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1. (WO2016063580) PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION DEVICE, PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION METHOD, AND RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/063580 International Application No.: PCT/JP2015/069265
Publication Date: 28.04.2016 International Filing Date: 03.07.2015
IPC:
G03F 1/78 (2012.01) ,G03F 1/70 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
1
Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68
Preparation processes not covered by groups G03F1/20-G03F1/5096
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Patterning of masks by imaging
78
by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
1
Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68
Preparation processes not covered by groups G03F1/20-G03F1/5096
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Adapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g. second iteration correction of mask patterns for imaging
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
日本コントロールシステム株式会社 NIPPON CONTROL SYSTEM CORPORATION [JP/JP]; 東京都渋谷区恵比寿1丁目20番18号 1-20-18, Ebisu, Shibuya-ku, Tokyo 1500013, JP
Inventors:
津江 宏之 TSUNOE, Hiroyuki; JP
Agent:
谷川 英和 TANIGAWA, Hidekazu; JP
Priority Data:
2014-21438221.10.2014JP
Title (EN) PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION DEVICE, PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION METHOD, AND RECORDING MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) パターン補正量算出装置、パターン補正量算出方法、および記録媒体
Abstract:
(EN) [Problem] To calculate an appropriate correction amount for each of two or more consecutive microscopic sides. [Solution] Provided is a pattern correction amount calculation device for calculating the appropriate correction amount for each of two or more consecutive microscopic sides. The pattern correction amount calculation device comprises: a reception unit for receiving pattern information; a microscopic side set acquisition unit for acquiring a set of microscopic sides that is a set of two or more consecutive microscopic sides configuring the contour line of a graphic pattern represented by the pattern information, the microscopic sides being small enough to satisfy predetermined conditions; a virtual side acquisition unit for acquiring a virtual side that is a side for approximating the two or more microscopic sides included in the set of microscopic sides; a virtual side correction amount calculation unit for calculating the virtual side correction amount which is the correction amount for the virtual side; a microscopic sides correction amount calculation unit for calculating the correction amount for each of two or more microscopic sides included in the set of microscopic sides corresponding to the virtual side using the correction amount for the virtual side; and an output unit for outputting the correction amount for two or more microscopic sides.
(FR) Le problème est ici de calculer une quantité de correction appropriée pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs. L'invention fournit comme solution un dispositif de calcul de quantité de correction de motif permettant de calculer la quantité de correction appropriée pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs. Le dispositif de calcul de quantité de correction de motif comprend : une unité de réception permettant de recevoir des informations de motif ; une unité d'acquisition d’ensemble de côtés microscopiques permettant d’acquérir un ensemble de côtés microscopiques qui est un ensemble de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs configurant la ligne de contour d'un motif graphique représenté par les informations de motif, les côtés microscopiques étant suffisamment petits pour satisfaire des conditions prédéterminées ; une unité d'acquisition de côté virtuel pour acquérir un côté virtuel qui est un côté pour approcher les deux ou plusieurs côtés microscopiques inclus dans l'ensemble de côtés microscopiques; une unité de calcul de quantité de correction de côté virtuel pour calculer la quantité de correction de côté virtuel qui représente la quanitité de correction pour le côté virtuel ; une unité de calcul de quantité de correction de côtés microscopiques permettant de calculer la quantité de correction pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques inclus dans l'ensemble de côtés microscopiques correspondant au côté virtuel à l'aide de la quantité de correction pour le côté virtuel ; et une unité de sortie pour délivrer en sortie la quantité de correction pour deux ou plusieurs côtés microscopiques.
(JA) 【課題】連続する2以上の各微小辺に対する適切な補正量を算出することができなかった。 【解決手段】パターン情報を受け付ける受付部と、パターン情報が示すパターン図形の輪郭線を構成する連続する2以上の辺の集合であり、予め決められた条件を満たすほど小さい微小辺の集合である微小辺集合を取得する微小辺集合取得部と、微小辺集合が有する2以上の微小辺を近似する辺である仮想辺を取得する仮想辺取得部と、仮想辺に対する補正量である仮想辺補正量を算出する仮想辺補正量算出部と、仮想辺補正量を用いて、仮想辺に対応する微小辺集合が有する2以上の各微小辺に対する補正量である2以上の微小辺補正量を算出する微小辺補正量算出部と、2以上の微小辺補正量を出力する出力部とを備えるパターン補正量算出装置により、連続する2以上の各微小辺に対する適切な補正量を算出することができる。
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)