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1. (WO2016063463) PROCESS FOR PRODUCING THIN ORGANIC FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/063463    International Application No.:    PCT/JP2015/005023
Publication Date: 28.04.2016 International Filing Date: 02.10.2015
IPC:
B05D 3/10 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), C23C 26/00 (2006.01)
Applicants: NIPPON SODA CO., LTD. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008165 (JP)
Inventors: SHIBATA, Hiromoto; (JP)
Agent: HIROTA, Masanori; (JP)
Priority Data:
2014-214111 21.10.2014 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING THIN ORGANIC FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MINCE FILM ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a process for thin-organic-film production whereby a thin organic film that is dense can be formed on substrates constituted of various materials, in cases when the substrates are brought into contact with a solution for thin-organic-film formation which contains a metal-based surfactant as a main raw material, after an ultraviolet/ozone treatment as the only treatment. The following steps (A) and (B) are conducted: step (A) in which the surface of a substrate is treated with light from an excimer lamp containing Xe gas enclosed therein and with ozone generated by the light from an excimer lamp containing Xe gas enclosed therein; and step (B) in which the substrate is subsequently brought into contact with an organic-solvent solution containing both a metal-based surfactant having at least one hydrolyzable group and a compound capable of interacting with the metal-based surfactant.
(FR)Le problème à la base de la présente invention concerne un procédé de production d'un mince film organique, permettant de former un mince film organique, dense, sur des substrats constitués de divers matériaux, dans les cas où les substrats sont mis en contact avec une solution de formation du mince film organique, qui contient un agent tensioactif à base de métal en tant que matière première principale, après un traitement aux ultraviolets/à l'ozone, en tant que traitement unique. Les étapes suivantes (A) et (B) sont effectuées : étape (A), dans laquelle la surface d'un substrat est traitée par de la lumière provenant d'une lampe excimère contenant du Xe gazeux enfermé en son sein et par de l'ozone généré par la lumière provenant d'une lampe excimère contenant du Xe gazeux enfermé en son sein ; et étape (B), dans laquelle le substrat est mis en contact consécutivement avec une solution de solvant organique contenant à la fois un agent tensioactif à base de métal présentant au moins un groupe hydrolysable et un composé pouvant interagir avec le tensioactif à base de métal.
(JA) 様々な材質の基材に対して、紫外線/オゾン処理のみで、金属系界面活性を主要な原料とする有機薄膜形成用溶液を接触させた場合に、緻密な有機薄膜が形成できる有機薄膜製造方法を提供することを課題とする。 基材表面を、Xeガスを封入したエキシマランプの光及びXeガスを封入したエキシマランプの光によって生成したオゾンを用いて表面処理する工程(A)、次いで少なくとも1以上の加水分解性基を有する金属系界面活性剤、及び該金属系界面活性剤と相互作用し得る化合物を含有する有機溶媒溶液に、前記基材を接触させる工程(B)を行う。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)