WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016085622) SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH SUBSTRATE CARRIER AND PURGE CHAMBER ENVIRONMENTAL CONTROLS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/085622    International Application No.:    PCT/US2015/058761
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 03.11.2015
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: RICE, Michael R.; (US).
HRUZEK, Dean C.; (US)
Agent: DUGAN, Brian M.; (US)
Priority Data:
62/084,350 25.11.2014 US
62/108,834 28.01.2015 US
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH SUBSTRATE CARRIER AND PURGE CHAMBER ENVIRONMENTAL CONTROLS
(FR) SYSTÈMES, APPAREILS ET PROCÉDÉS DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS AVEC MAÎTRISE DE L'ENVIRONNEMENT DE SUPPORTS DE SUBSTRATS ET D'UNE CHAMBRE DE PURGE
Abstract: front page image
(EN)Electronic device processing systems including environmental control of the factory interface, a carrier purge chamber, and one or more substrate carriers are described. One electronic device processing system has a factory interface having a factory interface chamber, one or more substrate carriers coupled to the factory interface, and an environmental control system coupled to the factory interface, the carrier purge chamber, and the one or more substrate carriers and operational to control an environment at least within the factory interface chamber, carrier purge chamber, and the one or more substrate carriers. Methods for processing substrates are described, as are numerous other aspects.
(FR)La présente invention concerne des systèmes de traitement de dispositifs électroniques comprenant une maîtrise de l'environnement d'une interface usine, d'une chambre de purge de support, et d'un ou plusieurs supports de substrats. Un système de traitement de dispositifs électroniques comprend une interface usine comportant une chambre d'interface usine, un ou plusieurs supports de substrats couplés à l'interface usine, et un système de maîtrise de l'environnement couplé à l'interface usine, à la chambre de purge de support et au ou aux supports de substrats, et servant à maîtriser un environnement au moins à l'intérieur de la chambre d'interface usine, de la chambre de purge de support et du ou des supports de substrats. Des procédés de traitement de substrats sont également décrits, ainsi que de nombreux autres aspects.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)