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1. (WO2016084868) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, CURED PRODUCT, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/084868    International Application No.:    PCT/JP2015/083137
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 25.11.2015
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventors: KATO Tetsuya; (JP).
IWASHITA Kenichi; (JP).
NAKAMURA Akihiro; (JP).
NAKANO Akio; (JP).
ONO Hiroshi; (JP)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; (JP)
Priority Data:
2014-238957 26.11.2014 JP
2015-068543 30.03.2015 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, CURED PRODUCT, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, ARTICLE DURCI, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MATÉRIAU DE BASE DE CIRCUIT
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、硬化物、半導体装置、レジストパターンの形成方法及び回路基材の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition containing: a resin having a phenolic hydroxyl group; a photosensitive acid generator; a compound comprising at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, a heterocyclic ring, and an alicyclic ring and at least one group selected from the group consisting of a methylol group and an alkoxyalkyl group; and an aliphatic compound comprising two or more identical or different functional groups selected from the group consisting of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a glycidyloxy group, an oxetanyl alkyl ether group, a vinyl ether group, and a hydroxyl group. The photosensitive acid generator is a sulfonium salt comprising an anion that has at least one skeleton selected from the group consisting of a tetraphenylborate skeleton, an alkyl sulfonate skeleton having 1-20 carbon atoms, a phenyl sulfonate skeleton, and a 10-camphorsulfonate skeleton.
(FR)L’invention concerne une composition de résine photosensible qui comprend : une résine possédant un groupe hydroxyle phénolique ; un générateur d'acide photosensible ; un composé qui possède au moins un cycle choisi dans un groupe constitué d’un cycle aromatique, d’un hétérocycle et d’un alicycle, et au moins d’un groupe choisi dans un groupe constitué d’un groupe méthylol et d’un groupe alcoxyalkyle ; et un composé aliphatique qui possède deux groupes fonctionnels ou plus d’au moins une sorte choisis dans un groupe constitué d’un groupe acryloyloxy, d’un groupe méthacryloyloxy, d’un groupe glycidyloxy, d’un groupe oxétanylalkyléther, d’un groupe éther vinylique, et d’un groupe hydroxyle. Ledit générateur d'acide photosensible consiste en un sel de sulfonium qui contient un anion possédant au moins une sorte de squelette choisie parmi un squelette de tétraphénylborate, un squelette d’alkylsulfonate de 1 à 20 atomes de carbone, un squelette de phénylsulfonate, et un squelette de 10-camphosulfonate.
(JA) フェノール性水酸基を有する樹脂と、光感応性酸発生剤と、芳香環、複素環及び脂環からなる群より選ばれる少なくとも1種、並びに、メチロール基及びアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する化合物と、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、オキセタニルアルキルエーテル基、ビニルエーテル基及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を2つ以上有する脂肪族化合物と、を含有し、前記光感応性酸発生剤が、テトラフェニルボレート骨格、炭素数1~20のアルキルスルホネート骨格、フェニルスルホネート骨格、及び、10-カンファースルホネート骨格からなる群より選ばれる少なくとも1種の骨格を有するアニオンを含むスルホニウム塩である、感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)