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1. (WO2016082772) AMPLITUDE MONITORING SYSTEM, FOCUSING AND LEVELING DEVICE, AND DEFOCUSING AMOUNT DETECTION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/082772    International Application No.:    PCT/CN2015/095627
Publication Date: 02.06.2016 International Filing Date: 26.11.2015
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Applicants: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203 (CN)
Inventors: ZHUANG, Yazheng; (CN)
Agent: SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335 (CN)
Priority Data:
201410697616.9 27.11.2014 CN
Title (EN) AMPLITUDE MONITORING SYSTEM, FOCUSING AND LEVELING DEVICE, AND DEFOCUSING AMOUNT DETECTION METHOD
(FR) SYSTÈME DE CONTRÔLE D'AMPLITUDE, DISPOSITIF DE FOCALISATION ET DE MISE À NIVEAU ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE LA QUANTITÉ DE DÉFOCALISATION
(ZH) 振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法
Abstract: front page image
(EN)An amplitude monitoring system, a focusing and leveling device, and a defocusing amount detection method. The defocusing amount detection method comprises the following steps: adjusting an amplitude of a scanning mirror (201) to be a theoretical amplitude, and recording a theoretical voltage value output by a photoelectric detector (309) at this time (S1); adjusting the amplitude of the scanning mirror (201), sampling a real-time amplitude of the scanning mirror (201) and a real-time voltage value output by the photoelectric detector (309), calculating a compensated real-time demodulation amount Si, and recording a real-time defocusing amount Hi of a work stage (305) (S2); after stepping of the work stage (305) ends, establishing a database according to the compensated real-time demodulation amount Si and the real-time defocusing amount Hi of the work stage (305) (S3); and in actual measurement, sampling, in real time, an actual amplitude of the scanning mirror (201) and an actual voltage value output by the photoelectric detector (309), calculating a compensated actual demodulation amount Sk, and searching the database by means of linear interpolation, to obtain an actual defocusing amount Hk of the work stage (305) (S4). The focusing and leveling device and the defocusing amount detection method avoid a problem that precision of measuring a defocusing amount of a silicon wafer surface by the focusing and leveling detection device is not high due to a phenomenon of poor stability that occurs when a scanning mirror works for a long time.
(FR)L'invention concerne un système de contrôle d'amplitude, un dispositif de focalisation et de mise à niveau et un procédé de détection de la quantité de défocalisation. Le procédé de détection de la quantité de défocalisation comprend les étapes suivantes : régler une amplitude d'un miroir à balayage (201) sur une amplitude théorique, et enregistrer une valeur de tension théorique transmise par un détecteur photoélectrique (309) à ce moment-là (S1) ; régler l'amplitude du miroir à balayage (201), échantillonner une amplitude en temps réel du miroir à balayage (201) et une valeur de tension en temps réel transmise par le détecteur photoélectrique (309), calculer une quantité de démodulation en temps réel compensée (Si) et enregistrer une quantité de défocalisation en temps réel (Hi) d'un étage de travail (305) (S2) ; à la fin de l'échelonnement de l'étage de travail (305), établir une base de données en fonction de la quantité de démodulation en temps réel compensée (Si) et de la quantité de défocalisation en temps réel (Hi) de l'étage de travail (305) (S3) ; et lors d'une mesure réelle, échantillonner, en temps réel, une amplitude réelle du miroir à balayage (201) et une valeur de tension réelle transmise par le détecteur photoélectrique (309), calculer une quantité de démodulation réelle compensée (Sk) et effectuer une recherche dans la base de données au moyen d'une interpolation linéaire, de façon à obtenir une quantité de défocalisation réelle (Hk) de l'étage de travail (305) (S4). Le dispositif de focalisation et de mise à niveau et le procédé de détection de la quantité de défocalisation évitent un problème selon lequel la précision de mesure d'une quantité de défocalisation d'une surface de plaquette de silicium par le dispositif de détection de focalisation et de mise à niveau n'est pas élevée en raison d'un phénomène de mauvaise stabilité qui se produit lorsqu'un miroir à balayage fonctionne pendant un long moment.
(ZH)一种振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法,离焦量探测方法包括如下步骤:调整扫描反射镜(201)的振幅处于理论振幅,并记录此时光电探测器(309)输出的理论电压值(S1);调整扫描反射镜(201)的振幅,采样扫描反射镜(201)的实时振幅以及光电探测器(309)输出的实时电压值,计算出补偿后的实时解调量Si,并记录工件台(305)的实时离焦量Hi(S2);工件台(305)步进结束后,根据补偿后的实时解调量Si和工件台(305)的实时离焦量Hi建立数据库(S3);实际测量时,实时采样扫描反射镜(201)的实际振幅以及光电探测器(309)输出的实际电压值,计算补偿后的实际解调量Sk,利用线性插值法查找数据库,求出工件台(305)的实际离焦量Hk(S4)。这种调焦调平装置及离焦量探测方法避免了由于扫描反射镜长期工作,出现稳定性差的现象,导致调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)