol)を加えた。1時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣をエタノール(15mL)に溶解して化合物8d(0.553g、3.45mmol)を加えた。室温で3時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣に4mol/L塩酸-酢酸エチル溶液(0.96mL、3.83mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物8e(910mg、収率73%)を得た。
LCMS(測定条件B)、保持時間:1.38分、[M+H]:328
[0254]
工程4:化合物I-8の合成
 化合物8e(60mg、0.18mmol)をジクロロメタン(1.5mL)に溶解し、トリエチルアミン(0.076mL、0.55mmol)と塩化ベンゼンスルホニル(0.023mL、0.183mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-8(42mg、収率49%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.64 (m, 1H), 1.81 (m, 2H), 2.02 (m, 1H), 2.48 (s, 3H), 2,98 (m, 1H), 3.03 (m, 1H), 3.31 (m, 4H), 5.53 (t, J = 8.0Hz, 1H), 6.76 (d, J = 7.2Hz, 1H), 6.81 (s, 1H), 7.22 (t, J = 7.2Hz, 1H), 7.65-7.70 (m, 3H), 7.74 (m, 1H), 7.90-7.94 (m, 2H), 8.26 (brs, 2H).
実施例 9
[0255]
化合物I-9の合成 
[化63]


工程1:化合物9bの合成 
化合物9a(590mg、2.26mmol)に、テトラヒドロフラン(8mL)、(2-(tert-ブトキシカルボニル)―1、2、3,4-テトラヒドロイソキノリ-5-イル)ボロン酸(814mg、2.94mmol)、PdCl(dppf)ジクロロメタン錯体(185mg、0.226mmol)および2mol/Lの炭酸ナトリウム水溶液(3.39mL、6.78mmol)を加え、マイクロウエーブ装置を用い130℃で30分反応した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物9b(661mg、71%)を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.44(s, 9H), 1.74-1.88(m, 2H), 2.85-2.92(m, 2H), 3.24-3.60(m, 6H), 4.54(s, 2H), 6.66(s, 1H), 7.15(d, J=7.2 Hz, 1H), 7.22(dd, J=7.2Hz,7.2Hz, 1H), 7.37(d, J=7.2Hz, 1H), 8.22-8.24(br, 2H)
[0256]
工程2:化合物9cの合成
化合物9b(563mg、1.36mmol)のメタノール(5mL)溶液に4mol/Lの塩酸-ジオキサン溶液(3.4mL、13.6mmol)を加え室温で3時間半撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。粗生成物のまま次の反応に用いた。
[0257]
工程3:化合物I-9 の合成 
化合物9c(50mg、0.160mmol)のジメチルアセトアミド(1mL)溶液に水素化ナトリウム(38.6mg、0.319mmol)、4-フルオロベンゾニトリル(38.6mg、0.319mmol)を加え80℃で5時間、120℃で1時間撹拌した。得られた残渣を分取用HPLC(10mmol/L 炭酸アンンモニウム水溶液-アセトニトリル溶媒)により精製し、化合物I-9(9mg、14%)を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.76-1.85(m, 2H), 3.08(t, J=5.2Hz, 2H), 3.25-3.40(m, 4H), 3.57(t, J=6.0Hz, 2H), 4.59(s, 2H), 6.68(s,1H), 7.00-7.10(m, 2H), 7.20-7.30(m, 2H), 7.30-7.40(m, 1H), 7.58-7.70(m, 2H), 8.20-8.23(br, 2H)
実施例 10
[0258]
化合物I-10の合成 
[化64]



工程1:化合物10bの合成
 化合物10a(189g,1.4moL)を水(700mL)に溶解させ、水酸化ナトリウム(55.8g,1.4moL)を加えた。室温で30分撹拌した.反応液を減圧下で濃縮した。エタノール(500mL)を加え、不溶物を濾去した。濾液を濃縮し、得られた10b(125g)を粗生成物として次の反応に用いた。
[0259]
工程2:化合物10cの合成
 工程1で得られた化合物10b(105g、1.06mol)をテトラヒドロフラン(600mL)に溶解し、氷冷下、2-イソチオシアネート-2-メチルプロパン(115g、0.98mol)を加えた。室温に昇温し、16時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ジクロロメタン-メタノール)によって精製し、化合物10cの粗精製物を得た。粗精製物を石油エーテル:酢酸エチル=9:1で洗浄して、化合物10c(124g,59%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.29 (s, 9H), 1.78 (m, 2H), 3.25 (m, 4H), 6.28 (s, 1H), 8.99 (s, 2H).
[0260]
工程3:化合物10dの合成
 化合物10c(145g、0.69mol)を濃塩酸(220mL)に溶解させ、2時間加熱還流した。室温に放冷後、反応液を減圧下で濃縮した。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH=8とした。得られた固体をろ取し、冷水で洗浄後、減圧乾燥し、化合物10d(46g,43%)を得た。1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.79-1.76 (m, 2H), 3.26-3.22 (m, 4H), 6.79 (br, 2H), 8.90 (br, 2H).
[0261]
工程4:化合物10eの合成
化合物10d(37.5g、0.23mol)にエタノール(400mL)を加え、氷冷下で1-ブロモブタン-2,3-ジオン(36g,0.23moL)を加えた。室温に昇温し、6時間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(400mL)を加え、塩化メチレン(300mLx3)で抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ジクロロメタン-メタノール)により精製し、化合物10eを得た。1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.79-1.76 (m, 2H), 3.26-3.22 (m, 4H), 6.79 (br, 2H), 8.90 (br, 2H).
[0262]
工程5:化合物10fの合成
化合物10e(13.8g、61.5mmoL)を酢酸(100mL)に懸濁させ,38%臭化水素の酢酸溶液(100mL)を室温で加え,10分間撹拌した.得られた反応溶液に室温で臭素(3.5mL)を滴下し,室温で終夜撹拌した.アセトン(100mL)を反応溶液に加え,10分間撹拌した.得られた固体をろ過し,アセトンで洗浄して化合物10f(16.5g,58%)を得た. 1H-NMR(DMSO-d6)δ:3.47 (t, 4H), 5.02 (s, 2H), 8.29 (s, 1H), 8.92 (b, 2H).
[0263]
工程6:I-10の合成
 化合物10f(45mg,0.12mmoL)をエタノール(2mL)に懸濁させ、ピリダジン-3-カルボチオアミド(18mg,0.13mmoL)を加え、3時間加熱還流した。室温まで放冷後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-9(11mg,27%)を得た。1H-NMR(DMSO-d6)δ: 1.81-1.87 (m, 2H), 3.32-3.38 (m, 4H), 7.14 (s, 1H), 7.91 (J = 8.5, 5.0 Hz, dd, 1H), 8.24-8.28 (m, 3H), 8.40 (J = 8.5, 1.3 Hz, dd, 1H), 9.33 (J = 4.9, 1.4 Hz, dd, 1H).
実施例 11
[0264]
化合物I-12の合成 
[化65]



工程1:I-12の合成
 2-シクロペンチルエタノール(30mg,0.27mmoL)をジメチルアセトアミド(0.5mL)に溶解させ、水素化ナトリウム(11mg,0.27mmoL)を加え、10分間撹拌した。実施例10と同様の方法で合成した化合物12a(20mg,0.053mmoL)を加え、120℃で終夜撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-12(12mg,50%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.12-1.99 (m, 11H), 3.14-3.47 (m, 2H), 4.35 (J = 6.8 Hz, t, 2H), 6.94 (J = 8.8 Hz, d, 1H), 7.09 (s, 1H), 8.03 (s, 1H), 8.25 (J = 8.7, 2.4 Hz, dd, 3H), 8.77 (J = 2.3 Hz, d, 1H).
実施例 12
[0265]
化合物I-15の合成 
[化66]



工程1:化合物I-15の合成
 5-ブロモ-2,4-ジメチルピリミジン(65mg,0.35mmoL)を1,4-ジオキサン(1mL)に溶解し、ビス(ピナコレート)ジボラン(88mg,0.35mmoL)、PdCl2(dppf)(28mg,0.035mmol)、酢酸カリウム(68mg,0.70mmol)を加え100℃で2時間撹拌した。室温まで放冷後、反応液にエタノール(1mL)、2mol/L炭酸ナトリム水溶液(0.5mL)、化合物15a(99mg,0.23mmoL)及びPdCl(dppf)(38mg,0.047mmol)を加え、マイクロウェーブ照射下、130℃で45分間加熱した。室温まで放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-15(6mg、収率4.6%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.74-1.90 (m, 2H), 2.65 (s, 3H), 2.79 (s, 3H), 3.33-3.37 (m, 4H), 7.12 (s, 1H), 8.23 (s, 1H), 8.26 (s, 2H), 9.04 (s, 1H).
実施例 13
[0266]
化合物I-16の合成 
[化67]



工程1:化合物I-16の合成
 N-(2-メトキシエチル)メチルアミン(24mg,0.27mmoL)をジメチルアセトアミド(0.5mL)に溶解させ、実施例15と同様の方法で合成した化合物16a(20mg,0.053mmoL)、炭酸セシウム(52mg,0.16mmoL)加え、120℃で終夜撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-16(6mg,26%)を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.84-2.11 (m, 2H), 3.16 (s, 3H), 3.36 (s, 3H), 3.41-3.54 (m, 4H), 3.62 (J = 5.6 Hz, t, 2H), 3.82 (J = 5.6 Hz, t, 2H), 6.57 (J = 9.3 Hz, d, 1H), 7.16 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 8.08 (J = 9.3 Hz, d, 1H), 8.75 (s, 1H).
実施例 14
[0267]
化合物I-17の合成 
[化68]



工程1:I-17の合成
 実施例15と同様の方法で合成した化合物17a(30mg,0.081mmoL)をジメチルアセトアミド(1mL)に溶解し、1-ブロモブタン(13mg,0.097mmoL)、炭酸カリウム(27mg,0.19mmoL)加え、120℃で6時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-17(14mg,41%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 0.95 (J = 7.4 Hz, t, 3H), 1.42-1.51 (m, 2H), 1.70-1.77 (m, 2H), 1.80-1.87 (m, 2H), 2.72 (s, 3H), 3.28-3.37 (m, 4H), 4.12 (J = 6.4 Hz, t, 2H), 7.11 (s, 1H), 7.72 (J = 2.8 Hz, d, 1H), 8.20 (s, 1H), 8.26 (brs, 2H), 8.29 (J = 2.8 Hz, d, 1H).
実施例 15
[0268]
化合物I-18の合成 
[化69]


工程1:化合物18cの合成
化合物18a(500mg、1.32mmol)に、エタノール(2mL)、化合物18b(319mg、1.32mmol)を加え室温で4時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄し化合物18c(428mg、収率73%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.49(s, 9H), 1.93-2.20(m, 2H),3.41-3.60(m, 12H), 6.80(s, 1H), 6.95(s, 1H)
[0269]
工程2:化合物18dの合成 
化合物18c(420mg、0.93mmol)のメタノール(4mL)溶解に、4mol/Lの塩酸-ジオキサン溶液(1.17mL,4.67mmol)を加え室温で1時間撹拌した。更に4mol/Lの塩酸(1.17mL,4.67mmol)ジオキサン溶液を追加し12時間静置した。溶媒を減圧留去し、得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄し,粗生成物として化合物18dを得た。
[0270]
工程3:I-18の合成 
化合物18d(62mg、0.14mmol)にジメチルホルムアミド(1mL)、ベンジルブロミド(0.022mL、0.183mmol)、炭酸カリウム(58,4mg、0.423mmol)を加え室温で90分で撹拌した。更に炭酸カリウム(40mg、0.282mmol)を加え1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製した。得られた残渣を酢酸エチルで洗浄し、化合物I-18(16mg、収率26%)を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.74-1.86(m, 2H), 3.25-3.40(m, 8H), 3.42-3.50(m, 4H), 3.54(s, 2H), 6.77(s, 1H), 7.17(s, 1H), 7.25-7.39(m, 5H), 8.19-8.23(br, 2H)
実施例 16
[0271]
化合物I-19の合成 
[化70]



工程1:化合物19bの合成
1-ブロモブタン-2,3-ジオン(4.01g、24.31 mmol)をエタノール(50mL)に溶解させ0℃に冷却し、化合物19aを加えて室温で23時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後クロロホルムを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物19b(2.59g、収率48%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.95-2.03 (m, 2H), 2.51-2.51 (m, 3H), 3.44-3.48 (m, 4H), 7.39 (s, 1H).
[0272]
工程2:化合物19cの合成
化合物19b(3.85g、17.2mmol)に臭化水素酸(25%酢酸溶液、77mL、354mmol)、臭素(0.884mL、17.2mol)を加え、室温で23時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物19c(2.15g、収率42%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.97-2.04 (m, 2H), 3.45-3.47 (m, 4H), 4.40 (s, 2H), 7.55 (s, 1H).
[0273]
工程3:化合物19dの合成
化合物19c(400mg、1.32mmol)、tert-ブチル4-(アミノカルボチオイル)テトラヒドロピリジン-1(2H)-カルボキシレート(322mg、1.32mmol)にエタノール(2mL)を加え、120℃で7分間マイクロ波を照射した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物19d(636mg)を粗生成物として得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.41 (s, 9H), 1.54-1.58 (m, 2H), 1.80-1.84 (m, 2H), 2.01-2.05 (m, 2H), 2.89-2.92 (m, 2H), 3.27-3.40 (m, 5H), 4.01-4.03 (m, 2H), 6.93 (s, 1H), 7.86 (s, 1H), 8.22 (s, 2H).
[0274]
工程4:化合物19eの合成
化合物19d(418mg、0.93mmol)をメタノール(4mL)に溶解させ、4mol/L塩酸(ジオキサン溶液、4mL、16mmol)を加えて室温で2時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣を水に溶解させ、それを1mol/L水酸化ナトリウム水溶液に加えて、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)で精製し化合物19e(244mg、収率75%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.69-1.75 (m, 5H), 1.96-2.04 (m, 2H), 2.12-2.16 (m, 2H), 2.75-2.79 (m, 2H), 3.14-3.18 (m, 3H), 3.45-3.47 (m, 4H), 7.03 (s, 1H), 7.34 (s, 1H).
[0275]
工程5:化合物I-19の合成
化合物19e(50mg、0.143mmol)を塩化メチレン(1mL)に溶解させ、トリエチルアミン(40μL、0.287mmol)、クロロギ酸イソプロピル(18μL、 0.158mmol)を加えて室温で18時間撹拌した。トリエチルアミン(40μL、 0.287mmol)、クロロギ酸イソプロピル(33μL、0.286mmol)を加えて室温で3時間撹拌し、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)で精製し、化合物I-19(56mg、収率90%)を得た。.
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.19 (d, J = 6.3 Hz, 6H), 1.54-1.61 (m, 2H), 1.82-1.83 (m, 2H), 2.03-2.08 (m, 2H), 2.94-3.08 (m, 2H), 3.25-3.35 (m, 5H), 4.00-4.05 (m, 2H), 4.73-4.82 (m, 1H), 6.92 (s, 1H), 7.86 (s, 1H), 8.21 (s, 2H).
実施例 17
[0276]
化合物I-20の合成 
[化71]



工程1:化合物20bの合成
 化合物20a(185mg,1mmoL)をエタノール(2mL)に溶解し、イソブチリミダミド塩酸塩(123mg,1mmoL)、20%ナトリウムエトキシドのエタノール溶液(0.386mL,1mmoL)を加え、4時間加熱還流した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物20b(140mg,67%)を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (J = 7.0 Hz, d, 7H), 1.40 (J = 7.2 Hz, t, 3H), 2.80 (s, 3H), 3.21 (m, 1H), 4.40 (J = 7.1 Hz, q, 2H), 9.08 (s, 1H).
[0277]
工程2:化合物20cの合成
 化合物20b(140mg,0.67mmoL)をエタノール(2mL)に溶解させ、2moL/L水酸化ナトリウム水溶液(1mL)を加え、室温で2時間撹拌した。エタノールを減圧下留去し、2moL/L塩酸でpH=2とした。得られた固体をろ取し、水で洗浄後、減圧乾燥して化合物20cを得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (J = 7.0 Hz, d, 6H), 2.85 (s, 5H), 3.22-3.29 (m, 1H), 9.21 (s, 1H).
[0278]
工程3:化合物20dの合成
 化合物20c(80mg,0.44mmoL)をジメチルホルムアミド(1mL)に溶解させ、CDI(216mg,1.33mmoL)を加え、室温で1時間撹拌した。28%アンモニア水溶液(1mL)を加え、室温で30分撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物20d(65mg,82%)を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (J = 6.8 Hz, d, 6H), 2.70 (s, 3H), 3.17-3.24 (m, 1H), 5.81 (s, 2H), 8.71 (s, 1H).
[0279]
工程4:化合物20eの合成
 化合物20d(61mg,0.34mmoL)をテトラヒドロフラン(1mL)に溶解させ,ローソン試薬(138mg,0.34mmoL)を加え、室温で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物20e(41mg,62%)を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (J = 7.0 Hz, d, 6H), 2.65 (s, 3H), 3.14-3.21 (m, 1H), 6.98 (s, 1H), 7.76 (s, 1H), 8.71 (s, 1H).
[0280]
工程5:化合物I-20の合成
 化合物20eを用いて、実施例10と同様の方法でI-20を得た.
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.31 (J = 7.0 Hz, d, 7H), 1.81-1.87 (m, 2H), 2.81 (s, 3H), 3.14-3.20 (m, 1H), 3.34 (s, 4H), 7.11 (s, 1H), 8.22 (s, 1H), 8.26 (s, 2H), 9.07 (s, 1H).
実施例 18
[0281]
化合物I-21の合成 
[化72]



工程1:化合物21bの合成
化合物21a(300mg、1.5mmol)を臭化水素酸(25%酢酸溶液、22mL)に溶解し、ピリジニウムトリブロミド(486mg、1.5mmol)を加え、室温で23時間撹拌した。反応液を氷水に加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して、減圧乾燥して化合物21bの粗生成物(380mg)を得た。
[0282]
工程2:化合物I-21の合成
化合物21b(380mg)、化合物21c(205mg、0.6mmol)をエタノール(20 mL)に溶解し、室温で23時間撹拌した。析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、減圧乾燥して化合物I-21(393 mg、収率61%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.96 (t, J = 2.5 Hz, 2H), 3.6 (t, J = 2.5 Hz, 4H), 7.45-7.56(m, 3H), 7.94-8.22 (m, 6H), 8.96 (s, 2H), 12.00 (bs, 1H).
実施例 19
[0283]
化合物I-22の合成 
[化73]



工程1:I-22の合成
 (3-クロロフェニル)メタノール(44mg,0.31mmoL),実施例23で合成した化合物22a(30mg,0.102mmoL)をジメチルスルホキシド(1mL)に溶解させ、60%水素化ナトリウム(13mg,0.31mmoL)を加え、室温で45分間撹拌した。120℃に昇温して、1.5時間撹拌した。室温まで放冷後、60%水素化ナトリウム(4mg,0.10mmoL)、(3-クロロフェニル)メタノール(15mg,0.10mmoL)のジメチルスルホキシド(0.3ml)溶液を加えた後、120℃に昇温して1時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製した。得られた固体に酢酸エチルを加え、ろ取することで化合物I-22(5.6mg,14%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.78-1.90 (2H, m), 3.30-3.37 (4H, m), 5.45 (2H, s), 6.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, s), 7.36-7.43 (2H, m), 7.47 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.54 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.57 (1H, s), 7.75 (1H, t, J = 7.8 Hz), 8.24 (2H, br s).
実施例 20
[0284]
化合物I-23の合成 
[化74]


工程1:化合物23dの合成
 化合物23a(8g,50.8mmoL)をテトラヒドロフラン(50mL)に懸濁させ、0℃に冷却した。塩化オキサリル(5.33mL,60.9mmoL)、N,N-ジメチルホルムアミド(0.197mL,2.54mmoL)を加え、0℃で5分間撹拌した。その後昇温し、室温にて1.5時間撹拌した。テトラヒドロフラン(50mL)を加えて希釈し、氷冷下で2moL/Lトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液(55.9mL,112mmoL)を滴下し、0℃で1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた固体に氷冷下で酢酸(60mL)を加えた。続いてこの溶液に47%臭化水素水溶液 (14.7mL,127mmoL)を一度に加え、0℃で30分間攪拌した。反応液を水で希釈し、2moL/L水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH5とした。その後、飽和重曹水を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物23b(7.21g)を得た。化合物23bの組成物(7.21g)をエタノール(60mL)に溶解し、化合物23c(4.87g,30.7mmoL)を加えた。室温にて1時間撹拌した後、終夜静置した。析出した固体を濾取、エタノール、クロロホルムで洗浄し、化合物23d(8.18g,71%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.91-1.97 (2H, m), 3.44-3.54 (4H, m), 7.49 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.90 (1H, s), 7.97 (1H, t, J = 7.8 Hz), 8.20 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.87 (2H, br s), 12.17 (1H, br s).
[0285]
工程2:化合物I-23の合成
 2-フェニルモルフォリン(209mg,1.28mmoL)をN,N-ジメチルアセトアミド(2mL)に溶解させ、化合物23d(80mg,0.21mmoL)、炭酸セシウム(278mg,0.85mmoL)を加えた。封管した後、180℃に昇温して3日間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)、逆相HPLC(アセトニトリル-水)により精製して化合物I-23(22mg,25%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.73-1.88 (2H, m), 2.76 (1H, dd, J = 12.5, 10.7 Hz), 2.98 (1H, dt, J = 17.4, 6.2 Hz), 3.28-3.33 (4H, m), 3.76 (1H, td, J = 11.8, 2.3 Hz), 4.12 (1H, dd, J = 11.7, 2.5 Hz), 4.24 (1H, d, J = 13.3 Hz), 4.37 (1H, d, J = 12.7 Hz), 4.58 (1H, dd, J = 10.3, 2.3 Hz), 6.83 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.24 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.33 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.39 (2H, t, J = 7.5 Hz), 7.48 (2H, d, J = 7.4 Hz), 7.60 (1H, t, J = 8.0 Hz), 8.32 (2H, br s).
実施例 21
[0286]
化合物I-24の合成 
[化75]



工程1:化合物I-24の合成
 実施例23と同様の方法で合成した化合物24a(70mg、0.167mmol)のジオキサン(1mL)溶液に化合物24b(24.6mg、0.167mmol)、Pd(OAc)(4mg、0.017mmol)、xantphos(14.5mg、0.025mmol)、炭酸セシウム(136mg、0.42mmol)を加えた。系内を窒素置換し、120℃の油浴にて3時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-24(34mg、収率51mg)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.84 (m, 2H), 3.14 (t, J = 6.4Hz, 2H), 3.35 (m, 4H), 4.31 (t, J = 6.4Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.38-7.46 (m, 2H), 7.57 (m, 1H), 7.76 (d, J = 7.2Hz, 1H), 7.81-7.89 (m, 2H), 8.03 (d, J = 7.2Hz, 1H), 8.27 (brs, 2H).
実施例 22
[0287]
化合物I-25の合成 
[化76]


工程1:化合物25bの合成
 化合物25a(5.00g,21.1mmoL)をジメチルアセトアミド(30mL)に溶解し,ピペリジン-3-イルメタノール(2.55g,22.2mmoL),炭酸セシウム(15.1g,46.4mmoL)を加え、100℃で5時間加熱した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物25b(4.28g,75%)を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33-1.44 (m, 1H), 1.49-1.59 (m, 1H), 1.61-1.75 (m, 1H), 1.81-1.93 (m, 2H), 2.29-2.40 (m, 1H), 3.19-3.27 (m, 1H), 3.32-3.40 (m, 1H), 3.47-3.60 (m, 2H), 3.76-3.86 (m, 2H), 6.53 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 6.67 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.24 (J = 7.8 Hz, t, 1H).
[0288]
工程2:化合物25cの合成
 化合物25bを用いて、実施例26と同様の方法で化合物25cを合成した。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.15-1.24 (m, 1H), 1.39-1.42 (m, 1H), 1.57-1.89 (m, 5H), 1.80-1.86 (m, 2H), 2.59-2.65 (m, 1H), 2.82-2.89 (m, 1H), 3.25-3.40 (m, 6H),4.22-4.33 (m, 2H), 4.51-4.58 (m, 1H), 6.69 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.14 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.53 (J = 7.9 Hz, t, 1H), 8.28 (s, 2H).
[0289]
工程3 化合物25dの合成
 化合物25c(1.0g,2.68mmoL)とトリエチルアミン(598mg,2.68mmoL)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させ、氷冷下でメタンスルホニルクロライド(368mg,3.22mmoL)を加えた。室温に昇温して、1時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し化合物25dの粗生成物(1.09g)を得た。
LCMS(測定条件A)、保持時間:1.42分、[M+H]:451
[0290]
工程4:化合物I-25の合成
 化合物25c(20mg,0.044mmoL)をジメチルアセトアミド(1mL)に溶解させ、3-シアノフェノール(8mg,0.067mmoL)、炭酸カリウム(18mg,0.13mmoL)を加え、100℃で5時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-25(5mg,24%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.13-1.25 (m, 1H), 1.41-1.50 (m, 1H), 1.60-1.86 (m, 5H), 2.56-2.65 (m, 1H), 2.82-2.89 (m, 1H), 3.25-3.40 (m, 6H), 4.22-4.35 (m, 2H), 4.52-4.56 (m, 1H), 6.69 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.14 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.58 (s, 1H), 8.30 (s, 2H).
実施例 23
[0291]
化合物I-26の合成 
[化77]


工程1:化合物26bの合成 
化合物26a(3.5g、14.8mmol)にジメチルアセトアミド(40mL)、3-(メチルアミノ)プロパン-1-オ-ル(1.38g、15.5mmol)、炭酸カリウム(4.49g、32.5mmol)を加え80℃で7時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製し、化合物26b(2.06g、57%)を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.73-1.82(m, 2H), 2.95(s, 3H), 3.53(dd, J=6.0Hz, 11.2Hz, 2H), 3.71(t, J=6.0Hz, 2H), 4.11(dd, J=6.0Hz, 11.2Hz, 1H), 6.39(d, J=8Hz, 1H), 6.68(d, J=7.6Hz, 1H), 7.22-7.31(m, 1H)
[0292]
工程2:化合物26dの合成 
化合物26b(2.06g、8.40mmol)のトルエン(20mL)溶液に、化合物26c(3.34g、9.24mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.971g、0.84mmol)を加え3.5時間加熱還流した。その後12時間静置し、更に3時間加熱還流した。飽和フッ化カリウム水溶液を加え1時間室温で撹拌しろ過した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去し,化合物26dを粗生成物として得た。
[0293]
工程3:化合物26gの合成 
化合物26d(1.99g、8.40mmol)にテトラヒドロフラン(40mL)、水(5mL)を加え0℃に冷却した。N-ブロモスクシンイミド(1.65g、9.24mmol)を加え0℃で1時間撹拌し、室温で2時間撹拌した。12時間静置後、N-ブロモスクシンイミド(150mg、0.84mmol)を加え1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。エタノール(40mL)に溶解させ化合物26f(1.06g、6.72mmol)を加え60℃で2時間加熱した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物26g(1.30g、45%)を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.62-1.78(m, 2H), 1.80-1.90(m, 2H), 3.02(s, 3H), 3.20-3.50(m, 4H), 3.55-3.65(m, 2H), 4.62(t, J=4Hz, 2H), 6.50-6.55(m, 1H), 7.07-7.12(m, 1H), 7.18(s, 1H), 7.49-7.53(m, 1H), 8.24-8.26(br, 2H)
[0294]
工程4:化合物I-26の合成
化合物26g(35mg、0.101mmol)に、テトラヒドロフラン(0.4mL)、トリフェニルホスフィン(39.7mg、0.152mmol)、4-ヒドロキシベンゾニトリル(14.4mg、0.121mmol)を加え0℃に冷却した。アゾジカルボン酸ジイソプロピル(0.029mL、0.152mmol)を加え室温で終夜撹拌した。反応溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-26(4mg、9%)を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.78-1.89(m, 2H), 2.00-2.10(m, 2H), 3.03(s, 3H), 3.20-3.55(m, 4H), 3.68-3.80(m, 2H), 4.10-4.20(m, 2H), 6.52(d, J=8.4Hz, 1H), 7.08-7.20(m, 4H), 7.50(dd, J=8.4Hz, 8.8Hz, 1H), 7.74(d, J=8.8Hz, 2H), 8.27-8.31(br, 2H)
実施例 24
[0295]
化合物I-27の合成 
[化78]



工程1:化合物27aの合成
 実施例25と同様の方法で化合物27aを合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.88 (m, 4H), 2.00-2.05 (m, 2H), 3.41-3.55 (m, 4H), 3.72-3.83 (m, 4H), 4.03 (s, 4H), 6.62 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.17 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.31 (s, 1H), 7.53 (J = 7.8 Hz, t, 1H).
[0296]
工程2:化合物27bの合成
 化合物27a(1000mg,2.5mmoL)をテトラヒドロフラン(25mL)-2moL塩酸水溶液の混合液に溶解させ、65℃で6時間撹拌した。減圧下濃縮し、飽和重曹水を加え塩基性として、5%メタノール/クロロホルムで3回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物27b(810mg,91%)を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.98-2.04 (m, 2H), 2.45-2.61 (m, 4H), 3.38-3.57 (m, 4H), 3.90-4.08 (m, 4H), 6.68 (J = 8.3 Hz, d, 1H), 7.24 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.58 (J = 7.8 Hz, t, 1H).
[0297]
工程3:化合物I-27の合成
 化合物27b(30mg,0.084mmoL)をエタノール(1mL)に溶解させ、トリエチルアミン(13mg,0.13mmoL)とO-メチルヒドロキシルアミン(11mg,0.13mmoL)を加え、室温で3時間撹拌した。水を加え、得られた固体をろ取し、水で洗浄後減圧乾燥し、化合物I-27(15mg,46%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.98-2.03 (m, 2H), 2.42-2.50 (m, 2H), 2.63-2.73 (m, 2H), 3.37-3.53 (m, 4H), 3.73-3.83 (m, 4H), 3.86 (s, 3H), 6.58 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.17 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.29 (s, 1H), 7.53 (J = 7.9 Hz, t, 1H).
実施例 25
[0298]
化合物I-28の合成 
[化79]



工程1:I-28の合成 
化合物28a(50mg,0.14mmoL)をN,N-ジメチルホルムアミド(0.5mL)に溶解させ、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(0.038mL,0.28mmoL)を加え、130℃で2時間撹拌した。この溶液にエタノール(0.5mL)、2-フェニル-アセトアミジン塩酸塩(29mg,0.17mmoL)を加え、80℃で終夜撹拌した。反応液に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-28(2mg,3%)を得た.1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.77-1.87 (2H, m), 2.94 (2H, t, J = 5.9 Hz), 3.25-3.35 (4H, m), 3.98 (2H, t, J = 5.9 Hz), 4.14 (2H, s), 4.77 (2H, s), 6.86 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.18-7.31 (7H, m), 7.61 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.26 (2H, br s), 8.62 (1H, s).
実施例 26
[0299]
化合物I-30の合成 
[化80]



工程1:化合物30cの合成
 化合物30a(1.89g、8.75mmol)と1-エトキシビニルトリ-n-ブチルスズ(3.55ml、10.5mmol)をトルエン(20mL)に溶解した。Pd(PPh(1.01g、0.875mmol)を加えて窒素置換し、110℃で3時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0300]
 得られた残渣をテトラヒドロフラン(20mL)と水(2mL)に溶解し、氷冷下でNBS(1.56g、8.75mmol)を加えた。30分後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0301]
 得られた残渣をエタノール(20mL)に溶解して化合物30b(1.04g、6.56mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣に酢酸エチルを加えて固化し、固体をろ取することで、化合物30c(1.65g、収率59%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.84 (m, 2H), 3.34 (m, 2H), 3.91 (s, 3H), 7.36 (s, 1H), 7.91 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.02 (t, J = 8.0Hz, 1H), 8.20 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.22 (brs, 2H).
[0302]
工程2:化合物30dの合成
 化合物30c(200mg、0.630mmol)をメタノール(4mL)に懸濁し、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液(1.9mL、1.9mmol)を加えた。室温で13時間撹拌した後に、10%クエン酸水溶液を加えた。析出した固体をろ取することで、化合物30d(183mg、収率96%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.84 (m, 2H), 3.34 (m, 2H), 7.58 (s, 1H), 7.91 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.01 (t, J = 8.0Hz, 1H), 8.18 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.23 (brs, 2H).
[0303]
工程3:化合物I-30の合成
 化合物30d(40mg、0.132mmol)のDMF(1mL)溶液にN-メチルベンジルアミン(24mg、0.198mmol)、HATU(75mg、0.198mmol)、トリエチルアミン(0.055mL、0.396mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に、水を加えた。クロロホルムで抽出して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相HPLC(10mM炭酸アンモニウム含有水―アセトニトリル)により精製して、化合物I-30(20.2mg、収率38%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.83 (m, 2H), 2.95 (s, 1.8H), 2.97 (s, 1.2H), 3.32 (m, 4H), 4.65 (s, 1.2H), 4.72 (s, 0.8H), 7.24-7.44 (m, 5H), 7.51 (m, 1H), 7.89-8.05 (m, 2H), 8.19 (brs, 1.2H), 8.24 (brs, 0.8H).
実施例 27
[0304]
化合物I-32の合成 
[化81]



工程1:化合物I-32の合成
 化合物32a(50mg、0.17mmol)をDMA(1mL)に溶解し、ピペリジン(17μL、0.17mmol)を加え、マイクロウエーブ照射下100℃で30分撹拌した後、ピペリジン(85μL、0.85mmol)を追加して、マイクロウエーブ照射下150℃で3時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を分取用HPLC(0.1%ギ酸含有アセトニトリル-0.1%ギ酸含有水)より精製して化合物I-32(37mg、収率64%)を得た。
LCMS(測定条件B):保持時間=1.41分、[M+H] = 343
実施例 28
[0305]
化合物I-33の合成 
[化82]



工程1:化合物33bの合成
 化合物31a(150mg、0.964mmol)のジオキサン(2.5mL)溶液に4-クロロアニリン(160mg、1.25mmol)とPd(OAc)(43mg、0.193mmol)、Xantphos(223mg、0.386mmol)、炭酸カリウム(200mg、1.446mmol)を加えた。系内を窒素置換し、マイクロ波照射下、120℃で15分反応させた。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して、化合物33b(150mg、収率63%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.64 (s, 3H), 6.76 (dd, J = 4.4, 7.6Hz, 1H), 7.29 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.67 (d, J = 8.0Hz, 2H), 8.11 (d, J = 7.6Hz, 1H), 8.38 (d, J = 4.4Hz, 1H), 11.10 (s, 1H).
[0306]
工程:化合物I-33の合成
 窒素気流下、化合物33b(150mg、0.608mmol)をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解して-78℃に冷却した。0.5mol/LLDA(2.68mL、1.338mmol)を滴下した。20分後にクロロトリメチルシラン(0.22mL、1.70mmol)を加えた。30分後にNBS(119mg、0.669mmol)、炭酸水素ナトリウム(204mg、2.43mmol)を加えた。室温に昇温して3時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0307]
 得られた残渣をエタノール(3mL)に溶解して化合物31c(96mg、0.608mmol)を加え、室温で撹拌した。3時間後に重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物I-33(41mg、収率18%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.28 (m, 1H), 6.87 (dd, J = 7.2, 4.8Hz, 1H), 7.07 (s, 1H), 7.33 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.72 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.86-7.97 (m, 3H), 8.16 (d, J = 4.8Hz, 1H), 10.09 (s, 1H).
実施例 29
[0308]
化合物I-34の合成 
[化83]



工程1:化合物34bの合成
 2mol/Lトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液(12.5mL、25mmol)をテトラヒドロフラン(40mL)に溶解し、氷冷下で化合物34a(2g、11.36mmol)を加えた。1時間撹拌した後に反応液を減圧濃縮した。得られた残渣を酢酸(16mL)に溶解し、氷冷下で47%臭化水素酸(3.28mL、28.4mmol)を加えた。1時間撹拌した後に水酸化ナトリウムを加えてpH5とし、次いで重曹水を加えて中和した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物34b(2.20g、収率83%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 4.56 (s, 2H), 7.39 (dd, J = 7.2, 4.4Hz, 1H), 7.94 (dd, J = 7.2, 1.6Hz, 1H), 8.55 (dd, J = 4.4, 1.6Hz, 1H).
[0309]
工程2:化合物34dの合成
 化合物34b(1.96g、8.34mmol)と化合物34c(1.1g、6.95mmol)をエタノール(25mL)に懸濁した。100℃で1時間撹拌した後、室温まで放冷して重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出して有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物34d(609mg、収率30%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.02 (m, 2H), 3.46 (m, 4H), 7.08 (s, 1H), 7.29 (dd, J = 7.6, 4.8Hz, 1H), 8.08 (dd, J = 7.6, 1.6Hz, 1H), 8.32 (dd, J = 4.8, 1.6Hz, 1H).
[0310]
工程3:化合物I-34の合成
 化合物34d(30mg、0.102mmol)とフェノール(19mg、0.204mmol)をDMSO(0.6mL)に溶解した。炭酸セシウム(66.5mg、0.204mmol)を加え、120℃で10時間撹拌した。水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を逆相HPLC(10mM炭酸アンモニウム含有水-アセトニトリル)により精製し、化合物I-34(9mg、収率25%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.15 (m, 2H), 7.18-7.24 (m, 2H), 7.30 (s, 1H), 7.42 (m, 2H), 8.01 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.45 (d, J = 7.2Hz, 1H).
実施例 30
[0311]
化合物I-35の合成 
[化84]



工程1:化合物I-35の合成
 化合物35b(38mg、0.953mmol)をDMF(1.5mL)に溶解し、氷冷下で60%水素化ナトリウム(38.1mg、0.953mmol)を加え、撹拌した。10分後に化合物35a(70mg、0.238mmol)を加えて120℃で3時間撹拌した。氷冷して塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-35(56mg、収率66%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.37 (m, 2H), 1.49-1.68 (m, 4H), 1.77-1.87 (m, 4H), 2.42 (m, 1H), 3.33 (m, 4H), 4.28 (d, J = 7.2Hz, 2H), 7.04 (m, 1H), 7.26 (s, 1H), 8.04 (m, 1H), 8.19 (brs, 2H), 8.34 (m, 1H).
実施例 31
[0312]
化合物I-36の合成 
[化85]



工程1:化合物36bの合成
 化合物36a(1g、5.7mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液に、氷冷下で塩化オキサリル(0.55mL、6.27mmol)、DMF(0.02mL、0.285mmol)を加えた。10分後に室温に昇温して1時間撹拌した。テトラヒドロフラン(10mL)を加えて希釈し、氷冷下で2mol/Lトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液(6.27mL、12.5mmol)を滴下した。氷冷下で1時間撹拌した後、47%臭化水素酸を加えた。30分後に水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH5とし、さらに重曹水で中和した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物36b(990mg、収率68%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 4.54 (s, 2H), 7.69 (m, 1H), 8.41 (m, 1H).
[0313]
工程2:化合物36dの合成
 化合物36b(990mg、3.92mmol)をエタノール(10mL)に溶解して、化合物36c(541mg、3.42mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に、重曹水で中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物36d(368mg、収率30%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.80 (m, 2H), 3.28-3.31 (m, 4H), 7.36 (s, 1H), 8.13 (s, 2H), 8.26 (m, 1H), 8.39 (m, 1H).
[0314]
工程3:化合物I-36の合成
 化合物36d(70mg、0.23mmol)のDMA(1.5mL)溶液に、4-クロロフェノール(57.7mg、0.449mmol)、ヨウ化銅(8.6mg、0.045mmol)、N,N-ジメチルグリシン(9.3mg、0.09mmol)、炭酸カリウム(93mg、0.674mmol)を加えた。200℃で2時間撹拌した後に、酢酸エチルと水を加えた。不溶物をセライトでろ去した。有機層と水層を分離し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)に付し、次いでアミノカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物I-36(16mg、収率18%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.20 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.39 (s, 1H), 7.47 (d, J = 8.4Hz, 2H), 8.01 (m, 1H), 8.11 (s, 2H), 8.39 (m, 1H).
実施例 32
[0315]
化合物I-37の合成 
[化86]



工程1:I-37の合成  
実施例34と同様の方法で合成した化合物37a(60mg、0.216mmol)のDMSO(1.2mL)溶液に、4-クロロフェノール(70mg、0.54mmol)、炭酸セシウム(282mg、0.865mmol)を加えた。150℃で4時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)に付し、次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物I-37(29mg、35%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.81 (m, 2H), 3,32 (m, 4H), 7.01 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.27 (s, 1H), 7.42 (d, J = 8.8Hz, 2H), 8.02 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.15 (s, 2H), 8.29 (s, 1H), 8.46 (d, J = 4.8Hz, 1H).
実施例 33
[0316]
化合物I-38の合成 
[化87]



工程1:化合物38bの合成
 実施例34と同様の方法で合成した化合物38a(1g、2.68mmol)のDMA(15mL)溶液に、4-クロロフェノール(0.318mL、3.22mmol)と炭酸セシウム(2.19g、6.71mmol)を加えた。120℃で4時間撹拌した後に、重曹水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物38b(477mg、収率38%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 2.06 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.23 (d, J = 7.2Hz, 2H), 7.38 (s, 1H), 7.48 (d, J = 7.2Hz, 2H), 8.09-8.13 (m, 3H), 8.54 (s, 1H).
[0317]
工程2:化合物I-38の合成
 1mol/Lジエチル亜鉛ヘキサン溶液(0.645mL、0.645mmol)をテトラヒドロフラン(0.75mL)、NMP(0.5mL)に溶解した。氷冷して化合物38b(75mg、0.16mmol)とPd(PPh(37mg、0.03mmol)を同時に加えた。10分撹拌した後に、80℃に昇温した。3時間後に、重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)に付し、次いでアミノカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物I-38(29mg、収率45%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 2.32 (s, 3H), 3.30 (m, 4H), 7.15 (m, 2H), 7.23 (s, 1H), 7.44 (m, 2H), 7.85 (d, J = 2.0Hz, 1H), 8.20 (s, 2H), 8.23 (d, J = 2.0Hz, 1H).
実施例 34
[0318]
化合物I-39の合成 
[化88]



工程1:化合物I-39の合成
 実施例1と同様の方法で合成した化合物39a(70mg、0.24mmol)のエタノール(1.5mL)溶液に4-フルオロベンゼンボロン酸(50mg、0.36mmol)とジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(17mg、0.024mmol)、2mol/L炭酸カリウム水溶液(0.36mL、0.72mmol)を加えた。系内を窒素置換し、100℃で4時間撹拌した後、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物I-39(29mg、収率35%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.35 (m, 4H), 7.33 (m, 2H), 7.65 (s, 1H), 7.78 (dd, J = 5.2, 1.6Hz, 1H), 8.20-8.26 (m, 4H), 8.29 (s, 1H), 8.64 (d, J = 5.2Hz, 1H).
実施例 35
[0319]
化合物I-40の合成 
[化89]



工程1 化合物I-40の合成
 化合物40a(50mg、0.133mmol)をDMA(0.7mL)に溶解した。4-シアノフェノール(20.7mg、0.173mmol)、N,N-ジメチルグリシン(4.1mg、0.04mmol)、ヨウ化銅(3.8mg、0.02mmol)、炭酸カリウム(55mg、0.40mmol)を加えた。200℃で3時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物I-40(15mg、収率30%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.34 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.53-7.58 (m, 2H), 7.65 (m, 1H), 7.89 (d, J = 8.8Hz, 2H), 8.14-8.19 (m, 3H).
実施例 36
[0320]
化合物I-41の合成 
[化90]



工程1: 化合物I-41の合成
 化合物41a(70mg、0.187mmol)のジオキサン(1.0mL)溶解に、4-クロロアニリン(31mg、0.243mmol)、Xantphos(43mg、0.075mmol)、Pd(OAc)(8,4mg、0.037mmol)、炭酸カリウム(64.5mg、0.47mmol)を加えた。マイクロ波照射化、120℃で15分反応させた。水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物I-41(26mg、収率36%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.35 (m, 4H), 7.18 (d, J = 4.8Hz, 1H), 7.21-7.32 (m, 4H), 7.74 (d, J = 7.2Hz, 2H), 8.13 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.27 (s, 2H), 9.14 (s, 1H).
実施例 37
[0321]
化合物I-43の合成 
[化91]



工程1:化合I-43の合成
 実施例34と同様の方法で合成した化合物43a(250mg、0.538mmol)のエタノール(5mL)溶液に、トランス-2-シクロプロピルボロン酸ピナコールエステル(157mg、0.807mmol)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(37.8mg、0.054mmol)、2mol/L炭酸カリウム水溶液を加えた。110℃で3時間撹拌した後に、水を加えた。クロロホルムで抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物I-43(171mg、収率70%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 0.54 (m, 2H), 0.82 (m, 2H), 1.66 (m, 1H), 1.83 (m, 2H), 3.33 (m, 4H), 5.92 (dd, J = 15.6, 9.2Hz, 1H), 6.74 (d, J = 15.6Hz, 1H), 7.00 (dd, J = 8.8, 2.8Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 7.2, 4.8Hz, 1H), 7.31 (s, 1H), 7.41-7.45 (m, 2H), 8.00 (dd, J = 4.8, 1.6Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.45 (dd, J = 7.2, 1.6Hz, 1H).
実施例 38
[0322]
化合物I-44の合成 
[化92]



工程1:化合物44bの合成
 化合物44a(600mg、2.85mmol)のDMA(3mL)溶液に、4-クロロフェノール(367mg、2.85mmol)と炭酸セシウム(1.12g、3.42mmol)を加えた。60℃で2時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物44b(916mg)を粗生成物として得た。得られた化合物44bは精製せずそのまま次の工程に用いた。
1H-NMR (CDCl3)δ: 6.94 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.37 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.85 (d, J = 8.0Hz, 1H).
[0323]
工程2:化合物44dの合成
 化合物44b(950mg、2.98mmol)をトルエン(15mL)に溶解し、1-エトキシビニルトリ-n-ブチルスズ(1.1mL、3.28mmol)、Pd(PPh(209mg、0.298mmol)を加えた。90℃で2時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出して有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0324]
 得られた残渣をテトラヒドロフラン(9mL)と水(1mL)に溶解して氷冷した。NBS(530mg、2.98mmol)を加え、室温にて1時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0325]
 得られた残渣をエタノール(10mL)に溶解して化合44c(424mg、2.68mmol)を加えた。室温にて4時間撹拌した後、析出している固体をろ取することで、化合物44d(885mg、収率65%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.93 (m, 2H), 3.46 (m,, 4H), 7.31 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.37 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.54 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.88 (s, 1H), 8.70 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.89 (s, 2H), 12.12 (s, 1H).
[0326]
工程3 化合物I-44の合成
 化合物44d(63mg、0.14mmol)のDMF(1.2mL)溶液に28%ナトリウムメトキシド(80mg、0.41mmol)を加えた。60℃で2時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相HPLC(10mM炭酸アンモニウム含有水-アセトニトリル)により精製して、化合物I-44(7.7mg、収率13%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.30 (m, 4H), 3.61 (s, 3H), 6.65 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.06 (s, 1H), 7.25 (m, 2H), 7.47 (m, 2H), 8.20 (s, 2H), 8.39 (d, J = 8.4Hz, 1H).
実施例 39
[0327]
化合物I-45の合成 
[化93]



工程1:化合物45bの合成
 水素化ナトリウム(1072mg,26.8mmoL)をジメチルホルムアミド(30mL)に懸濁させ、4-クロロフェノール(3445mg,26.8mmoL)を氷冷下で加えた。室温に昇温し、15分撹拌した。氷冷下でエチル 4-クロロピリミジン-5-カルボキシレート(2500mg,14.84mmoL)を加え、室温に昇温し、終夜で撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物45b(237mg,6%)を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
[0328]
工程2:化合物I-45の合成
 化合物45b(100mg,0.36mmoL)をテトラヒドロフラン(5mL)に溶解させ,ドライアイス-アセトンでー78℃に冷却した。これにクロロヨードメタン(253mg,1.44mmoL)、LDAの2moL/Lのテトラヒドロフラン/ヘプタン/エチルベンゼン溶液(Aldrich社製)を加え、‐78℃で30分撹拌した。酢酸(0.5mL)を加えた後、水を加え、室温まで昇温した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にエタノール(2mL)に溶解させ、化合物45c(28mg,0.18mmoL)を加え60℃で2時間撹拌した。反応液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノールにより精製して化合物I-45(13mg,9%)を得た.1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
実施例 40
[0329]
化合物I-46の合成 
[化94]



工程1:化合物46bの合成
 エチル 3-クロロピラジン-2-カルボキシレート(2.02g,10.83mmoL)をジメチルアセトアミド(20mL)に溶解させ,4-クロロフェノール(1.53g,11.91mmoL)と炭酸セシウム(7.76g,23.82mmoL)を加え、100℃で8時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物46b(624mg,21%)を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
[0330]
工程2:化合物I-46の合成
 化合物46bを用いて実施例45と同様の方法で,化合物I-46を合成した.1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
実施例 41
[0331]
化合物I-47の合成 
[化95]



工程1 化合物47cの合成
化合物47a(400mg、2.53mmol)と化合物47b(625mg、2.65mmol)をエタノール(4ml)に懸濁させ、封管110℃で10分間撹拌した。反応液を0℃まで冷却後、濾過しエタノールで洗浄した後、化合物47c(570mg、収率60%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.88-1.98 (m, 2H), 3.43-3.52 (m, 4H), 8.23 (s, 1H), 8.31 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.80-8.90 (m, 3H)
[0332]
工程2:化合物I-47の合成
化合物47c(50mg、0.133mmol)、フェニルボロン酸(24.3mg、0.2mmol)、PdCl2(dtbpf)(8.67mg、0.013mmol)をテトラヒドロフラン(1ml)に懸濁させ、2モル/L炭酸ナトリウム水溶液(0.266ml、0.532mmol)を加えて、封管130℃で30分間撹拌した。反応溶液に水を加え、クロロホルム―メタノール(9:1)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相分取LCMS(水―アセトニトリル)により精製し、化合物I-47(3.8mg、収率8.5%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.99-2.08 (m, 2H), 3.46-3.54 (m, 4H), 7.48-7.52 (m, 3H), 7.58-7.64 (m, 2H), 7.72 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 8.50-8.56 (m, 1H), 8.59 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.82 (d, J = 8.0Hz, 1H)
実施例 42
[0333]
化合物I-48の合成 
[化96]



工程1:化合物I-48の合成
 化合物48a(50mg、0.13mmol)のDMA(0.5mL)溶液に、化合物48b(55mg、0.266mmol)、炭酸セシウム(217mg、0.665mmol)を加えた。150℃で5時間撹拌した後に、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-48(15.6mg、収率30%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.83 (m, 2H), 2.90 (t, J = 6.0Hz, 2H), 3.33 (m, 4H), 4.08 (t, J = 6.0Hz, 2H), 4.97 (s, 2H), 7.18-7.22 (m, 2H), 7.65 (s, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.33 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.46 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.49 (s, 1H).
実施例 43
[0334]
化合物I-50の合成 
[化97]



工程1:化合物I-50の合成
 2,4-ジメチルフェノール(66mg,0.54mmoL),化合物50a(80mg,0.27mmoL)をN,N-ジメチルアセトアミド(2.6mL)に溶解させ、炭酸セシウム(354mg,1.09mmoL)を加えた。封管した後、マイクロウエーブで200℃に昇温して、15分間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-50(10mg,10%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.78-1.87 (2H, m), 2.05 (3H, s), 2.30 (3H, s), 3.30-3.35 (4H, m), 7.00 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.05 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.12 (1H, s), 7.47 (1H, s), 7.71 (1H, d, J = 5.1 Hz), 8.19 (2H, br s), 8.56 (1H, d, J = 5.1 Hz).
実施例 44
[0335]
化合物I-51の合成 
[化98]



工程1:化合物51bの合成
 化合物51a(1.56g、10.47mmol)を2-プロパノール(16mL)に溶解した。DIEA(3.66mL、20.94mmol)、テトラヒドロイソキノリン(1。40mL、11.0mmol)を加え室温で8時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(ヘキサン‐酢酸エチル)により精製して、化合物51b(2.09g、収率81%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 6.1 Hz), 7.26-7.19 (4H, m), 6.44 (1H, d, J = 6.1 Hz), 4.74 (2H, s), 3.84 (2H, s), 2.97 (2H, t, J = 5.8 Hz).
[0336]
工程2:化合物I-51の合成
 化合物51b(360.3mg、1.466mmol)と1-エトキシビニルトリ-n-ブチルスズ(545μl、1.613mmol)をトルエン(4mL)に溶解した。Pd(PPh(169mg、0.147mmol)を加えて窒素置換し、160℃で4時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0337]
 得られた残渣をテトラヒドロフラン(4mL)と水(0.4mL)に溶解し、氷冷下でNBS(287mg、1.615mmol)を加えた。1時間後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0338]
 得られた残渣をエタノール(5mL)に溶解して化合物51c(209mg、1.322mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣に酢酸エチルを加えて固化し、固体をろ取することで、化合物I-51(26.7mg、収率5%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 8.60 (2H, br s), 8.26 (1H, d, J = 6.0 Hz), 7.48 (1H, s), 7.28-7.19 (4H, m), 6.74 (1H, d, J = 6.1 Hz), 4.83 (2H, br s), 3.91 (2H, br s), 3.38-3.30 (4H, m), 2.93 (2H, t, J = 5.7 Hz), 1.86 (2H, t, J = 5.3 Hz).
実施例 45
[0339]
化合物I-53の合成 
[化99]



工程1:化合物53dの合成
窒素雰囲気下、化合物53a(5.0g、24.4mmol)のジエチルエーテル溶液(50ml)を氷水で5℃に冷却し、塩化アルミニウム(0.163g、1.22mmol)を加えた。さらに臭素(3.90g、24.4mmol)を5~10℃で滴下し、10℃で3時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えて、酢酸エチルで抽出した後、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧留去し、粗生成物として化合物53b(4.7g、68%)を得た。粗生成物53b(4.87g、17.2mmol)と化合物53c(1.1g、6.86mmol)をエタノール(18ml)に懸濁させ、封管110℃で10分間撹拌した。反応液に飽和重曹水と酢酸エチルを加えて撹拌後、不溶物を濾過した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)で精製し、化合物53d(600mg、26%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.74-1.86 (m, 2H), 3.30-3.38 (m, 4H), 6.94 (s, 1H), 7.66 (d, J = 4.0Hz, 1H), 7.85 (d, J = 4.0Hz, 1H), 8.15-8.23 (br, 2H)
[0340]
工程2:化合物I-53の合成
化合物53d(30mg、0.087mmol)、フェニルボロン酸(16mg、0.13mmol)、PdCl2(dtbpf)(5.7mg、8.74μmol)をテトラヒドロフラン(0.6ml)に懸濁させ、2モル/L炭酸ナトリウム水溶液(0.131ml、0.262mmol)を加えて、封管130℃で30分間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)で精製し、化合物I-53(5.0mg、17%)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.78-1.88 (m, 2H), 3.32-3.36 (m, 4H), 6.97 (s, 1H), 7.33 (t, J = 8.0Hz, 1H), 7.44 (t, J = 8.0Hz, 2H), 7.70 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.84 (s, 1H), 7.93 (s, 1H), 8.10-8.30 (br, 2H)
実施例 46
[0341]
化合物I-54の合成 
[化100]


工程1 化合物54dの合成
化合物54a(514mg,2.09mmoL)をクロロホルム(10mL)に溶解させ、0℃に冷却した。臭素(0.118mL,2.30mmoL)を滴下し、昇温して室温で7時間撹拌した。飽和重曹水で中和した後、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物54b(697mg)を得た。粗生成物54b(697mg)をエタノール(8mL)に溶解し、化合物54c(305mg,1.93mmoL)を加えた。室温で1.5時間撹拌した後、飽和重曹水、クロロホルムを加えた。沈殿物を濾取し、化合物54d(278mg,34%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.77-1.89 (2H, m), 3.30-3.36 (4H, m), 7.14-7.21 (2H, m), 7.61 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.86 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.14 (1H, s), 8.20 (2H, br s).
[0342]
工程3:化合物I-54の合成
 化合物54d(100mg,0.26mmoL),フェニルボロン酸(38mg,0.31mmoL)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(18mg,0.026mmoL)をエタノール(1.5mL)に溶解させ、2moL/L炭酸カリウム水溶液(0.26mL,0.52mmoL)を加えた。封管した後、100℃に昇温して2時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製した。得られた残渣に酢酸エチルを加え、ろ取することによって化合物I-54(21mg,24%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.76-1.91 (2H, m), 3.31-3.37 (4H, m), 7.22 (1H, s), 7.39 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.45-7.52 (3H, m), 7.56 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.73 (2H, d, J = 7.4 Hz), 7.84 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.05 (1H, s), 8.30 (2H, br s).
実施例 47
[0343]
化合物I-55の合成 
[化101]



工程1:化合物55cの合成
 化合物55a(300mg、1.22mmol)、化合物55b(212mg、1.22mmol)のエタノール(4mL)溶液にジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(86mg、0.12mmol)、2mol/L炭酸カリウム水溶液(0.9mL、1.8mmol)を加えた。110℃で4時間撹拌した後に、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製し、化合物55c(294mg、収率97%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.65 (s, 3H), 2.79 (t, J = 8.0Hz, 2H), 2.98 (t, J = 8.0Hz, 2H), 6.92 (s, 1H), 7.12-7.24 (m, 4H), 7.47 (t, J = 8.0Hz, 1H), 7.74 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.13 (s, 1H).
[0344]
工程2:化合物I-55の合成
 化合物55c(171mg、0.69mmol)のテトラヒドロフラン(1mL)溶液を-78℃に冷却し、2.0mol/LLDA(0.38mL、0.76mmol)を滴下した。30分後に塩化トリメチルシラン(0.11mL、0.90mmol)を加えた。30分撹拌した後に、NBS(123mg、0.70mmol)と炭酸水素ナトリウム(116mg、1.38mmol)を同時に加えた。室温に昇温して1時間撹拌した後に、塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0345]
 得られた残渣をエタノール(3mL)に溶解し、化合物55d(87mg、0.55mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣を逆相HPLC(10mM炭酸アンモニウム含有水-アセトニトリル)により精製し、化合物I-55(54mg、収率20%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.84 (m, 2H), 2.75 (t, J = 8.0Hz, 2H), 2.92 (t, J = 8.0Hz, 2H), 3.34 (m, 4H), 7.06 (s, 1H), 7.12-7.24 (m, 5H), 7.41 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.51 (d, J = 7.6Hz, 1H), 7.77 (d, J = 7.6Hz, 1H), 8.01 (s, 1H), 8.31 (s, 2H).
実施例 48
[0346]
化合物I-56の合成 
[化102]



工程1:化合物56bの合成
 化合物56a(1g、8.29mmol)のジクロロメタン(7mL)溶液を氷冷し、臭素(0.43mL、8.29mmol)を滴下した。室温にて昇温して1時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。
[0347]
 得られた残渣をDMF(7mL)に溶解し、炭酸カリウム(3.44g、24.9mmol)と4-クロロフェノール(1.07g、8.29mmol)を加えた。60℃で3時間撹拌し、その後90℃に昇温して3時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物56b(897mg、収率51%)を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.26-1.32 (m, 2H), 1.60-1.66 (m, 2H), 2.24 (s, 3H), 6.84 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.25 (d, J = 8.8Hz, 2H).
[0348]
工程2:化合物56cの合成
 化合物56b(110mg、0.52mmol)のエタノール(1mL)溶液を氷冷し、臭素(0.027mL、0.52mmol)のエタノール(1mL)溶液を滴下した。室温で1時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物56c(140mg)を得た。得られた化合物56cは精製せず、そのまま次工程に用いた。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.38-1.43 (m, 2H), 1.71-1.77 (m, 2H), 4.18 (s, 2H), 6.85 (m, 2H), 7.27 (m, 2H).
[0349]
工程3:化合物I-56の合成
 化合物56c(140mg、0.48mmol)のエタノール(1.5mL)溶液に化合物56d(70mg、0.44mmol)を加えた。室温で6時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-56(110mg、収率61%)を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.17-1.23 (m, 2H), 1.39-1.45 (m, 2H), 1.77 (m, 2H), 3.23 (m, 4H), 6.15 (s, 1H), 6.97 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.30 (d, J = 8.8z, 2H), 8.03 (s, 2H).
実施例 49
[0350]
化合物I-57の合成 
[化103]



工程1:化合物57bの合成
 化合物57a(4.5g、8.22.8mmol)のDMF(40mL)溶液に、4-クロロフェノール(2.94g、22.8mmol)、炭酸カリウム(9.47g、68.5mmol)を順次加えた。80℃で3時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して、化合物57b(3.81g、収率78%)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 3.83 (s, 3H), 4.95 (m, 1H), 5.75 (m, 1H), 6.97 (d, J = 6.8Hz, 2H), 7.31 (d, J = 6.8Hz, 2H).
[0351]
工程2:化合物I-57の合成
 化合物57b(1g、4.7mmol)のテトラヒドロフラン(30mL)溶液にクロロヨードメタン(1.7mL、23.5mmol)を加えて-78℃に冷却した。0.5mol/LLDA(56.4mL、28.2mmol)を30分かけて滴下した後、さらに1時間撹拌した。酢酸(1.7mL、29.7mmol)を加え、室温に昇温した。室温で30分撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
[0352]
 得られた残渣をエタノール(20mL)に溶解して化合物57c(744mg、4.7mmol)を加えた。45℃で2時間撹拌した後に、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-57(797mg、収率50%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.92 (m, 2H), 3.45 (m, 4H), 4.66 (s, 1H), 5.73 (s, 1H), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.33 (s, 1H), 7.46 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 8.85 (s, 2H).
実施例 50
[0353]
化合物I-58の合成 
[化104]


工程1:化合物58bの合成
 化合物58a(500mg、1.93mmoL)のDMF(10mL)溶液に、氷冷下で二硫化炭素(0.291mL,4.82mmoL)と水素化ナトリウム(193mg,4.82mmoL)を加え,氷冷下で10分間撹拌した。反応液に氷冷下でヨードメタン(0.60mL、9.64mmol)を加え、氷冷下で1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物58b(355mg)を得た。
[0354]
工程2:化合物I-58の合成
 粗生成物58b(100mg、0.28mmol)のDMF(30mL)溶液にシクロヘキサン-1,3-ジアミン(157mg、1.38mmol)を加え85℃で12時間撹拌した。室温に放冷後,水を加え,酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製し、化合物I-58(48mg、収率46%)を得た。
LCMS(測定条件A):保持時間:1.61分、[M+H]:382
実施例 51
[0355]
化合物I-829の合成 
[化105]



工程1 化合物829bの合成
化合物829a(4.18g、30.5mmol)をテトラヒドロフラン(85mL)に溶解させ、窒素気流下氷冷し、水素化ナトリウム(1.42g、36.6mmol)を加え室温にて10分攪拌後、2,4-ジブロモチアゾールを加え室温にて一時間攪拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物829b(8.38g、92%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.54 (s, 3H), 2.59 (s, 3H), 5.44 (s, 2H), 6.62 (s, 1H), 7.02 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 7.8 Hz, 1H).
[0356]
工程2 化合物829cの合成
 化合物829bを用いて実施例23の工程2および3と同じ方法で化合物829c(7.13g、75%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.54 (s, 3H), 2.63 (s, 3H), 4.51 (s, 2H), 5.50 (s, 2H), 7.03 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.72 (s, 1H).
[0357]
工程3 化合物I-829の合成
 化合物829cを用いて実施例23の工程4と同じ方法で化合物1-829(7.27g、87%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 2.43 (s, 3H), 3.32-3.40 (m, 4H), 5.50 (s, 2H), 6.87 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.38 (s, 1H), 7.76 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.22 (s, 2H).
実施例 52
[0358]
化合物I-830の合成 
[化106]



化合物I-830の合成
化合物830a(100mg、0.235mmol)をDMA(3mL)に懸濁させ、3-ヒドロキシ-2-メチルピリジン(38.5mg、0.353mmol)、炭酸セシウム(230mg、0.706mmol)を加え、120℃にて7時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-830(55.3mg、63%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 2.44 (s, 3H), 3.32-3.35 (m, 4H), 6.75 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 7.8, 4.0 Hz, 1H), 7.54 (s, 1H), 7.87 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.21 (s, 2H), 8.44 (d, J = 4.0 Hz, 1H).
実施例 53
[0359]
化合物I-831の合成 
[化107]



化合物I-831の合成
化合物831a(100mg、0.235mmol)をDMA(3mL)に懸濁させ、1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン-7-カルボニトリル(55.8mg、0.353mmol)、炭酸セシウム(230mg、0.706mmol)を加え、120℃にて12時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-831(4.6mg、4.6%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 3.05 (t, J = 5.8 Hz, 2H), 3.34-3.36 (m, 4H), 3.78 (t, J = 5.8 Hz, 2H), 4.70 (s, 2H), 6.83 (s, 1H), 7.22 (s, 1H), 7.44 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.67 (dd, J = 7.8, 1.6 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 8.23 (s, 2H).
実施例 54
[0360]
化合物I-832の合成
[化108]



工程1 化合物832bの合成
化合物832a(3g、14.85mmol)に、DMF(30mL)、N,O-ジメチルヒドロキシアミン塩酸塩(1.59g、16.34mmol)、HATU(6.78g、17.82mmol)、トリエチルアミン(5.15mL、37.1mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物832b(3.35g、92%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:3.37 (s, 3H), 3.81 (s, 3H), 7.55-7.67 (m, 3H).
[0361]
工程2 化合物832cの合成
 3-ブロモ-2-メチルピリジン(491mg、2.86mmol)をトルエン(5mL)に溶解して-70℃に冷却し、1.6mol/Lのn-ブチルリチウム-ヘキサン溶液(1.53mL、2.45mmol)を加えて20分撹拌した。続いて化合物2(500mg、2.04mmol)をトルエン(5mL)に溶解して滴下した、1時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物832c(328mg、58%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 2.60 (s, 3H), 7.24 (m, 1H), 7.70 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.79 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 7.84 (dd, 8.0, 1.2 Hz, 1H), 8.11 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 8.64 (t, J = 4.8, 1.2 Hz, 1H).
[0362]
工程3 化合物I-832の合成
 化合物832cおよび化合物8dを用いて実施例8の工程3と同じ方法で化合物1-832(126mg、44%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.83 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 3.32 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 7.6, 4.8 Hz, 1H), 7.95 (dd, J = 7.6, 2.0 Hz, 1H), 8.01 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.12 (t, J = 7.6 Hz, 1H), 8.18-8.25 (m, 3H), 8.63 (dd, J = 4.8, 1.6 Hz, 1H).
実施例 55
[0363]
化合物I-833の合成 
[化109]



工程1 化合物I-833の合成
化合物833a(30mg、0.079mmol)をテトラヒドロフラン(1mL)に懸濁して、TFA(0.5mL)、亜鉛(26mg、0.396mmol)を加え、室温で3時間撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物1-833(21mg、71%)を得た。
1H- NMR (DMSO-D6) δ: 1.91 (m, 2H), 2.62 (s, 3H), 3.44 (m, 4H), 5.97 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 6.27 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.25 (m, 1H), 7.51 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.62 (s, 1H), 7.81-7.92 (m, 2H), 7.99 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.33 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 8.77 (s, 2H).
(m, 3H), 8.63 (dd, J = 4.8, 1.6 Hz, 1H).
実施例 56
[0364]
化合物I-834の合成 
[化110]



工程1 化合物I-834の合成
3-ブロモ-2-メチルピリジン(45mg、0.26mmol)、ビスピナコラートジボラン(73mg、0.286mmol)、PdCl(dppf)(19mg、0.024mmol)、酢酸カリウム(47mg、0.477mmol)、ジオキサン(1mL)を130℃で1時間撹拌した。室温まで放冷して、テトラヒドロフラン(1.5mL)、化合物834a(100mg、0.239mmol)、PdCl(dppf)(19mg、0.024mmol)、2mol/L炭酸カリウム水溶液(0.5mL、1.0mmol)を加え、130℃で1時間撹拌した。水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物1-834(28mg、34%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.86 (s, 2H), 2.60 (s, 3H), 3.36 (m, 4H), 7.36 (dd, J = 8.0, 4.8 Hz, 1H), 7.39 (s, 1H), 7.49 (m, 1H), 7.87 (dd, J = 8.0, 1.2 Hz, 1H), 7.92-7.99 (m, 2H), 8.31 (s, 2H), 8.52 (d, J = 4.0 Hz, 1H).
実施例 57
[0365]
化合物I-835の合成
[化111]



工程1 化合物835cの合成
 化合物835a(500mg、4.13mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液に、亜鉛(351mg、5.37mmol)を加えた。次いで化合物835b(1g、4.95mmol)を滴下した後に3時間加熱還流した。室温に放冷して酢酸エチルと塩化アンモニウム水溶液を加えた。不要物をセライトで除去し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物835c(652.1mg、収率64%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (3H, t, J = 7.2 Hz), 4.36 (2H, q, J = 7.2 Hz), 5.48 (1H, dd, J = 17.3, 5.2 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 7.9, 4.9 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.41 (1H, d, J = 4.5 Hz).
[0366]
工程2 化合物835eの合成
 化合物835c(100mg、0.41mmol)を1,2-ジクロロエタン(1mL)に溶解し、DMAP(5.0mg、0.041mmol)、化合物835d(145mg、0.82mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物835e(108.0mg、収率75%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.29 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.80 (3H, s), 4.36 (2H, t, J = 7.8 Hz), 6.99 (1H, dd, J = 16.9, 5.3 Hz), 7.09 (1H, s), 7.21 (1H, dd, J = 7.6, 4.8 Hz), 7.64 (1H, s), 7.70 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.36 (1H, s), 8.57 (1H, d, J = 4.5 Hz).
[0367]
工程3 化合物835fの合成
 トリn-ブチルスズ(177mg、0.608mmol)のトルエン溶液(2mL)を80℃に加熱し、化合物835e(108mg、0.304mmol)のトルエン溶液(1mL)を滴下した後に3時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製することで、化合物835f(15.8mg、収率23%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.30 (3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60 (3H, s), 3.42 (2H, t, J = 16.8 Hz), 4.30 (2H, q, J = 7.2 Hz), 7.10-7.12 (1H, m), 7.53 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.45 (1H, d, J = 4.8 Hz).
[0368]
工程4 化合物835gの合成
 化合物835f(15.8mg、0.069mmol)を7mol/Lのアンモニア-メタノール溶液(2mL)に溶解した。室温で2時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、化合物835g(14.0mg)を粗生成物として得た。
[0369]
工程5 化合物835hの合成
 化合物835g(14.0mg)のトルエン(2mL)溶液にローソン試薬(33.5mg、0.083mmol)を加え、80℃で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物835h(9.9mg,収率66%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.63 (3H, s), 3.67 (2H, t, J = 16.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.7, 4.7 Hz), 7.43 (2H, br), 7.61 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.46 (1H, d, J = 4.8 Hz).
[0370]
工程6 化合物I-835の合成
 化合物835h(9.9mg、0.046mmol)と化合物835i(19.3mg、0.05mmol)をエタノール(0.2mL)に懸濁させた。5時間加熱還流した後に室温に放冷した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物I-835(6.1mg、収率32%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00-2.03 (2H, m), 2.61 (3H, s), 3.46-3.49 (4H, m), 3.82 (2H, t, J = 16.3 Hz), 7.06 (1H, dd, J = 6.3, 3.1 Hz), 7.15 (1H, s), 7.53 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.56 (1H, s), 8.42 (1H, dd, J = 4.8, 2.4 Hz).
実施例 58
[0371]
化合物I-836の合成
[化112]



工程1 化合物836bの合成
 化合物836a(200mg、1.62mmol)のDMF(3mL)溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム(195mg、4.87mmol)を加えた。10分撹拌した後、ブロモ酢酸エチル(325mg、1.95mmol)を滴下した。室温に昇温し、終夜撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して、化合物836b(145.5mg、収率43%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.30 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.58 (3H, s), 4.16 (2H, s), 4.25 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.64 (2H, s), 7.14 (1H, dd, J = 7.5, 4.9 Hz), 7.68 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 8.44 (1H, dd, J = 4.9, 1.6 Hz).
[0372]
工程2 化合物836cの合成
 化合物836bを用いて、実施例57の工程4と同様の方法で化合物3を粗生成物として得た。
[0373]
工程3 化合物836dの合成
 化合物836c(126.0mg、0.695mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)溶液にローソン試薬(309mg、0.765mmol)を加えた。室温で5時間撹拌した後に重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル)により精製して化合物836d(58.2mg,収率43%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.57 (3H, s), 4.40 (2H, s), 4.62 (2H, s), 7.16 (1H, dd, J = 7.7, 4.9 Hz), 7.58-7.60 (2H, m), 7.94 (1H, brs), 8.49 (1H, d, J = 3.4 Hz).
[0374]
工程4 化合物I-836の合成
化合物4を用いて、実施例57の工程6と同様の方法で化合物I-836(25.1mg、収率62%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.02 (2H, m), 2.57 (3H, s), 3.46-3.48 (4H, m), 4.69 (2H, s), 4.91 (2H, s), 7.05 (1H, s), 7.15 (1H, dd, J = 7.5, 4.9 Hz), 7.48 (1H, s), 7.69 (1H, dd, J = 7.7, 1.4 Hz), 8.45 (1H, dd, J = 5.0, 1.8 Hz).
実施例 59
[0375]
化合物I-837の合成
[化113]



工程1 化合物837cの合成
化合物837aおよび化合物837bを用いて、実施例57の工程1と同様の方法で化合物837c(892.3mg、収率70%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.00-2.01 (2H, m), 3.46-3.49 (4H, m), 4.50 (2H, q, J = 7.1 Hz), 7.26 (1H, s), 7.73 (1H, s).
[0376]
工程2 化合物837dの合成
 水素化アルミニウムリチウム(124mg、3.26mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に懸濁した。氷冷下、化合物837c(500mg、1.48mmol)のテトラヒドロフラン(15mL)溶液を滴下した。室温に昇温し、1時間撹拌した。氷冷下、硫酸ナトリウム十水和物(5g)を加え、20分撹拌した。不溶物をセライトで除去した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して、化合物837d(164.1mg、収率38%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.99-2.01 (2H, m), 3.45-3.47 (4H, m), 4.98 (2H, s), 7.04 (1H, s), 7.45 (1H, s).
[0377]
工程3 化合物837eの合成
 化合物837d(50mg、0.169mmol)のDMF(2mL)溶液に、氷冷下でトリエチルアミン(51.4mg、0.508mmol)とメタンスルホニルクロライド(29.1mg、0.254mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することで化合物837e(38mg)を得た。化合物837eは精製することなく次工程へ用いた。
[0378]
工程4 化合物I-837の合成
 化合物837e(38mg)のDMF(2mL)溶液に、炭酸カリウム(23.3mg、0.168mmol)と2-メチルピリジン-3-オール(11.0mg、0.101mmol)を加えた。100℃で3時間加熱した後に室温に放冷した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物I-837(8.0mg、収率25%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00-2.02 (2H, m), 2.58 (3H, s), 3.46-3.48 (4H, m), 5.41 (2H, s), 7.09-7.10 (2H, m), 7.19 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.50 (1H, s), 8.14 (1H, d, J = 4.9 Hz).
実施例 60
[0379]
化合物I-838の合成
[化114]



工程1 化合物838cの合成
化合物838aおよび化合物838bを用いて、実施例57の工程6と同様の方法で化合物838c(892.3mg、収率70%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.00-2.01 (2H, m), 3.46-3.49 (4H, m), 4.50 (2H, q, J = 7.1 Hz), 7.26 (1H, s), 7.73 (1H, s).
[0380]
工程2 化合物838dの合成
 化合物838c(100mg、0.296mmol)をテトラヒドロフラン(3mL)、エタノール(3mL)に溶解した後、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(5mL,10.0mmol)を加えた。室温で3時間撹拌した後、有機溶媒を減圧留去した。残渣に2mol/L塩酸を加え、pH=2とした。得られた固体をろ取し、冷水で洗浄後、減圧乾燥し、化合物838d(80mg、収率87%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.92-1.95 (2H, m), 3.45-3.48 (4H, m), 7.62 (1H, s), 8.68 (1H, s), 8.89 (2H, s).
[0381]
工程3 化合物I-838の合成
 化合物838d(8.3mg、0.027mmol)のDMF(1mL)溶液に、トリエチルアミン(2.7mg、0.027mmol)とHATU(10.2mg,0.027mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製して化合物I-838(7.7mg、収率67%)を得た。
LCMS (測定条件A); 保持時間:0.80 分、 [M+H]+:428
実施例 61
[0382]
化合物I-839の合成
[化115]



工程1 化合物839bの合成
 化合物839a(1g、8.12mmol)のテトラヒドロフラン(25mL)溶液に、氷冷下でトリエチルアミン(2.47g、24.4mmol)とメタンスルホニルクロライド(1.40mg、12.2mmol)を加えた。室温で1時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することで化合物839b(1.6g)を得た。化合物839bは精製することなく次工程へ用いた。
[0383]
工程2 化合物839cの合成
 化合物839b(1.6g)のエタノール(10mL)溶液に、メチルアミン(33%エタノール溶液、10mL)を加え、室温で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール)により精製することで、化合物839c(735.8mg、収率67%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.50 (3H, s), 2.57 (3H, s), 3.74 (2H, s), 7.10-7.11 (1H, m), 7.60 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.39 (1H, d, J = 4.8 Hz).
[0384]
工程3 化合物839dの合成
 化合物839c(100mg、0.734mmol)のDMF(5mL)溶液に、トリエチルアミン(260mg、2.57mmol)とブロモアセトアミド(111mg、0.808mmol)を加えた。室温で2時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、得られた残渣を酢酸エチル(3mL)に懸濁した。不要物をろ去し、ろ液を減圧濃縮することで化合物839d(98.1mg)を得た。化合物839dは精製することなく次工程へ用いた。
[0385]
工程4 化合物839eの合成
化合物839dおよび化合物839fを用いて、実施例58の工程3と同様の方法で化合物839e(19mg、収率18%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.31 (3H, s), 2.60 (3H, s), 3.50 (2H, s), 3.60 (2H, s), 7.13 (1H, dd, J = 7.4, 4.5 Hz), 7.53 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.63 (1H, brs), 7.83 (1H, brs), 8.44-8.46 (2H, m).
[0386]
工程5 化合物I-839の合成
化合物839eおよび化合物839fを用いて、実施例57の工程6と同様の方法で化合物I-839(12.2mg、収率33%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.99-2.01 (2H, m), 2.35 (3H, s), 2.62 (3H, s), 3.44-3.47 (4H, m), 3.66 (2H, s), 3.93 (2H, s), 7.04 (1H, s), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 5.1 Hz), 7.42 (1H, s), 7.69 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.41 (1H, d, J = 4.5 Hz).
実施例 62
[0387]
化合物I-840の合成
[化116]



工程1 化合物840bの合成
化合物840a(18g、114mmol)に、ジメチルアセタミド(180mL)、フェノール(12.9g、137mmol)、炭酸カリウム(31.6g、228mmol)およびヨウ化銅(I)(1.74g、9.14mmol)を加え、170度で3時間加熱撹拌した。室温に冷却後、反応液に水(90ml)、4mol/L塩酸水溶液(90ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物840b(17g、69%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.15-7.22 (m, 3H), 7.31 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.44-7.50 (m, 2H), 8.32 (dd, J = 4.8, 1.9 Hz, 1H), 8.53 (d, J = 7.5 Hz, 1H).
[0388]
工程2 化合物840cの合成
 化合物840b(27g、125mmol)に、塩化チオニル(29.8g、251mmol)およびN、N-ジメチルホルムアミド(0.5ml)を加え90度で2時間撹拌した。室温に放冷後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン(200ml)に溶解させ、氷冷下で2mol/Lトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液(138ml、276mmol)を滴下し、0度で50分撹拌した。47%臭化水素水溶液(36.2ml)を0度で滴下し、0度でさらに50分撹拌した。水(300ml)を加えた後、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液によってpHを7に調整した。酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をエタノール(200ml)に溶解させ、チオウレア(9.55g、125mmol)加え、室温で3時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物840c(19.3g、57%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.95 (s, 2H), 7.07 (dd, J = 7.5, 4.9 Hz, 1H), 7.16-7.23 (m, 3H), 7.39-45 (m, 3H), 8.04 (dd, J = 4.7, 1.7 Hz, 1H), 8.49 (dd, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H).
[0389]
工程3 化合物840dの合成
 化合物840c(500mg、1.86mmol)をN、N-ジメチルホルムアミド(10ml)に溶解させ、窒素雰囲気下、二硫化炭素(0.28ml、4.65mmol)および水素化ナトリウム(190mg、4.65mmol)を0度で加え、0度で20分間撹拌した。ヨウ化メチル(0.58ml、9.3mmol)を0度で加え、さらに0度で1時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物840d(300mg、43%)を得た。
1H NMR (DMSO-d6): δ2.63 (s, 6H), 7.21-7.28 (m, 4H), 7.45(t, 2 H, J=7.8 Hz), 8.06-8.08(m, 2H), 8.53-8.55(m, 1H).
[0390]
工程4 化合物I-840の合成
化合物840d(101mg、0.27mmol)をN、N-ジメチルアセトアミド(1ml)に溶解させ、1-(アミノメチル)シクロブタンアミン二塩酸塩(230mg、1.33mmol)およびトリエチルアミン(0.75ml、5.42mmol)を加え100度で6時間撹拌した。室温に放冷後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-840(74mg、73%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.62-1.68 (m, 2H), 2.07-2.16 (m, 2H), 2.20-2.31 (m, 2H), 3.68 (s, 2H), 7.24-7.45 (m, 4H), 7.39-7.46 (m, 3H), 7.82 (s, 1H), 7.93 (s, 1H), 8.00-8.04 (m, 1H), 8.61 (d, J = 7.5 Hz, 1H).
実施例 63
[0391]
化合物I-841の合成
[化117]



工程1: 
 化合物841a(1g、2.35mmol)にテトラヒドロフラン(10mL)、BocO(2.05g、9.41mmol)、トリエチルアミン(952mg、9.41mmol)およびDMAP(287mg、2.35mmol)を加え、室温で終夜撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物841b(1193mg、93%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:2.79 分、 [M+H]+:544
[0392]
工程2: 
 化合物841b(327mg、0.6mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶解させ、イソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体のテトラヒドロフラン溶液(0.69ml、0.9mmol)を-30度で加え、-30度で1時間撹拌した。2-メチル-3-ホルミルピリジン(160mg、1.32mmol)を-30度で加え、室温まで昇温し、1時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物841c(95mg、27%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:1.71 分、 [M+H]+:587
[0393]
工程3: 
 化合物841c(90mg、0.15mmol)をトリフルオロ酢酸(5mL)に溶解させ、室温で2時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物841d(48mg、81%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:0.65 分、 [M+H]+:387
[0394]
工程4: 
化合物841d(36mg、0.093mmol)をテトラヒドロフラン(5mL)に溶解させ、二酸化マンガン(81mg、0.93mmol)を加え、65度で6時間撹拌した。不溶物をセライトろ過によって除去し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-841(12mg、34%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.76-1.78 (m, 2H), 2.58 (s, 3H), 3.28-3.35 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.44 (dd, J = 7.7, 4.9 Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.31-8.36 (m, 1H), 8.60 (s, 1H), 8.67 (d, J = 4.8 Hz, 1H).
実施例 64
[0395]
化合物I-842の合成
[化118]



工程1:化合物842bの合成 
 化合物842a(100mg、0.64mmol)のDMF(1mL)溶液に、1-ブロモ-2-メトキシエタン(107mg、0.77mmol)および炭酸カリウム(212mg、1.54mmol)を加え、65℃で6時間撹拌した。室温まで放冷し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物842b(116mg、85%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:1.30 分、 [M+H]:215
[0396]
工程2:化合物842cの合成 
 化合物842b(116mg、0.54mmol)のエタノール(3mL)溶液に、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(3mL)を加え、6時間加熱還流した。水を加え、2mol/L塩酸水溶液でpHを2に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をDMF(1mL)に溶解させ、CDI(138mg、0.38mmol)を加え、室温で30分撹拌した。28%アンモニア水溶液(1ml)加え、さらに室温で30分撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物842c(75mg、88%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.43 (s, 3H), 3.71-3.73 (m, 2H), 4.02 (s, 3H), 4.30-4.33 (m, 2H), 5.93 (s, 1H).
[0397]
工程3:化合物842dの合成 
 化合物842c(74mg、0.37mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液に、ローソン試薬(180mg、0.45mmol)を加え、室温で終夜撹拌した。水(5ml)および重曹水(5ml)を加え、室温で30分撹拌した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物842d(40mg、50%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 3.28 (s, 3H), 3.59-3.61 (m, 2H), 3.89 (s, 3H), 4.14-4.17 (m, 2H), 5.99 (s, 1H), 9.43 (s, 1H), 9.93 (s, 1H).
[0398]
工程4:化合物I-842の合成 
 化合物842dおよび化合物10fを用いて、実施例10の工程6と同様の方法で化合物I-842(35mg、45%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.80-1.87 (m, 2H), 3.29-3.42 (m, 7H), 3.62-3.65 (m, 2H), 4.09 (s, 3H), 4.20-4.22 (m, 2H), 6.31 (s, 1H), 7.10 (s, 1H), 8.13 (s, 1H), 8.25 (s, 2H).
実施例 65
[0399]
化合物I-843の合成
[化119]



工程1: 
 実施例10と同様の方法で合成した化合物843a(20mg、0.056mmol)をDMF(0.5mL)に懸濁させ、水素化ナトリウム(4.9mg、0.122mmol)を加え80度で10分間撹拌した。1-クロロ-2-メトキシエタン(6.8mg、0.072mmol)を加え100度で2時間撹拌した。放冷後、重曹水を加え、10%メタノール/クロロホルム溶液で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-843(14mg、62%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:1.79 分、 [M+H]+:418
実施例 66
[0400]
化合物I-844の合成
[化120]



工程1 化合物844bの合成
化合物844a(300mg、1.37mmol)に、エタノール(8mL)、(2、4-ジメチルフェニルボロン酸(247mg、1.64mmol)、PdCl2(dppf)ジクロロメタン錯体(56mg、0.068mmol)および2mol/Lの炭酸ナトリウム水溶液(2.74mL、5.48mmol)を加え、12時間加熱還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物844b(68mg、19%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:2.12 分、 [M+H]+:259
[0401]
工程2 化合物I-844の合成
 化合物844bおよび化合物45cを用いて、実施例39の工程2と同じ方法で化合物I-844(51mg、53%)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.76-1.84 (m, 2H), 2.16 (s, 3H), 2.34 (s, 3H), 3.27-3.35 (m, 4H), 3.53 (s, 3H), 6.77 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.18 (s, 1H), 7.23 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.29 (s, 1H), 8.21 (s, 2H).
実施例 67
[0402]
化合物I-845の合成
[化121]



工程1: 
 実施例56の工程1と同様の方法で合成した化合物845a(29mg、0.11mmol)と化合物45cから実施例39の工程2と同じ方法によって化合物I-845(16mg、40%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.93-1.99 (m, 2H), 2.11 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.59 (s, 3H), 3.38-3.44 (m, 4H), 6.49 (s, 1H), 7.06 (t, J = 8.6 Hz, 2H), 7.35 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.51 (d, J = 6.5 Hz, 1H).
実施例 68
[0403]
化合物I-846の合成
[化122]



工程1 化合物846bの合成
化合物846a(465mg、1.85mmol)に、エタノール(10mL)、3-ブロモ-2、6-ジメチルピリジン(379mg、2.04mmol)、PdCl2(dppf)ジクロロメタン錯体(76mg、0.093mmol)および2mol/Lの炭酸ナトリウム水溶液(2mL)を加え、6時間加熱還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物846b(150mg、35%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:2.61 分、 [M+H]+:230
[0404]
工程2 化合物846cの合成
 化合物846b(104mg、0.45mmol)をテトラヒドロフラン(3mL)に溶解し、水素化ナトリウム(22mg、0.54mmol)およびヨウ化メチル(0.034mL、0.54mmol)を加え、100度で5時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン―酢酸エチル)により精製し、化合物846c(31mg、28%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.11 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.65 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 6.05 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 7.02-7.14 (m, 3H), 7.28 (s, 1H).
[0405]
工程3 化合物I-846の合成
 化合物846cおよび化合物45cを用いて実施例39の工程2と同じ方法で化合物I-846(18mg、39%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ:1.94-2.02 (m, 2H), 2.21 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.40-3.46 (m, 4H), 3.49 (s, 3H), 6.07 (d, J = 3.8 Hz, 1H), 6.47 (d, J = 3.5 Hz, 1H), 6.50 (s, 1H), 7.05 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.11 (s, 1H), 7.17 (d, J = 7.6 Hz, 1H).
実施例 69
[0406]
化合物I-847の合成
[化123]



工程1: 
 化合物847a(842mg、2.59mmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に懸濁させ、0度でトリエチルアミン(1.08ml、7.76mmol)およびメタンスルホニルクロライド(356mg、0.24mmol)を加えた。室温まで昇温し、2時間撹拌した。反応液に水を加え、得られた沈殿物をろ取し、粗精製物として化合物847b(920mg、88%)を得た。LCMS (測定条件A); 保持時間:1.25 分、 [M+H]+:404
[0407]
工程2: 
 化合物847b(31mg、0.077mmol)をDMA(1mL)に溶解させ、2、6-ジメチルピリジン(19mg、0.154mmol)および炭酸カリウム(53mg、0.39mmol)を加え、100度で2時間撹拌した。放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム―メタノール)により精製し、化合物I-847(8mg、24%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.96-2.04 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.43-3.49 (m, 4H), 4.33 (t, J = 4.7 Hz, 2H), 4.84 (t, J = 4.7 Hz, 2H), 6.88-6.94 (m, 3H), 7.05 (d, J = 8.3 Hz, 1H).
[0408]
 上記実施例に従い、以下の化合物を合成した。
[表1]


[0409]
[表2]


[0410]
[表3]


[0411]
[表4]


[0412]
[表5]


[0413]
[表6]


[0414]
[表7]


[0415]
[表8]


[0416]
[表9]


[0417]
[表10]


[0418]
[表11]


[0419]
[表12]


[0420]
[表13]


[0421]
[表14]


[0422]
[表15]


[0423]
[表16]


[0424]
[表17]


[0425]
[表18]


[0426]
[表19]


[0427]
[表20]


[0428]
[表21]


[0429]
[表22]


[0430]
[表23]


[0431]
[表24]


[0432]
[表25]


[0433]
[表26]


[0434]
[表27]


[0435]
[表28]


[0436]
[表29]


[0437]
[表30]


[0438]
[表31]


[0439]
[表32]


[0440]
[表33]


[0441]
[表34]


[0442]
[表35]


[0443]
[表36]


[0444]
[表37]


[0445]
[表38]


[0446]
[表39]


[0447]
[表40]


[0448]
[表41]


[0449]
[表42]


[0450]
[表43]


[0451]
[表44]


[0452]
[表45]


[0453]
[表46]


[0454]
[表47]


[0455]
[表48]


[0456]
[表49]


[0457]
[表50]


[0458]
[表51]


[0459]
[表52]


[0460]
[表53]


[0461]
[表54]


[0462]
[表55]


[0463]
[表56]


[0464]
[表57]


[0465]
[表58]


[0466]
[表59]


[0467]
[表60]


[0468]
[表61]


[0469]
[表62]


[0470]
[表63]


[0471]
[表64]


[0472]
[表65]


[0473]
[表66]


[0474]
[表67]


[0475]
[表68]


[0476]
[表69]


[0477]
[表70]


[0478]
[表71]


[0479]
[表72]


[0480]
[表73]


[0481]
[表74]


[0482]
[表75]


[0483]
[表76]


[0484]
[表77]


[0485]
[表78]


[0486]
[表79]


[0487]
[表80]


[0488]
[表81]


[0489]
[表82]


[0490]
[表83]


[0491]
[表84]


[0492]
[表85]


[0493]
[表86]


[0494]
[表87]


[0495]
[表88]


[0496]
[表89]


[0497]
[表90]


[0498]
[表91]


[0499]
[表92]


[0500]
[表93]


[0501]
[表94]


[0502]
[表95]


[0503]
[表96]


[0504]
[表97]


[0505]
[表98]


[0506]
[表99]


[0507]
[表100]


[0508]
[表101]


[0509]
[表102]


[0510]
[表103]


[0511]
[表104]


[0512]
[表105]


[0513]
[表106]


[0514]
[表107]


[0515]
[表108]


[0516]
[表109]


[0517]
[表110]


[0518]
[表111]


[0519]
[表112]


[0520]
[表113]


[0521]
[表114]


[0522]
[表115]


[0523]
[表116]


[0524]
[表117]


[0525]
[表118]


[0526]
[表119]


[0527]
[表120]


[0528]
[表121]


[0529]
[表122]


[0530]
[表123]


[0531]
[表124]


[0532]
[表125]


[0533]
[表126]


[0534]
[表127]


[0535]
[表128]


[0536]
[表129]


[0537]
[表130]


[0538]
[表131]


[0539]
[表132]


[0540]
[表133]


[0541]
[表134]


[0542]
[表135]


[0543]
[表136]


[0544]
[表137]


[0545]
[表138]


[0546]
[表139]


[0547]
[表140]


[0548]
[表141]


[0549]
[表142]


[0550]
[表143]


[0551]
[表144]


[0552]
[表145]


[0553]
[表146]


[0554]
[表147]


[0555]
[表148]


[0556]
[表149]


[0557]
[表150]


[0558]
[表151]


[0559]
[表152]


[0560]
[表153]


[0561]
[表154]


[0562]
[表155]


[0563]
[表156]


[0564]
[表157]


[0565]
[表158]


[0566]
[表159]


[0567]
[表160]


[0568]
[表161]


[0569]
[表162]


[0570]
[表163]


[0571]
[表164]


[0572]
[表165]


[0573]
[表166]


[0574]
[表167]


[0575]
[表168]


[0576]
[表169]



[表170]



[表171]



[表172]


[0577]
上記実施例に従い、下記の参考例を合成した。
[表173]


[0578]
 以下に各化合物のH-NMR分析結果を示す。
化合物I-93:1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.79-1.84 (2H, m), 3.26-3.40 (4H, m), 6.94 (1H, s), 7.66 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 8.19 (br, 2H).
化合物I-706:1H-NMR(DMSO-D6)δ 1.08-1.19(m, 4H), 1.84(s, 2H), 2.93-2.95(m, 1H), 3.34(s, 4H), 7.15(s, 1H), 8.04(d, 2H, J=8.0Hz) 8.24(d, 2H, J=7.2Hz), 8.27(br, 3H).
化合物I-740:1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.84(s, 2H), 3.34(s, 4H), 3.40(s, 3H), 7.18(s, 1H), 8.00(t, 1H, J=7.8Hz), 8.07(d, 1H, J=8.4Hz), 8.13(d, 1H, J=11.2 Hz), 8.28(br, 3H).
化合物I-763:1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.84(s, 2H), 3.34(s, 4H), 3.44(s, 3H), 7.20(s, 1H), 8.20(q, 2H, J=8.4Hz), 8.26(br, 2H), 8.28(s, 1H), 8.31(s,1H).
[0579]
 次に、本発明の代表的化合物の有用性を以下の試験例で説明する。
試験例1:MIC試験方法
被験物質の抗真菌活性評価は、Clinical and Laboratory Standards Institute(CLSI)が推奨する微量液体希釈法を用いて測定した。測定用培地は酵母培養用の最小合成培地(2%グルコース、0.67 % yeast nitrogen base w/o amino acid、0.2 %アミノ酸・ヌクレオチドミックス)にモルホリンプロパンスルホン酸(MOPS,終濃度50 mM)を加えて緩衝液とし、1 M水酸化ナトリウムを添加してpH 7.0 に調整したものを用いた(YNB/MOPS)。被験薬剤はDMSOを用いて2倍段階希釈し、96ウェルマイクロプレートの各ウェルに2μL分注した。サブロ一寒天培地にて35℃で一晩培養したCandida albicans ATCC MYA-574(fluconazole耐性株)を滅菌生理食塩液に懸濁後、分光光度計で濁度を測定し、菌懸濁液をYNB/MOPSで希釈して接種菌液(約2.5 × 103 CFU/mL)を調製した。-80℃に保存されているAspergillus fumigatus ATCC204305、Aspergillus flavus IFM50915およびAspergillus terreus IFM46871をYNB/MOPSで希釈し、接種菌液(1×104 CFU/mL)を調製した。接種菌液198μLを各ウェルに分注し、所定濃度の被験物質、培地および菌体が含まれるマイクロプレー卜を作製した。Candida albicans は35℃ で1日間培養、Aspergillus fumigatus、Aspergillus flavusおよびAspergillus terreus は35℃ で2日間培養した後、MIC判定を行った。Candida albicansのMICは被験物質無添加の対照にくらべ、濁度で50%以上発育阻害する最小濃度とした。Aspergillus fumigatus とAspergillus terreusのMICは目視で100%、Aspergillus flavusのMICは目視で50%発育阻害する最小濃度とした。Aspergillus fumigatusについては、YNB/MOPS培地に50% bovine serum(BS)を添加した条件でのMIC測定も行った。
用いた菌株および条件を表174に示す。
[表174]


[0580]
比較化合物は、下式の化合物を用いた。
[化124]



菌・株番号1のMIC測定結果を表175~182に示す。
[表175]



[表176]



[表177]



[表178]



[表179]


[表180]



[表181]



[表182]


[0581]
菌・株番号2のMIC測定結果を表183~189に示す。
[表183]



[表184]



[表185]



[表186]



[表187]


[表188]



[表189]


[0582]
菌・株番号3のMIC測定結果を表190~194に示す。
[表190]



[表191]



[表192]



[表193]



[表194]


[0583]
菌・株番号4のMIC測定結果を表195および表196に示す。
[表195]



[表196]


[0584]
菌・株番号5のMIC測定結果を表197および表198に示す。
[表197]



[表198]


[0585]
試験例2:CYP阻害試験
 市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要CYP5分子種(CYP1A2、2C9、2C19、2D6、3A4)の典型的基質代謝反応として7-エトキシレゾルフィンのO-脱エチル化(CYP1A2)、トルブタミドのメチル-水酸化(CYP2C9)、メフェニトインの4’-水酸化(CYP2C19)、デキストロメトルファンのO脱メチル化(CYP2D6)、テルフェナジンの水酸化(CYP3A4)を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明化合物によって阻害される程度を評価した。
[0586]
 反応条件は以下のとおり:基質、0.5μmol/L エトキシレゾルフィン(CYP1A2)、100μmol/L トルブタミド(CYP2C9)、50μmol/L S-メフェニトイン(CYP2C19)、5μmol/L デキストロメトルファン(CYP2D6)、1μmol/L テルフェナジン(CYP3A4);反応時間、15分;反応温度、37℃;酵素、プールドヒト肝ミクロソーム0.2mg タンパク質/mL;本発明化合物濃度、1、5、10、20μmol/L(4点)。
[0587]
 96穴プレートに反応溶液として、50mmol/L Hepes緩衝液中に各5種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明化合物を上記組成で加え、補酵素であるNADPHを添加して、指標とする代謝反応を開始した。37℃、15分間反応した後、メタノール/アセトニトリル=1/1(V/V)溶液を添加することで反応を停止した。3000rpm、15分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン(CYP1A2代謝物)を蛍光マルチラベルカウンタで定量し、トルブタミド水酸化体(CYP2C9代謝物)、メフェニトイン4’水酸化体(CYP2C19代謝物)、デキストロルファン(CYP2D6代謝物)、テルフェナジンアルコール体(CYP3A4代謝物)をLC/MS/MSで定量した。
[0588]
 本発明化合物を溶解した溶媒であるDMSOのみを反応系に添加したものをコントロール(100%)とし、溶媒に加えた本発明化合物の各濃度における残存活性(%)を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりIC50を算出した。
[0589]
試験例3:BA試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
(1)使用動物:マウスあるいはSDラットを使用した。
(2)飼育条件:マウスあるいはSDラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させた。
(3)投与量、群分けの設定:経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与した。以下のように群を設定した。(化合物ごとで投与量は変更有)
 経口投与 1~30mg/kg(n=2~3)
 静脈内投与 0.5~10mg/kg(n=2~3)
(4)投与液の調製:経口投与は溶液または懸濁液として投与した。静脈内投与は可溶化して投与した。
(5)投与方法:経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与した。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与した。
(6)評価項目:経時的に採血し、血漿中本発明化合物濃度をLC/MS/MSを用いて測定した。
(7)統計解析:血漿中本発明化合物濃度推移について、非線形最小二乗法プログラムWinNonlin(登録商標)を用いて血漿中濃度‐時間曲線下面積(AUC)を算出し、経口投与群と静脈内投与群のAUCから本発明化合物のバイオアベイラビリティ(BA)を算出した。
[0590]
試験例4:代謝安定性試験
 市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明化合物が肝で代謝される程度を評価した。
[0591]
 ヒト肝ミクロソーム0.5mgタンパク質/mLを含む0.2mLの緩衝液(50mmol/L Tris-HCl pH7.4、150mmol/L 塩化カリウム、10mmol/L 塩化マグネシウム)中で、1mmol/L NADPH存在下で37℃、0分あるいは30分間反応させた(酸化的反応)。反応後、メタノール/アセトニトリル=1/1(v/v)溶液の100μLに反応液50μLを添加、混合し、3000rpmで15分間遠心した。その遠心上清中の本発明化合物をLC/MS/MSにて定量し、反応後の本発明化合物の残存量を0分反応時の化合物量を100%として計算した。なお、加水分解反応はNADPH非存在下で、グルクロン酸抱合反応はNADPHに換えて5mmol/L UDP-グルクロン酸の存在下で反応を行い、以後同じ操作を実施することができる。
[0592]
試験例5:CYP3A4蛍光MBI試験
 CYP3A4蛍光MBI試験は、代謝反応による本発明化合物のCYP3A4阻害の増強を調べる試験である。CYP3A4酵素(大腸菌発現酵素)により7-ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン(7-BFC)が脱ベンジル化されて、蛍光を発する代謝物7-ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン(7-HFC)が生じる。7-HFC生成反応を指標としてCYP3A4阻害を評価した。
[0593]
 反応条件は以下のとおり:基質、5.6μmol/L 7-BFC;プレ反応時間、0または30分;反応時間、15分;反応温度、25℃(室温);CYP3A4含量(大腸菌発現酵素)、プレ反応時62.5pmol/mL、反応時6.25pmol/mL(10倍希釈時);本発明化合物濃度、0.625、1.25、2.5、5、10、20μmol/L(6点)。
[0594]
 96穴プレートにプレ反応液としてK-Pi緩衝液(pH7.4)中に酵素、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の96穴プレートに基質とK-Pi緩衝液で1/10希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるNADPHを添加して指標とする反応を開始し(プレ反応無)、所定の時間反応後、アセトニトリル/0.5mol/L Tris(トリスヒドロキシアミノメタン)=4/1(V/V)を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもNADPHを添加しプレ反応を開始し(プレ反応有)、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とK-Pi緩衝液で1/10希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、アセトニトリル/0.5mol/L Tris(トリスヒドロキシアミノメタン)=4/1(V/V)を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である7-HFCの蛍光値を測定した。(Ex=420nm、Em=535nm)
[0595]
 本発明化合物を溶解した溶媒であるDMSOのみを反応系に添加したものをコントロール(100%)とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性(%)を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりIC50を算出した。IC50値の差が5μmol/L以上の場合を(+)とし、3μmol/L以下の場合を(-)とした。
[0596]
試験例6:Fluctuation Ames Test
 本発明化合物の変異原性を評価した。
[0597]
 凍結保存しているネズミチフス菌(Salmonella typhimurium TA98株、TA100株)20μLを10mL液体栄養培地(2.5% Oxoid nutrient broth No.2)に接種し37℃にて10時間、振盪前培養した。TA98株は9mLの菌液を遠心(2000×g、10分間)して培養液を除去した。9mLのMicro F緩衝液(KHPO:3.5g/L、KHPO:1g/L、(NHSO:1g/L、クエン酸三ナトリウム二水和物:0.25g/L、MgSO・7H0:0.1g/L)に菌を懸濁し、110mLのExposure培地(ビオチン:8μg/mL、ヒスチジン:0.2μg/mL、グルコース:8mg/mLを含むMicroF緩衝液)に添加した。TA100株は3.16mL菌液に対しExposure培地120mLに添加し試験菌液を調製した。本発明化合物DMSO溶液(最高用量50mg/mLから2~3倍公比で数段階希釈)、陰性対照としてDMSO、陽性対照として非代謝活性化条件ではTA98株に対しては50μg/mLの4-ニトロキノリン-1-オキシドDMSO溶液、TA100株に対しては0.25μg/mLの2-(2-フリル)-3-(5-ニトロ-2-フリル)アクリルアミドDMSO溶液、代謝活性化条件ではTA98株に対して40μg/mLの2-アミノアントラセンDMSO溶液、TA100株に対しては20μg/mLの2-アミノアントラセンDMSO溶液それぞれ12μLと試験菌液588μL(代謝活性化条件では試験菌液498μLとS9 mix 90μLの混合液)を混和し、37℃にて90分間、振盪培養した。本発明化合物を暴露した菌液460μLを、Indicator培地(ビオチン:8μg/mL、ヒスチジン:0.2μg/mL、グルコース:8mg/mL、ブロモクレゾールパープル:37.5μg/mLを含むMicroF緩衝液)2300μLに混和し50μLずつマイクロプレート48ウェル/用量に分注し、37℃にて3日間、静置培養した。アミノ酸(ヒスチジン)合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、pH変化により紫色から黄色に変色するため、1用量あたり48ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価した。変異原性が陰性のものを(-)、陽性のものを(+)として示す。
[0598]
試験例7:hERG試験
 本発明化合物の心電図QT間隔延長リスク評価を目的として、human ether-a-go-go related gene (hERG)チャンネルを発現させたHEK293細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流K電流(IKr)への本発明化合物の作用を検討した。
[0599]
 全自動パッチクランプシステム(PatchXpress 7000A、AxonInstruments Inc.)を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を-80mVの膜電位に保持した後、+40mVの脱分極刺激を2秒間、さらに-50mVの再分極刺激を2秒間与えた際に誘発されるIKrを記録した。発生する電流が安定した後、本発明化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液(NaCl:135 mmol/L、KCl:5.4 mmol/L、NaHPO:0.3mmol/L、CaCl・2HO:1.8mmol/L、MgCl・6HO:1mmol/L、グルコース:10mmol/L、HEPES(4-(2-ヒドロキシエチル)-1-ピペラジンエタンスルホン酸):10mmol/L、pH=7.4)を室温で、10分間細胞に適用させた。得られたIKrから、解析ソフト(DataXpress ver.1、Molecular Devices Corporation)を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測した。さらに、本発明化合物適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群(0.1%ジメチルスルホキシド溶液)と比較して、本発明化合物のIKrへの影響を評価した。
[0600]
試験例8:溶解性試験
 本発明化合物の溶解度は、1%DMSO添加条件下で決定した。DMSOにて10mmol/L化合物溶液を調製し、本発明化合物溶液6 μLをpH6.8人工腸液(0.2mol/L リン酸二水素カリウム試液 250mLに0.2mol/L NaOH試液118mL、水を加えて1000mLとした)594μLに添加した。25℃で16時間静置させた後、混液を吸引濾過した。濾液をメタノール/水=1/1(V/V)にて2倍希釈し、絶対検量線法によりHPLCまたはLC/MS/MSを用いて濾液中濃度を測定した。
[0601]
試験例9:粉末溶解度試験
 適当な容器に本発明化合物を適量入れ、各容器にJP-1液(塩化ナトリウム2.0g、塩酸7.0mLに水を加えて1000mLとする)、JP-2液(pH6.8のリン酸塩緩衝液500mLに水500mLを加える)、20mmol/L タウロコール酸ナトリウム(TCA)/JP-2液(TCA1.08gにJP-2液を加え100mLとする)を200μLずつ添加する。試験液添加後に全量溶解した場合には、適宜、本発明化合物を追加する。密閉して37℃で1時間振とう後に濾過し、各濾液100μLにメタノール100μLを添加して2倍希釈を行う。希釈倍率は、必要に応じて変更する。気泡および析出物がないことを確認し、密閉して振とうする。絶対検量線法によりHPLCを用いて本発明化合物を定量する。
[0602]
試験例10:目視溶解性試験
化合物約5mg微量試験管3本に秤量し、各媒体(注射用水、生食注、0.5%ブドウ糖液)を化合物濃度20%になるように添加する。ボルテックスにて撹拌後、目視にて溶解の有無を確認する。溶解していればその媒体での溶解度を>20%とする。それら試験液に各媒体(注射用水、生食注、ブドウ糖液)を更に加えて化合物濃度10%の試験液を調製し、ボルテックスにて撹拌後、目視にて溶解の有無を確認する。溶解していればその媒体での溶解度を20%~10%とする。同様に5%濃度、2.5%濃度、1%濃度まで試験をし、1%濃度で溶解しない場合はその媒体での溶解度を<1%とする。1%濃度の試験液でのpHを測定し、記録する。 
[0603]
試験例11:pKa測定(キャピラリー電気泳動法 (capillary electrophoresis法,CE法)の測定方法)
キャピラリーゾーン電気泳動技術を用いた手法で,電解質を含む緩衝液中での各試料成分の自由泳動を利用した分離方法である。
pH2.5~11.5に調製した緩衝液が充填されたフューズドシリカキャピラリーに、化合物溶液を注入した後、キャピラリーに高電圧 (Inlet側+,Outlet側-) をかけると、化合物は緩衝液pHにおけるイオン化状態を反映した速度 (+チャージした化合物は速く、-チャージした化合物は遅く) で移動する。この化合物の移動時間と中性分子 (DMSO) の移動時間との差をpHに対してプロットし、フィッティングをかけてpKaを算出した。測定条件を以下に示す。
使用装置:Beckman P/ACEシステムMDQ PDA
泳動液:pH2.5~11.5 Buffer (10vol% MeOH含有)
サンプル溶液:    Blank DMSO 10μL+注用水90μL混合
           Sample 10mM DMSO stock solution 4uL + DMSO 6uL + 注用水 90uL
(メソッド)
キャピラリー    :Fused silica capillary (BECKMAN COULTER,内径50 μm,全長30.2 cm,有効長20.0 cm)
印加電圧     :10kV (331 V/cm)
印加空気圧    :0.7 psi
キャピラリー温度   :25°C
電気浸透流マーカー  :DMSO
検出      :紫外部多波長吸光検出 (測定波長;215 nm,238 nm)
試料注入     :加圧法 (0.5 psi,5 sec)
[0604]
製剤例
 以下に示す製剤例は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。
製剤例1: 錠剤
 本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを混合し、破砕造粒して乾燥し、適当な大きさの顆粒剤とする。次にステアリン酸カルシウムを添加して圧縮成形して錠剤とする。
[0605]
製剤例2: カプセル剤
 本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合して粉末または細粒状として散剤をつくる。それをカプセル容器に充填してカプセル剤とする。
[0606]
製剤例3: 顆粒剤
 本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合し、圧縮成型した後、粉砕、整粒し、篩別して適当な大きさの顆粒剤とする。
[0607]
製剤例4: 口腔内崩壊錠
 本発明化合物および結晶セルロースを混合し、造粒後打錠して口腔内崩壊錠とする。
[0608]
製剤例5: ドライシロップ
 本発明化合物および乳糖を混合し、粉砕、整粒、篩別して適当な大きさのドライシロップとする。
[0609]
製剤例6: 注射剤
 本発明化合物およびリン酸緩衝液を混合し、注射剤とする。
[0610]
製剤例7: 点滴剤
 本発明化合物およびリン酸緩衝液を混合し、点滴剤とする。
[0611]
製剤例8: 吸入剤
 本発明化合物および乳糖を混合し細かく粉砕することにより、吸入剤とする。
[0612]
製剤例9: 軟膏剤
 本発明化合物およびワセリンを混合し、軟膏剤とする。
[0613]
製剤例10: 貼付剤
 本発明化合物および粘着プラスターなどの基剤を混合し、貼付剤とする。

産業上の利用可能性

[0614]
式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、優れた抗真菌活性を有し、抗真菌剤として有用である。また、別の態様では、式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、安全性にも優れ、カンジダ属菌およびアルペルギルス属菌に対する抗真菌剤として有用である。

請求の範囲

[請求項1]
式(I):
[化1]



(式中、Zは-CR-であり、
はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、
隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成するか、
はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであるか、
同一炭素原子に結合するRおよびRが、該炭素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、
または、
同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソ、置換もしくは非置換のアルキルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ、または置換もしくは非置換のメチリデンを形成し、
Gは置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式(I-G1):
[化2]



(式中、
およびRについては、
a)RおよびRが隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、
b)RおよびRが一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成し、
X’はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。)
で示される基であり、
nは2~5の整数である。
ただし、
Gの炭素環式基がフェニルの場合、
i)該フェニル基は少なくとも1つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく、および/または
ii)該フェニル基の少なくとも1つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、かつ、
以下の化合物(A-1)~(A-34)を除く。
[化3]




[化4]



[化5]



)で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項2]
Gが式(I-G1):
[化6]



(式中、各記号は前記と同意義である。)で示される基
または式(I-G2):
[化7]



(式中、
Yは炭素環または複素環であり、mは0~5であり、
Xはそれぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。)で示される基である、請求項1記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項3]
Gが式(I-G2)で示される基である、請求項1記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項4]
Yが複素環である、請求項3記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項5]
nが2または3である、請求項1~4のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項6]
nが3である、請求項5記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項7]
式:
[化8]



が、式:
[化9]



(式中、各定義は前記と同意義である。)
である、請求項5記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項8]
がそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、隣接しない炭素原子に結合する2つのRが一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、Rがそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、同一炭素原子に結合するRおよびRが隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するRおよびRが一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである、請求項1~7のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項9]
Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシである、請求項2~8のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項10]
Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、mが1または2である、請求項2~8のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項11]
Yが芳香族炭素環であり、mが2であり、Xがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキル、置換もしくは非置換の複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである、請求項2、3、および5~10のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
[請求項12]
化合物I-0004、I-0034、I-0084、I-0159、I-0183、I-0251、I-0332、I-0355、I-0376、I-0382、I-0474、I-0478、I-0609、I-0616、I-0650、I-0829、I-0830、I-0842、I-0845、I-0856、I-0874、I-0894、I-0911、I-0932、I-0937、I-0958、およびI-1052から選択される、請求項1記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
[請求項13]
請求項1~12のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
[請求項14]
抗真菌作用を有する、請求項13記載の医薬組成物。
[請求項15]
請求項1~12のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、真菌感染に関連する疾患の治療またはその予防方法。
[請求項16]
真菌感染に関連する疾患を治療または予防するための、請求項1~12のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。