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1. (WO2016093312) FILM FORMATION DEVICE AND FILM FORMATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/093312    International Application No.:    PCT/JP2015/084657
Publication Date: 16.06.2016 International Filing Date: 10.12.2015
IPC:
C23C 16/54 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Applicants: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventors: OISHI, Kiyoshi; (JP).
SUZUKI, Issei; (JP).
HIROSE, Tatsuya; (JP)
Agent: KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Priority Data:
2014-251432 12.12.2014 JP
Title (EN) FILM FORMATION DEVICE AND FILM FORMATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a film formation device for suppressing the occurrence of wrinkles in a thin-film substrate, without decreasing transport tension. A film formation device (A) according to the present invention is characterized in that the ratio a of the sum of the lengths where a resin substrate (1) contacts the rollers of an entire conveyor line to the entire conveyor line length from a contact start point (t1) of the resin substrate (1) with a conveyor roller (61) positioned immediately after a feeding roller (21) until a contact end point (t2) of the resin substrate (1) with a conveyor roller (74) positioned immediately before a winding roller (51) satisfies formula (1). 30%≤a≤50% (1)
(FR)La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un dispositif de formation de film permettant de supprimer l'apparition de rides dans un substrat à film mince, sans diminuer la tension de transport. Un dispositif de formation de film (A) selon la présente invention est caractérisé en ce que le rapport (a) entre d'une part la somme des longueurs où un substrat de résine (1) entre en contact avec les rouleaux de toute une ligne de convoyeur et d'autre part toute la longueur de ligne de convoyeur à partir d'un point de début de contact (t1) du substrat de résine (1) avec un rouleau de convoyeur (61) positionné immédiatement après un rouleau d'alimentation (21) jusqu'à ce qu'un point d'extrémité de contact (t2) du substrat de résine (1) avec un rouleau de convoyeur (74) positionné immédiatement avant un rouleau d'enroulement (51) satisfait à la formule (1). 30 % ≤ a ≤ 50 % (1)
(JA) 本発明の課題は、搬送張力を小さくすることなく、薄膜基材へのシワの発生を抑制する成膜装置を提供することである。 本発明の成膜装置(A)は、樹脂基材(1)と元巻きローラー(21)直後に配置された搬送ローラー(61)との接触開始点(t1)から、樹脂基材(1)と巻取りローラー(51)直前に配置された搬送ローラー(74)との接触終了点(t2)までの全搬送ライン長に対して、樹脂基材(1)が全搬送ラインの各ローラーに接触している長さの総和の比率aが、下記式(1)を満たすことを特徴とする。 30%≦a≦50% (1)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)