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1. (WO2016089549) SYSTEM AND METHOD FOR ISOLATING GAIN ELEMENTS IN A LASER SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/089549    International Application No.:    PCT/US2015/059573
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 06.11.2015
IPC:
G02F 1/11 (2006.01), H01S 3/08 (2006.01), H01S 3/082 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; (a Netherlands Corporation) P.o. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: TAO, Yezheng; (US).
ROKITSKI, Rostislav; (US).
BROWN, Daniel, John William; (US).
GOLICH, Daniel James; (US).
KATS, Michael; (US).
STEWART, John Tom; (US)
Agent: BHARUCHA, Cyrus F.; (US)
Priority Data:
14/562,237 05.12.2014 US
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR ISOLATING GAIN ELEMENTS IN A LASER SYSTEM
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR ISOLER DES ÉLÉMENTS DE GAIN DANS UN SYSTÈME LASER
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus for protecting the seed laser in a laser produced plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) light system are disclosed. An isolation stage positioned on an optical path diverts light reflected from further components in the LPP EUV light system from reaching the seed laser. The isolation stage comprises two AOMs that are separated by a delay line. The AOMs, when open, direct light onto the optical path and, when closed, direct light away from the optical path. The delay introduced by the delay iine is determined so that the opening and the closing of the AOMs can be timed to direct a forward-moving pulse onto the optical path and to divert reflected light at other times. The isolation stage can be positioned between gain elements to prevent amplified reflected light from reaching the seed laser and other potentially harmful effects.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil permettant de protéger l'amorçage laser dans un système de lumière ultraviolette extrême (EUV) à plasma produit par laser (LPP). Un étage d'isolation positionné sur un chemin optique dévie la lumière réfléchie par d'autres éléments dans le système de lumière EUV LPP afin de l'empêcher d'atteindre l'amorçage laser. L'étage d'isolation comprend deux cellules de Bragg qui sont séparées par une ligne de retard. Les cellules de Bragg, lorsqu'elles sont ouvertes, dirigent la lumière sur le chemin optique et, lorsqu'elles sont fermées, dirigent la lumière à l'écart du chemin optique. Le retard introduit par la ligne de retard est déterminé de sorte que l'ouverture et la fermeture des cellules de Bragg peuvent être réglées de façon à diriger une impulsion se déplaçant vers l'avant sur le chemin optique et à dévier la lumière réfléchie à d'autres moments. L'étage d'isolation peut être positionné entre des éléments de gain pour empêcher la lumière réfléchie amplifiée d'atteindre l'amorçage laser et d'autres effets potentiellement nuisibles.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)