WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/088216    International Application No.:    PCT/JP2014/081955
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 03.12.2014
G02B 5/28 (2006.01)
Applicants: PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 28-8, Honkomagome 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130021 (JP).
PIONEER MICRO TECHNOLOGY CORPORATION [JP/JP]; 465 Osato-cho, Kofu-shi, Yamanashi 4000053 (JP)
Inventors: HANIHARA Koji; (JP).
Agent: SHINRYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 2nd Floor Taiyo Building, 1-12-4, Iwamoto-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Priority Data:
(JA) 光学フィルターの製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing an optical filter manufacturing method whereby a sputter mask can be easily and accurately aligned with a workpiece, and an optical filter constituting a plurality of filter sections can be easily and accurately formed. The present invention is characterized by performing: a spacer layer film-forming step for film-forming a spacer layer 61 on a light receiving element array 15; a mask layer film-forming step for film-forming a mask layer 62 on the spacer layer 61; an opening forming step for forming a plurality of openings 33 in the mask layer 62; a part removing step for removing spacer layer 61 parts corresponding to the openings 33; and a multilayer film-growing step for vapor-growing a dielectric multilayer film 16a on the light receiving element array 15 via the mask layer 62.
(FR)La présente invention vise à fournir un procédé de fabrication de filtre optique, par lequel un masque de pulvérisation peut être aligné facilement et précisément avec une pièce à usiner, et un filtre optique constituant une pluralité de sections de filtre peut être formé facilement et précisément. La présente invention est caractérisée par le fait de réaliser : une étape de formation de film de couche d'espacement pour la formation d'un film d'une couche d'espacement (61) sur une matrice d'éléments récepteurs de lumière (15); une étape de formation de film de couche de masque pour la formation d'un film d'une couche de masque (62) sur la couche d'espacement (61); une étape de formation d'ouverture consistant à former une pluralité d'ouvertures (33) dans la couche de masque (62); une étape de retrait de partie consistant à retirer des parties de couche d'espacement (61) correspondant aux ouvertures (33); et une étape de croissance de film multicouche pour la croissance en phase vapeur d'un film multicouche diélectrique (16a) sur la matrice d'éléments récepteurs de lumière (15) par l'intermédiaire de la couche de masque (62).
(JA) 本発明は、ワークに対しスパッタマスクを容易に且つ精度良く位置合わせすることができ、複数のフィルター部を構成する光学フィルターを容易に且つ精度良く形成することができる光学フィルターの製造方法を提供することを課題としている。 本発明は、受光素子アレイ15上にスペーサー層61を成膜するスペーサー層成膜工程と、スペーサー層61上にマスク層62を成膜するマスク層成膜工程と、マスク層62に、複数の開口部33を形成する開口部形成工程と、スペーサー層61の、複数の開口部33に対応する部分を除去する部分除去工程と、誘電体多層膜16aを、マスク層62を介して受光素子アレイ15上に気相成長させる多層膜成長工程と、を実行することを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)