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1. (WO2016084495) NOVOLAC TYPE PHENOL RESIN, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST MATERIAL AND COATING FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/084495    International Application No.:    PCT/JP2015/078595
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 08.10.2015
IPC:
C08G 8/20 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
Applicants: DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP)
Inventors: IMADA Tomoyuki; (JP).
SATO Yusuke; (JP)
Agent: KONO Michihiro; (JP)
Priority Data:
2014-237712 25.11.2014 JP
Title (EN) NOVOLAC TYPE PHENOL RESIN, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST MATERIAL AND COATING FILM
(FR) RÉSINE PHÉNOLIQUE DE TYPE NOVOLAQUE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE RÉSERVE ET FILM DE REVÊTEMENT
(JA) ノボラック型フェノール樹脂、その製造方法、感光性組成物、レジスト材料、及び塗膜
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a photosensitive composition that has excellent heat resistance, a low absorbance for g-ray, h-ray and i-ray exposure wavelengths, and high sensitivity; a resist material; a coating film thereof; and a novolac type phenol resin suitable for such applications; and manufacturing methods therefor. Specifically, provided is a novolac type phenol resin characterized in that the novolac type phenol resin is obtained by reacting a phenolic trinuclear compound (A) and formaldehyde in the presence of an acid catalyst. The phenolic trinuclear compound (A) comprises: a phenolic trinuclear compound (A1) obtained by a condensation reaction of a dialkyl-substituted phenol and a hydroxyl group-containing aromatic aldehyde; and a phenolic trinuclear compound (A2) obtained by a condensation reaction of a dialkyl-substituted phenol that has alkyl groups at positions 2 and 3, 2 and 5, 3 and 4, or 3 and 5, and an aromatic aldehyde that does not have a hydroxyl group. The molar ratio of the phenolic trinuclear compound (A1) and the phenolic trinuclear compound (A2) is 20:80 to 90:10.
(FR)L'invention concerne : une composition photosensible qui présente une excellente résistance à la chaleur, une faible absorbance des longueurs d'onde d'exposition des rayons g, rayons h et rayons i, et une sensibilité élevée ; un matériau de réserve ; un film de revêtement de celui-ci; et une résine de phénolique de type novolaque convenant pour de telles applications ; ainsi que des procédés de fabrication correspondants. Plus particulièrement, l'invention concerne une résine phénolique de type novolaque caractérisée en ce que cette résine phénolique de type novolaque est obtenue par la réaction d'un composé trinucléaire phénolique (A) et de formaldéhyde en présence d'un catalyseur acide. Le composé trinucléaire phénolique (A) comprend : un composé trinucléaire phénolique (A1) obtenu par une réaction de condensation d'un phénol à substitution dialkyle et d'un aldéhyde aromatique contenant un groupe hydroxyle ; et un composé trinucléaire phénolique (A2) obtenu par une réaction de condensation d'un phénol à substitution dialkyle qui possède des groupes alkyle aux positions 2 et 3, 2 et 5, 3 et 4, ou 3 et 5, et d'un aldéhyde aromatique qui ne possède pas de groupe hydroxyle. Le rapport molaire du composé trinucléaire phénolique (A1) et du composé trinucléaire phénolique (A2) est de 20/80 à 90/10.
(JA) 耐熱性に優れており、かつg線、h線、及びi線の露光波長に対する吸光度が低く、高感度な感光性組成物、レジスト材料、その塗膜、及びこれらの用途に好適なノボラック型フェノール樹脂とその製造方法を提供する。具体的には、ジアルキル置換フェノールと水酸基含有芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系3核体化合物(A1)と、2,3位、2,5位、3,4位、又は3,5位の位置にアルキル基を有するジアルキル置換フェノールと水酸基を有さない芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系3核体化合物(A2)とからなり、かつ前記フェノール系3核体化合物(A1)と前記フェノール系3核体化合物(A2)のモル比が20:80~90:10であるフェノール系3核体化合物(A)と、ホルムアルデヒドとを、酸触媒下で反応させて得られたことを特徴とする、ノボラック型フェノール樹脂を提供するものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)