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1. (WO2016088829) METHOD FOR CLEANING HIGH-PRESSURE GAS CONTAINER, AND HIGH-PRESSURE GAS CONTAINER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/088829    International Application No.:    PCT/JP2015/083997
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 03.12.2015
IPC:
F17C 13/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145 (JP)
Inventors: KUWANA Akihiro; (JP).
YAMAUCHI Hiroki; (JP).
HONDA Hiroki; (JP)
Agent: YOSHIDA Minoru; (JP)
Priority Data:
2014-245029 03.12.2014 JP
Title (EN) METHOD FOR CLEANING HIGH-PRESSURE GAS CONTAINER, AND HIGH-PRESSURE GAS CONTAINER
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE RÉCIPIENT DE GAZ À HAUTE PRESSION, ET RÉCIPIENT DE GAZ À HAUTE PRESSION
(JA) 高圧ガス容器の洗浄方法、および高圧ガス容器
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a cleaning method suitable for removing moisture in a high-pressure gas container. [Solution] A pressure-raising step for introducing a hydrophilic gas into the high-pressure gas container and raising the pressure, and a discharge step for discharging the gas in the high-pressure gas container are repeatedly performed in the method for cleaning a high-pressure gas container according to the present invention.
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de nettoyage approprié pour éliminer l'humidité dans un récipient de gaz à haute pression. La solution de l'invention consiste en une étape d'élévation de pression pour introduire un gaz hydrophile dans le récipient de gaz à haute pression et élever la pression, et une étape d'évacuation pour évacuer le gaz dans le récipient de gaz à haute pression, qui sont réalisées de façon répétée dans le procédé de nettoyage d'un récipient de gaz à haute pression selon la présente invention.
(JA)【課題】高圧ガス容器内の水分を除去するのに適した洗浄方法を提供すること。 【解決手段】本発明に係る高圧ガス容器の洗浄方法においては、高圧ガス容器に親水性を有するガスを導入して昇圧する昇圧工程と、上記高圧ガス容器内のガスを排気する排気工程と、を繰り返し行う。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)