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1. (WO2016098399) HALOGEN-CONTAINING TIN OXIDE PARTICLES AND PRODUCTION METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/098399    International Application No.:    PCT/JP2015/075154
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 04.09.2015
IPC:
C01G 19/02 (2006.01)
Applicants: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-11-1 Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP)
Inventors: YONEDA, Yoshihiro; (JP).
AOKI, Akira; (JP).
SUZUOKA, Kenji; (JP)
Agent: SHOWA INTERNATIONAL PATENT FIRM; (JP)
Priority Data:
2014-257249 19.12.2014 JP
Title (EN) HALOGEN-CONTAINING TIN OXIDE PARTICLES AND PRODUCTION METHOD THEREOF
(FR) PARTICULES D'OXYDE D'ÉTAIN CONTENANT DE L'HALOGÈNE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ハロゲン含有酸化スズ粒子及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)These halogen-containing tin oxide particles have a BET specific surface area of 25-100 m²/g and a crystallite diameter of 8-30 nm. The particles optimally contain 0.01-0.75 mass% halogen. Fluorine is optimally contained as the halogen. Optimally, the particles additionally contain tantalum, niobium, phosphorous, antimony, tungsten or molybdenum. The volume resistivity is optimally 0.1-1000 Ω⋅cm.
(FR)Ces particules d'oxyde d'étain contenant de l'halogène ont une surface spécifique BET de 25 à 100 m²/g et un diamètre de cristallite de 8 à 30 nm. Les particules contiennent de manière optimale 0,01 à 0,75 % en masse d'halogène. Du fluor y est contenu de manière optimale comme l'halogène. De façon optimale, les particules contiennent en outre du tantale, du niobium, du phosphore, de l'antimoine, du tungstène ou du molybdène. La résistivité volumique est, de manière optimale de 0,1 à 1000 Ω⋅cm.
(JA) ハロゲン含有酸化スズ粒子は、BET比表面積が25m/g以上100m/g以下であり、結晶子径が8nm以上30nm以下である。ハロゲンを0.01質量%以上0.75質量%以下含有することが好適である。ハロゲンとしてフッ素を含有することも好適である。更にタンタル、ニオブ、リン、アンチモン、タングステン又はモリブデンを含有することも好適である。体積抵抗率が0.1Ω・cm以上1000Ω・cm以下であることも好適である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)