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1. (WO2016088655) PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/088655    International Application No.:    PCT/JP2015/083298
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 26.11.2015
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventors: NAKAGAWA Hisashi; (JP).
SHIRATANI Motohiro; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP).
NAGAI Tomoki; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; (JP)
Priority Data:
2014-244536 02.12.2014 JP
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CETTE DERNIÈRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) フォトレジスト組成物及びその製造方法並びにレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a photoresist composition that contains a radiation-sensitive acid generator generating an acid when exposed to radiation, wherein the solubility thereof in a developing agent is changed by the effect of the acid, characterized by containing a metal element and by containing first particles with a hydrodynamic radius equal to or smaller than 20 nm when analyzed by the dynamic light scattering method and a first solvent. This photoresist composition can contain a first compound having an acid-dissociable group. The radiation-sensitive acid generator can be the first compound having a group that generates an acid when exposed to radiation.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui contient un générateur d'acide sensible au rayonnement produisant un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement, la solubilité de cette dernière dans un agent de développement étant modifiée par l'effet de l'acide, caractérisée par le fait qu'elle contient un élément métallique et par le fait qu'elle contient des premières particules présentant un rayon hydrodynamique égal ou inférieur à 20 nm lorsqu'elle est analysée par le procédé de diffusion dynamique de la lumière et un premier solvant. Cette composition de résine photosensible peut contenir un premier composé ayant un groupe dissociable par un acide. Le générateur d'acide sensible au rayonnement peut être le premier composé ayant un groupe qui produit un acide lorsqu'il est exposé à un rayonnement.
(JA) 本発明は、放射線の露光の際に酸を発生する感放射線性酸発生体を含有し、上記酸の作用により現像液への溶解性が変化するフォトレジスト組成物であって、金属元素を含み、動的光散乱法分析による流体力学半径が20nm以下である第1粒子、及び第1溶剤を含有することを特徴とする。当該フォトレジスト組成物は、酸解離性基を有する第1化合物を含有することができる。上記感放射線性酸発生体は、放射線の露光の際に酸を発生する基を有する上記第1化合物とすることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)