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1. (WO2016095086) METHODS FOR TEXTURING A CHAMBER COMPONENT AND CHAMBER COMPONENTS HAVING A TEXTURED SURFACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/095086    International Application No.:    PCT/CN2014/093844
Publication Date: 23.06.2016 International Filing Date: 15.12.2014
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara California, 95054 (US).
HUANG, Xi [CN/CN]; (CN) (KP only).
XU, Wenlong [CN/CN]; (CN) (KP only)
Inventors: HUANG, Xi; (CN).
XU, Wenlong; (CN)
Agent: LECOME INTELLECTUAL PROPERTY AGENT LTD; Floor 16, Tower B of IN.DO Mansion No.48-Jia Zhichun Road Haidian Beijing 100098 (CN)
Priority Data:
Title (EN) METHODS FOR TEXTURING A CHAMBER COMPONENT AND CHAMBER COMPONENTS HAVING A TEXTURED SURFACE
(FR) PROCÉDÉS POUR TEXTURER UN ÉLÉMENT CHAMBRE, ET ÉLÉMENTS CHAMBRES PRÉSENTANT UNE SURFACE TEXTURÉE
Abstract: front page image
(EN)A method for a textured surface on a chamber component is provided and includes providing a chamber component, applying a Iayer of a photoresist to a surface of the chamber component, exposing a portion of the photoresist to optical energy using a m ask to cure a portion of the photoresist, removing uncured photoresist from the surface, and electrochemically etching the chamber component to form a textured surface on the chamber component.
(FR)L'invention concerne un procédé pour former une surface texturée sur un élément chambre, qui consiste à utiliser un élément chambre, à appliquer une couche de résine photosensible sur une surface de l'élément chambre, à exposer une partie de la résine photosensible à de l'énergie optique en utilisant un masque afin de durcir une partie de la résine photosensible, à éliminer la résine photosensible non durcie de la surface, et à graver l'élément chambre par voie électrochimique afin de former une surface texturée sur l'élément chambre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)