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1. (WO2016090307) LENS ARRAY-BASED ILLUMINATION FOR WAFER INSPECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/090307    International Application No.:    PCT/US2015/064093
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 04.12.2015
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: CHEN, Qibiao; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US)
Priority Data:
62/088,305 05.12.2014 US
14/871,943 30.09.2015 US
Title (EN) LENS ARRAY-BASED ILLUMINATION FOR WAFER INSPECTION
(FR) ÉCLAIRAGE À BASE DE RÉSEAU DE LENTILLES POUR INSPECTION DE TRANCHES
Abstract: front page image
(EN)Systems configured to provide illumination for wafer inspection performed by a wafer inspection tool are provided. One system includes one or more pupil lenses configured to focus a first far field pattern having a shape different than a shape of light generated by a light source. The system also includes a field lens array positioned between the one or more pupil lenses and an aperture stop. In addition, the system includes a lens group configured to focus a second far field pattern generated by the field lens array to a back focal plane of the lens group. The back focal plane of the lens group is a field plane of a wafer inspection tool at which a wafer to be inspected is placed during wafer inspection.
(FR)Cette invention concerne des systèmes configurés pour fournir un éclairage pour une inspection de tranche effectuée par un outil d'inspection de tranche. Un système selon l'invention comprend une ou plusieurs lentille(s) à pupille configurée(s) pour focaliser un premier motif de champ lointain présentant une forme différente d'une forme de la lumière générée par une source de lumière. Ledit système comprend également un réseau de lentilles de champ positionné entre ladite/lesdites lentille(s) à pupille et un arrêt d'ouverture. De plus, ledit système comprend un groupe de lentilles configuré pour focaliser un second motif de champ lointain généré par le réseau de lentilles de champ sur plan focal arrière du groupe de lentilles. Le plan focal arrière du groupe de lentilles est un plan de champ d'un outil d'inspection de tranche dur lequel est disposée une tranche à inspecter au cours d'une inspection de tranche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)