WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016084195) WHITE LIGHT INTERFERENCE DEVICE AND METHOD OF DETECTING POSITION AND DISPLACEMENT BY MEANS OF WHITE LIGHT INTERFERENCE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/084195    International Application No.:    PCT/JP2014/081401
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 27.11.2014
IPC:
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01)
Applicants: TOKYO SEIMITSU CO., LTD. [JP/JP]; 2968-2, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928515 (JP)
Inventors: AOTO, Tomohiro; (JP).
HAYASHI, Kyohei; (JP)
Agent: MATSUURA, Kenzo; (JP)
Priority Data:
Title (EN) WHITE LIGHT INTERFERENCE DEVICE AND METHOD OF DETECTING POSITION AND DISPLACEMENT BY MEANS OF WHITE LIGHT INTERFERENCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INTERFÉRENCE DE LUMIÈRE BLANCHE ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE POSITION ET DE DÉPLACEMENT AU MOYEN D'UN DISPOSITIF D'INTERFÉRENCE DE LUMIÈRE BLANCHE
(JA) 白色干渉装置及び白色干渉装置による位置及び変位測定方法
Abstract: front page image
(EN)A white light interference device and a method of detecting position and displacement by means of a white light interference device are provided. In the white light interference device (101), a first measurement beam (104) is irradiated onto an object to be measured (156), and at the same time, a second measurement beam (110) is irradiated onto a fixed reference target (140). Initially, the difference between measured values of the object to be measured (156) and measured values of the reference target (140) is acquired and error due to external disturbances is eliminated. Next, a comparison is made using the measured values, from which external disturbance error has been eliminated, and calibration data. Specifically, from the measured values, from which external disturbance error has been eliminated, operation error data of the averaged pitching and yawing of a linear stage (126) is eliminated and true measured data is acquired.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'interférence de lumière blanche et un procédé de détection de position et de déplacement au moyen d'un dispositif d'interférence de lumière blanche. Dans le dispositif d'interférence de lumière blanche (101), un premier faisceau de mesure (104) est irradié sur un objet devant être mesuré (156), et en même temps, un deuxième faisceau de mesure (110) est irradié sur une cible de référence fixe (140). Initialement, la différence entre des valeurs mesurées de l'objet devant être mesuré (156) et des valeurs mesurées de la cible de référence (140) est acquise et toute erreur due à des perturbations externes est éliminée. Ensuite, une comparaison est effectuée à l'aide des valeurs mesurées, dans lesquelles toute erreur due à des perturbations externes a été éliminée, et des données d'étalonnage. De manière spécifique, à partir des valeurs mesurées, dans lesquelles toute erreur due à des perturbations externes a été éliminée, les données d'erreur de fonctionnement de la moyenne du tangage et du lacet d'un étage linéaire (126) sont éliminées et de vraies données mesurées sont acquises.
(JA) 白色干渉装置及び白色干渉装置による位置及び変位測定方法を提供する。白色干渉装置(101)によれば、第1の測定光(104)を測定対象物(156)に照射し、それと同時に第2の測定光(110)を固定の基準ターゲット(140)に照射する。まず、測定対象物(156)の測定値と基準ターゲット(140)の測定値との差分を取り、外乱影響の誤差を除去する。次に、外乱影響の誤差を除去した測定値と較正用データを用いて比較参照する。すなわち、外乱影響の誤差を除去した測定値から、直動ステージ(126)の平均化したピッチング、ヨーイングの動作誤差データを除去し、真の測定データを取得する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)