WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016095597) IMPEDANCE MATCHING METHOD AND APPARATUS FOR ELECTRET MICROPHONE, AND COMMUNICATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/095597    International Application No.:    PCT/CN2015/091565
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 09.10.2015
IPC:
H04R 19/01 (2006.01)
Applicants: ZTE CORPORATION [CN/CN]; ZTE Plaza, Keji Road South, Hi-Tech Industrial Park Nanshan Shenzhen, Guangdong 518057 (CN)
Inventors: ZHANG, Feng; (CN).
WANG, Wei; (CN)
Agent: AFD CHINA INTELLECTUAL PROPERTY LAW OFFICE; Suite B 1601A, 8 Xue Qing Rd. Haidian Beijing 100192 (CN)
Priority Data:
201410784111.6 16.12.2014 CN
Title (EN) IMPEDANCE MATCHING METHOD AND APPARATUS FOR ELECTRET MICROPHONE, AND COMMUNICATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE ET APPAREIL POUR MICROPHONE À ÉLECTRET, ET DISPOSITIF DE COMMUNICATION
(ZH) 驻极体麦克风的阻抗匹配方法、装置和通讯设备
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an impedance matching method for an electret microphone. The method comprises: acquiring a bias voltage between a source and a drain of a field effect transistor built in an electret microphone; determining whether the bias voltage is within a preset bias voltage threshold; and if it is detected that the bias voltage is not within the preset bias voltage threshold, sending a corresponding control signal to adjust load bias impedance until the bias voltage is within the preset voltage threshold. Also disclosed are an impedance matching apparatus for an electret microphone and a communication device. The present invention improves the quality of a voice signal output by the MIC and improves the recording and call quality of the communication device.
(FR)L'invention concerne un procédé d'adaptation d'impédance pour un microphone à électret. Le procédé comprend les étapes consistant : à acquérir une tension de polarisation entre une source et un drain d'un transistor à effet de champ intégré dans un microphone à électret ; à déterminer si la tension de polarisation se situe dans un seuil de tension de polarisation prédéterminé ; et s'il est détecté que la tension de polarisation n'est pas située dans le seuil de tension de polarisation prédéterminé, à envoyer un signal de commande correspondant pour régler l'impédance de polarisation de charge jusqu'à ce que la tension de polarisation soit située dans le seuil de tension prédéterminé. L'invention concerne également un appareil d'adaptation d'impédance pour un microphone à électret et un dispositif de communication. La présente invention améliore la qualité d'un signal vocal émit par la MIC et améliore la qualité d'enregistrement et d'appel du dispositif de communication.
(ZH)本发明公开了一种驻极体麦克风的阻抗匹配方法,通过采集驻极体麦克风内置场效应管的源极和漏极之间的偏置电压;判断所述偏置电压是否在预设的偏置电压阈值之内;若检测到所述偏置电压不在预设的偏置电压阈值之内,则发出相应控制信号来调整负载偏置阻抗,直至所述偏置电压在预设的电压阈值之内为止。本发明还公开了驻极体麦克风的阻抗匹配装置和通讯设备。本发明提高了MIC输出语音信号的质量,提高了通讯设备的录音和通话质量。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)