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1. (WO2016096309) OPTIMIZATION BASED ON MACHINE LEARNING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/096309    International Application No.:    PCT/EP2015/077010
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 18.11.2015
IPC:
G06N 99/00 (2010.01), G06F 17/50 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: LIU, Xiaofeng; (US)
Agent: PETERS, John; (NL)
Priority Data:
62/092,081 15.12.2014 US
Title (EN) OPTIMIZATION BASED ON MACHINE LEARNING
(FR) OPTIMISATION BASÉE SUR UN APPRENTISSAGE MACHINE
Abstract: front page image
(EN)Disclosed herein is a computer-implemented method for improving a lithographic process for imaging a portion of a design layout onto a substrate using a lithographic apparatus, the method comprising: obtaining a first source of the lithographic apparatus; classifying the first source into a class among a plurality of possible classes, based on one or more numerical characteristics of the first source, using a machine learning model, by a computer; determining whether the class is among one or more predetermined classes; only when the class is among the one or more predetermined classes, adjusting one or more source design variables to obtain a second source.
(FR)L'invention concerne un procédé implémenté par ordinateur pour améliorer un processus lithographique destiné à imager une partie d'un schéma de conception sur un substrat au moyen d'un appareil lithographique. Le procédé consiste à : obtenir une première source de l'appareil lithographique; classer la première source dans une catégorie d'une pluralité de catégories possibles, d'après une ou plusieurs caractéristiques numériques de la première source, au moyen d'un modèle d'apprentissage machine, par un ordinateur; déterminer si la catégorie appartient à une ou plusieurs catégories prédéterminées; et, uniquement lorsque la catégorie appartient à la ou aux catégories prédéterminées, ajuster une ou plusieurs variables de conception source de sorte à obtenir une seconde source.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)