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1. (WO2016086138) IMPROVED PROCESS CONTROL TECHNIQUES FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/086138    International Application No.:    PCT/US2015/062693
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 25.11.2015
IPC:
G06F 19/00 (2011.01)
Applicants: STREAM MOSAIC, INC. [CA/US]; 2208 Marques Avenue San Jose, California 95125 (US)
Inventors: DAVID, Jeffrey Drue; (US)
Priority Data:
62/084,551 25.11.2014 US
62/091,567 14.12.2014 US
62/103,946 15.01.2015 US
Title (EN) IMPROVED PROCESS CONTROL TECHNIQUES FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESSES
(FR) TECHNIQUES DE COMMANDE DE PROCÉDÉ AMÉLIORÉES POUR DES PROCÉDÉS DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)Techniques for measuring and/or compensating for process variations in a semiconductor manufacturing processes. Machine learning algorithms are used on extensive sets of input data, including upstream data, to organize and pre-process the input data, and to correlate the input data to specific features of interest. The correlations can then be used to make process adjustments. The techniques may be applied to any feature or step of the semiconductor manufacturing process, such as overlay, critical dimension, and yield prediction.
(FR)L'invention porte sur des techniques permettant de mesurer et/ou de compenser des variations de procédé dans des procédés de fabrication de semi-conducteurs. Des algorithmes d'apprentissage de machine sont utilisés sur des jeux importants de données d'entrée, y compris des données en amont, afin d'organiser et de pré-traiter les données d'entrée, et afin de corréler les données d'entrée à des caractéristiques spécifiques d'intérêt. Les corrélations peuvent ensuite être utilisées pour réaliser des réglages de procédé. Les techniques peuvent être appliquées à toute caractéristique ou étape du procédé de fabrication de semi-conducteurs, tel qu'une superposition, dimension critique, et prédiction de rendement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)