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1. (WO2016097658) METHOD FOR MANUFACTURING A PHOTONIC WAVEGUIDE AND PHOTONIC WAVEGUIDE MANUFACTURED BY SAID METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/097658    International Application No.:    PCT/FR2015/053657
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 18.12.2015
IPC:
G02B 6/30 (2006.01), G02B 6/122 (2006.01), G02B 6/13 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITÉ DE FRANCHE-COMTÉ [FR/FR]; 1 rue Claude Goudimel 25000 Besançon (FR).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3 rue Michel-Ange 75016 Paris (FR)
Inventors: COURJAL, Nadège; (FR).
HENROT, Fabien; (FR).
FIZAINE, Étienne; (FR).
GUYOT, Clément; (FR)
Agent: NOVAGRAAF TECHNOLOGIES; Bâtiment O2 2 rue Sarah Bernhardt CS 90017 92665 Asnières-sur-seine Cedex (FR)
Priority Data:
1463008 19.12.2014 FR
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A PHOTONIC WAVEGUIDE AND PHOTONIC WAVEGUIDE MANUFACTURED BY SAID METHOD
(FR) MÉTHODE DE FABRICATION D'UN GUIDE PHOTONIQUE ET GUIDE PHOTONIQUE FABRIQUÉ PAR CETTE MÉTHODE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for manufacturing a photonic waveguide including the following steps: forming (100) an optical waveguide on a first surface (S1) of a dielectric substrate (10); thinning (200) the dielectric substrate (10) in order to form a photonic waveguide; characterised in that the thinning is carried out by cutting a second surface (S2) of the dielectric substrate (10) opposite the first surface (S1), the thinned section comprising a recess (15) with a profile which is parallel to the optical waveguide, the depth of the recess (15) varying continuously and gradually between a first point P1 with depth zero at the second surface (S2) and a maximum depth (e) at a predetermined distance (Iq) from the first end of the photonic waveguide intended for receiving the optical fibre, the variation of the depth of the recess (15) forming a vertical optical mode transition area (16) with length (Iq) between the photonic waveguide and the optical fibre.
(FR)Méthode de fabrication d'un guide photonique comportant les étapes suivantes: -formation (100) d'un guide d'onde optique sur une première surface (S1) d'un substrat diélectrique (10); -amincissement (200) du substrat diélectrique (10) pour former un guide photonique; caractérisée en ce que l'amincissement est effectué par découpage d'une seconde surface (S2) du substrat diélectrique (10) opposée à la première surface (S1), l'amincissement comprenant un évidement (15) dont le profil est parallèle au guide d'onde optique, la profondeur de l'évidement (15) évoluant continument et progressivement entre un premier point P1 de profondeur nulle à la hauteur de la seconde surface (S2), et une profondeur maximale (e) à une distance prédéterminée (Iq) de la première extrémité du guide photonique destinée à recevoir la fibre optique, l'évolution de la profondeur de l'évidement (15) formant une zone de transition verticale (16) de mode optique de longueur (Iq) entre le guide photonique et la fibre optique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)