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1. (WO2016095900) IN-LINE WET BENCH DEVICE AND METHOD FOR THE WET-CHEMICAL TREATMENT OF SEMICONDUCTOR WAFERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/095900    International Application No.:    PCT/DE2015/100528
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 09.12.2015
IPC:
H01L 21/677 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01), B65G 13/02 (2006.01)
Applicants: HANWHA Q CELLS GMBH [DE/DE]; Sonnenallee 17 - 21 06766 Bitterfeld-Wolfen / OT Thalheim (DE)
Inventors: WEIHRAUCH, Anika; (DE)
Agent: ADARES PATENT- UND RECHTSANWÄLTE REININGER & PARTNER; Schumannstraße 2 10117 Berlin (DE)
Priority Data:
10 2014 119 090.4 18.12.2014 DE
Title (DE) IN-LINE-NASSBANKVORRICHTUNG UND VERFAHREN FÜR DIE NASSCHEMISCHE BEARBEITUNG VON HALBLEITERWAFERN
(EN) IN-LINE WET BENCH DEVICE AND METHOD FOR THE WET-CHEMICAL TREATMENT OF SEMICONDUCTOR WAFERS
(FR) DISPOSITIF BANC HUMIDE EN LIGNE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR VOIE CHIMIQUE HUMIDE DE PLAQUETTES SEMICONDUCTEUR
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine in-line-Nassbankvorrichtung für die nasschemische Bearbeitung von Halbleiterwafern (2) aufweisend eine Mehrzahl jeweils um eine Rotationsachse (R) rotierbarer Förderrollen (1) für den in-line-Transport von Halbleiterwafern (2) entlang einer Förderrichtung (F), wobei die Rotationsachsen (R) parallel zueinander und senkrecht zur Förderrichtung (F) angeordnet sind und die Förderrollen (1) einen zylinderförmigen Förderabschnitt aufweisen, der sich entlang der jeweiligen Rotationsachse (R) axial erstreckt und eine zylindermantelförmige Förderoberfläche (10) ausbildet. Die Förderoberfläche (10) weist in axialer Rchtung betrachtet mindestens einen Glattbereich (11) mit Oberflächenrauigkeiten von weniger als 10 μm und axial benachbart zum Glattbereich (11) Raubereiche (12) mit Oberflächenrauigkeiten von mehr als 100 μm auf. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren für die nasschemische Bearbeitung von Halbleiterwafern (2), bei dem die Halbleiterwafer (2) auf Förderrollen (1) einer in-line-Nassbankvorrichtung gemäß einem der vorangehenden Ansprüche transportiert werden und während des Transports nasschemisch behandelt werden.
(EN)The invention relates to an in-line wet bench device for the wet-chemical treatment of semiconductor wafers (2), comprising a plurality of conveying rollers (1), each of which is rotatable about an axis of rotation (R), for the in-line transport of semiconductor wafers (2) along a conveying direction (F), wherein the axes of rotation (R) are arranged parallel to one another and perpendicular to the conveying direction (F), the conveying rollers (1) having a cylindrical conveying section which extends axially along the respective axis of rotation (R) and forms a conveying surface (10) in the shape of a cylindrical sleeve. The conveying surface (10) has at least one smooth region (11) with surface roughnesses of less than 10 μm when viewed in the axial direction and rough regions (12) with surface roughnesses of more than 100 μm axially adjacent to the smooth region (11). The invention further relates to a method for the wet chemical treatment of semiconductor wafers (2), in which the semiconductor wafers (2) are transported on conveying rollers (1) of an in-line wet bench device according to one of the preceding claims and are wet-chemically treated during transport.
(FR)L'invention concerne un dispositif banc humide en ligne destiné au traitement par voie chimique humide de plaquettes semi-conducteur (2) présentant une pluralité de rouleaux de transport (1) tournant respectivement autour d'un axe de rotation (R) et destinés au transport en ligne de plaquettes semi-conducteur (2) le long d'un dispositif de transport (F), les axes de rotation (R) étant de disposition parallèle entre eux et de disposition perpendiculaire par rapport à la direction de transport (F), et les rouleaux de transport (1) présentant une section de transport cylindrique qui s'étend axialement le long de l'axe de rotation (R) respectif et une surface de transport (10) en forme de surface latérale. La surface de transport (10) présente, vu dans la direction axiale, au moins une zone lisse (11) pourvue de rugosités superficielles inférieures à 10 μm et, axialement adjacentes à la zone lisse (11), des zones rugueuses (12) pourvues de rugosités superficielles supérieures à 100 μm. L'invention concerne également un procédé de traitement de plaquettes semi-conducteur par voie chimique humide (2), selon lequel les plaquettes semi-conducteur (2) sont transportées sur des rouleaux de transport (1) d'un dispositif banc humide en ligne conformément à une revendication précédente, et sont traitées au cours du transport par voie chimique humide.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)