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1. (WO2016065276) PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS AND METHODS OF FABRICATING TRANSISTOR DEVICES USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/065276    International Application No.:    PCT/US2015/057143
Publication Date: 28.04.2016 International Filing Date: 23.10.2015
IPC:
G03F 7/025 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 27/00 (2006.01), H01L 29/00 (2006.01)
Applicants: FLEXTERRA, INC. [US/US]; 8025 Lamon Avenue, Suite 043 Skokie, IL 60077 (US)
Inventors: ZHENG, Yan; (US).
HU, Yan; (US).
ZHAO, Wei; (US).
FACCHETTI, Antonio; (US)
Agent: CHAN, Karen, K.; (US)
Priority Data:
62/068,612 24.10.2014 US
Title (EN) PHOTOPATTERNABLE COMPOSITIONS AND METHODS OF FABRICATING TRANSISTOR DEVICES USING SAME
(FR) COMPOSITIONS POUR FORMATION DE MOTIFS PAR RÉACTION PHOTOCHIMIQUE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DES DISPOSITIFS DE TRANSISTOR LES METTANT EN ŒUVRE
Abstract: front page image
(EN)The present teachings relate to compositions for forming a negative-tone photopatternable dielectric material, where the compositions include, among other components, an organic filler and one or more photoactive compounds, and where the presence of the organic filler enables the effective removal of such photoactive compounds (after curing, and during or after the development step) which, if allowed to remain in the photopatterned dielectric material, would lead to deleterious effects on its dielectric properties.
(FR)La présente invention concerne des compositions destinées à former un matériau diélectrique à tonalité négative se prêtant à la formation de motifs par réaction photochimique, lesdites compositions comprenant, entre autres constituants, une charge organique et un ou plusieurs composés photoactifs, la présence de la charge organique permettant l'élimination efficace desdits composés photoactifs (après durcissement, et pendant ou après l'étape de développement) qui produiraient des effets négatifs sur les propriétés du matériau diélectrique photoimprimé s'ils restaient sur celui-ci.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)