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1. (WO2016088785) METHOD FOR FORMING SELF-ASSEMBLED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND COMPOSITION FOR FORMING SELF-ASSEMBLED FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/088785    International Application No.:    PCT/JP2015/083826
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 01.12.2015
IPC:
B05D 7/24 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventors: KOMATSU Hiroyuki; (JP).
MINEGISHI Shinya; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP).
NAGAI Tomoki; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; (JP)
Priority Data:
2014-247474 05.12.2014 JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING SELF-ASSEMBLED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND COMPOSITION FOR FORMING SELF-ASSEMBLED FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM AUTO-ASSEMBLÉ, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSITION POUR LA FORMATION DUDIT FILM AUTO-ASSEMBLÉ
(JA) 自己組織化膜の形成方法、パターン形成方法及び自己組織化膜形成用組成物
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a method for forming a self-assembled film, the method being provided with a step for forming a liquid film on a substrate using a composition for forming a self-assembled film that contains a solvent and one or several first polymers capable of forming a phase separation structure by self-assembly, the solvent including a first solvent that has a boiling point at 1 atm of 150-300°C and a surface tension at 25°C of 29-60 mN/m, and the first-solvent content in the solvent being 50 mass% or higher. This method is also provided with a step for allowing the liquid film to stand and a step for heating the liquid film. The heating step may be carried out in the standing step. The first-solvent content in the solvent is preferably 70 mass% or higher. The composition for forming a self-assembled film may also contain a second polymer having lower surface free energy than does the first polymer, and the second polymer may be unevenly distributed on the upper side of the self-assembled film. The solubility parameter of the first solvent is preferably from 8 (cal/cm3)1/2 to 15 (cal/cm3)1/2.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant la formation d'un film auto-assemblé, le procédé comprenant une étape consistant à former un film liquide sur un substrat en faisant appel à une composition pour la formation d'un film auto-assemblé qui contient un solvant et un ou plusieurs premiers polymères pouvant former une structure de séparation de phase par auto-assemblage, le solvant comprenant un premier solvant qui possède un point d'ébullition à 1 atm de 150 à 300 °C et une tension superficielle à 25 °C de 29 à 60 mN/m, et la teneur en ledit premier solvant dans le solvant étant supérieure ou égale à 50 % en masse. Ce procédé comprend également une étape consistant à laisser reposer ledit film liquide et une étape consistant à chauffer le film liquide. L'étape de chauffage peut être mise en œuvre au cours de l'étape de mise au repos. La teneur en ledit premier solvant dans le solvant est de préférence supérieure ou égale à 70 % en masse. La composition pour la formation d'un film auto-assemblé peut également contenir un second polymère possédant une tension superficielle inférieure à celle du premier polymère, et le second polymère peut être réparti de manière irrégulière sur le côté supérieur du film auto-assemblé. Le paramètre de solubilité du premier solvant est de préférence de 8 (cal/cm3)1/2 à 15 (cal/cm3)1/2.
(JA) 本発明は、自己組織化により相分離構造を形成しうる1種又は複数種の第1重合体と溶媒とを含有する自己組織化膜形成用組成物により、基板上に液膜を形成する工程を備え、溶媒が、1気圧における沸点が150℃以上300℃以下、かつ25℃における表面張力が29mN/m以上60mN/m以下の第1溶媒を含み、溶媒における第1溶媒の含有量が、50質量%以上の自己組織化膜の形成方法である。液膜を静置する工程、及び液膜を加熱する工程をさらに備え、加熱工程を静置工程で行うとよい。溶媒における第1溶媒の含有量としては、70質量%以上が好ましい。自己組織化膜形成用組成物が、第1重合体よりも表面自由エネルギーが小さい第2重合体をさらに含有し、第2重合体が自己組織化膜の上方に偏在するとよい。上記第1溶媒の溶解度パラメータとしては、8(cal/cm1/2以上15(cal/cm1/2以下が好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)