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1. (WO2016096946) SUBSTRATE HOLDER FOR VERTICAL GALVANIC METAL DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/096946    International Application No.:    PCT/EP2015/079932
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 16.12.2015
Chapter 2 Demand Filed:    17.10.2016    
IPC:
C25D 17/00 (2006.01), C25D 17/06 (2006.01)
Applicants: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE/DE]; Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Inventors: FENDEL, Arnulf; (DE).
RAUENBUSCH, Ralph; (DE).
BUSSENIUS, Tobias; (DE)
Agent: WONNEMANN, Jörg; (DE)
Priority Data:
14199449.1 19.12.2014 EP
Title (EN) SUBSTRATE HOLDER FOR VERTICAL GALVANIC METAL DEPOSITION
(FR) PORTE-SUBSTRAT POUR LE DÉPÔT GALVANIQUE VERTICAL DE MÉTAL
Abstract: front page image
(EN)The present invention is related to a substrate holder for vertical galvanic metal, preferably copper, deposition on a substrate to be treated comprising a first substrate holder part and a second substrate holder part, wherein both substrate holder parts comprise an inner metal comprising part and an outer non-metallic part characterized in that the substrate holder further comprises i) At least one hanging element in each substrate holder part for mechanically connecting the substrate holder to a treatment container, ii) At least one first sealing element in each substrate holder part arranged between the substrate to be treated and the respective substrate holder part, iii) At least one second sealing element for the entire substrate holder arranged between the inner metal comprising part of the substrate holder and the outer non-metallic part of the substrate holder, iv) At least one fastening system for detachably fastening both substrate holder parts to each other for holding the substrate to be treated, v) At least one first contact element in each substrate holder part for forwarding current from an outer source through the hanging element to the at least second contact element, and vi) At least one second contact element in each substrate holder part for forwarding current from the at least first contact element to the substrate to be treated.
(FR)La présente invention se rapporte à un porte-substrat pour le dépôt galvanique vertical de métal, de préférence de cuivre, sur un substrat à traiter, comprenant une première partie de porte-substrat et une seconde partie de porte-substrat, les deux parties du porte-substrat comprenant une partie interne comprenant du métal et une partie externe non métallique, l'invention étant caractérisée en ce que le porte-substrat comprend en outre i) au moins un élément de suspension dans chaque partie du porte-substrat pour la liaison mécanique du porte-substrat à un récipient de traitement, ii) au moins un premier élément d'étanchéité dans chaque partie du porte-substrat disposé entre le substrat à traiter et la partie de porte-substrat respective, iii) au moins un second élément d'étanchéité pour la totalité du porte-substrat, disposé entre la partie interne comprenant du métal du porte-substrat et la partie externe non métallique du porte-substrat, iv) au moins un système de fixation pour la fixation amovible des deux parties du porte-substrat l'une à l'autre pour le maintien du substrat à traiter, v) au moins un premier élément de contact dans chaque partie du porte-substrat pour l'acheminement du courant d'une source externe audit ou auxdits seconds éléments de contact en passant par l'élément de suspension et vi) au moins un second élément de contact dans chaque partie du porte-substrat pour l'acheminement de courant dudit ou desdits premiers éléments de contact au substrat à traiter.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)