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1. (WO2016093172) RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING HYDROLYZABLE SILANE HAVING HALOGEN-CONTAINING CARBOXYLIC ACID AMIDE GROUP
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/093172    International Application No.:    PCT/JP2015/084172
Publication Date: 16.06.2016 International Filing Date: 04.12.2015
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), C08G 77/26 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventors: SHIBAYAMA, Wataru; (JP).
TAKASE, Kenji; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
Agent: HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2014-247809 08.12.2014 JP
Title (EN) RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING HYDROLYZABLE SILANE HAVING HALOGEN-CONTAINING CARBOXYLIC ACID AMIDE GROUP
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE POUR LITHOGRAPHIE CONTENANT DU SILANE HYDROLYSABLE AYANT UN GROUPE AMIDE D'ACIDE CARBOXYLIQUE CONTENANT DE L’HALOGÈNE
(JA) ハロゲン含有カルボン酸アミド基を有する加水分解性シランを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a resist underlayer film forming composition for lithography, which is able to be used as a hard mask. Pattern resolution is able to be improved by having the composition contain a trihalogenoacetamide skeleton. [Solution] A resist underlayer film forming composition for lithography, which contains, as a silane, a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, a hydrolysis-condensation product thereof or a combination of these compounds, and wherein the hydrolyzable silane contains a silane having a halogen-containing carboxylic acid amide group.
(FR)L'invention a pour but de proposer une composition de formation de film de sous-couche de réserve pour lithographie, qui est apte à être utilisée comme masque dur. Étant donné que la composition contienne un squelette trihalogénoacétamide, la résolution de motif peut être améliorée. À cet effet, l'invention concerne une composition de formation de film de sous-couche de réserve pour lithographie, qui contient, en tant que silane, un silane hydrolysable, un produit d'hydrolyse de celui-ci, un produit d'hydrolyse-condensation de celui-ci ou une combinaison de ces composés, et dans laquelle le silane hydrolysable contient un silane ayant un groupe amide d'acide carboxylique contenant de l'halogène.
(JA)【課題】ハードマスクとして使用できるリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を提供する。トリハロゲノアセトアミド骨格を含有することで、パターン解像性を向上させることが出来る。 【解決手段】シランとして加水分解性シラン、その加水分解物、その加水分解縮合物、又はそれらの組み合わせを含み、該加水分解性シランがハロゲン含有カルボン酸アミド基を有するシランを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)