WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016086745) DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM UTILIZING ROTATIONAL GRATING IN MEASUREMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/086745    International Application No.:    PCT/CN2015/093680
Publication Date: 09.06.2016 International Filing Date: 03.11.2015
IPC:
G01B 11/02 (2006.01), G01D 5/38 (2006.01)
Applicants: TSINGHUA UNIVERSITY [CN/CN]; Post Box100084 Branch 82 Tsinghua Univeristy Patent Office Haidian District, Beijing 100084 (CN).
BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD. [CN/CN]; Room B902, Xueyan Plaza, Tuspark Haidian District, Beijing 100084 (CN)
Inventors: ZHANG, Ming; (CN).
ZHU, Yu; (CN).
CUI, Jianzhang; (CN).
WANG, Leijie; (CN).
YE, Weinan; (CN).
YANG, Kaiming; (CN).
HU, Jinchun; (CN).
XU, Dengfeng; (CN).
CHENG, Rong; (CN).
ZHANG, Li; (CN).
ZHAO, Yanpo; (CN).
HU, Qingping; (CN).
ZHANG, Jin; (CN).
YIN, Wensheng; (CN).
MU, Haihua; (CN)
Agent: BEIJING GRANDER IP LAW FIRM; Room 18A6, East wing, Hanwei plaza No.7 Guanghua Road, Chaoyang District Beijing 100004 (CN)
Priority Data:
201410720041.8 01.12.2014 CN
Title (EN) DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM UTILIZING ROTATIONAL GRATING IN MEASUREMENT
(FR) SYSTÈME DE MESURE DE DÉPLACEMENT UTILISANT UN RÉSEAU ROTATIF LORS D'UNE MESURE
(ZH) 一种利用可旋转光栅测量的位移测量系统
Abstract: front page image
(EN)A displacement measurement system utilizing rotational grating in measurement, comprising: a laser (1), a convex lens (2), refractive elements (6a,6b,6c), a grating (3), a photoelectric converter (4), and an electronic signal processing component (5); the system realizes displacement measurement based on grating diffraction, an optical Doppler effect and beat principle, a displacement measurement function is not limited by rotation about a fixed direction of an object to be detected, when the grating (3) comparatively to the laser (1) makes a planar motion or rotates about a laser optical axis, measurement system outputs displacement information of a desired measurement direction, without influence of grating (3) translation or rotation within a plane. The measurement system has a flexible mounting method, a convenient adjustment method, a low sensitivity to the environment, and an easy to be processed measurement signal, and resolution and precision of the measurement system reach sub-nanometer or even higher. The measurement system provides position displacement measurement for a lithography tool ultra-precision workpiece table, enhances workpiece table overall performance, and also can be applied in multi-degree-of-freedom displacement precision measurement for a workpiece table of a precision machine tool, a three-coordinate measuring machine, a semiconductor detection device, etc.
(FR)L'invention concerne un système de mesure de déplacement utilisant un réseau rotatif lors d'une mesure, comprenant : un laser (1), une lentille convexe (2), des éléments de réfraction (6a, 6b, 6c), un réseau (3), un convertisseur photoélectrique (4) et un composant de traitement de signal électronique (5); le système réalise une mesure de déplacement basée sur la diffraction du réseau, un effet Doppler optique et un principe de battement, une fonction de mesure de déplacement n'est pas limitée par la rotation autour d'une direction fixe d'un objet qui doit être détecté, lorsque le réseau (3) comparativement au laser (1) effectue un mouvement planaire ou tourne autour d'un axe optique laser, un système de mesure des informations de déplacement d'une direction de mesure souhaitée, sans influence de la translation ou de la rotation du réseau (3) dans un plan. Le système de mesure présente un procédé de montage souple, pratique, un procédé de réglage pratique, une faible sensibilité à l'environnement et un signal de mesure facile à traiter, et la résolution ainsi que la précision du système de mesure atteignent une valeur sous-nanométrique ou même supérieure. Le système de mesure fournit une mesure de déplacement de position pour une table de pièce à usiner d'ultra haute précision d'outil de lithographie, améliore la performance globale de la table de pièce à usiner et peut également être appliqué dans une mesure de précision de déplacement à plusieurs degrés de liberté pour une table de pièce à usiner d'une machine-outil de précision, d'une machine de mesure à trois coordonnées, d'un dispositif de détection à semi-conducteurs, etc.
(ZH)一种利用可旋转光栅测量的位移测量系统,包括激光器(1)、凸透镜(2)、折光元件(6a、6b、6c)、光栅(3)、光电转换器(4)、电子信号处理部件(5);该系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量,位移测量功能不受待测物体绕一个固定方向转动的限制,当光栅(3)相对激光器(1)做平面运动或绕激光光轴转动时,测量系统能够始终输出所需测量方向的位移信息,不受光栅(3)面内平动或转动的影响。该测量系统安装灵活,调整方便,对环境敏感性低、测量信号易于处理,分辨率与精度可达亚纳米甚至更高。该测量系统可以为光刻机超精密工件台进行位置位移测量,提升工件台综合性能,也可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)