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1. (WO2016089452) THERMAL SPRAY METHOD INTEGRATING SELECTED REMOVAL OF PARTICULATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/089452    International Application No.:    PCT/US2015/040898
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 17.07.2015
IPC:
B05D 1/12 (2006.01), B05B 1/06 (2006.01), B05B 1/34 (2006.01), B05B 7/16 (2006.01)
Applicants: PROGRESSIVE SURFACE, INC. [US/US]; 4695 Danvers Drive S.E. Grand Rapids, Michigan 49508 (US)
Inventors: VANEVERY, Kent; (US)
Agent: CALLAGHAN, Terry S.; (US)
Priority Data:
14/560,456 04.12.2014 US
Title (EN) THERMAL SPRAY METHOD INTEGRATING SELECTED REMOVAL OF PARTICULATES
(FR) PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION THERMIQUE INTÉGRANT LA SUPPRESSION SÉLECTIONNÉE DE PARTICULES
Abstract: front page image
(EN)A thermal spray system and method includes a hot gas generator with nozzle accelerating heated gas towards a substrate in the form of a gas column projecting onto the substrate surface as a spot. One or more feedstock injectors proximate the nozzle exit, directed towards the gas column, are connected to a feedstock source. The hot gas stream transfers heat and momentum to the feedstock, causing the feedstock particles to impact the substrate to form a coating. The system further comprises one or more liquid injectors proximate the nozzle exit, directed towards the axis, and connected to a source of liquid. The system controls the flow and velocity with which the liquid is injected, permitting control of the depth of penetration of the liquid into the gas column. The method selectively prevents suboptimal feedstock particulates from adhering to the substrate and provides for the in-situ removal of suboptimal deposits.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système de pulvérisation thermique comprenant un générateur de gaz chaud ayant une buse accélérant un gaz chauffé vers un substrat sous la forme d'une colonne de gaz faisant saillie sur la surface du substrat sous la forme d'un point. Un ou plusieurs injecteurs de charge d'alimentation à proximité de la sortie de la buse, dirigés vers la colonne de gaz, sont reliés à une source de charge d'alimentation. Le flux de gaz chaud transfère la chaleur et le moment à la charge d'alimentation, amenant les particules de charge d'alimentation à venir frapper le substrat pour former un revêtement. Le système comprend en outre un ou plusieurs injecteurs de liquide à proximité de la sortie de la buse, dirigés vers l'axe et reliés à une source de liquide. Le système commande le flux et la vitesse avec lesquels est injecté le liquide, permettant le contrôle de la profondeur de pénétration du liquide dans la colonne de gaz. Le procédé empêche sélectivement que des particules de charge d'alimentation non optimales adhèrent au substrat et permet l'élimination sur place de dépôts non optimaux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)