WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016063409) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/063409    International Application No.:    PCT/JP2014/078325
Publication Date: 28.04.2016 International Filing Date: 24.10.2014
IPC:
H05G 2/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Applicants: GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventors: UENO, Yoshifumi; (JP).
HOSODA, Hirokazu; (JP).
YABU, Takayuki; (JP)
Agent: TOU-OU PATENT FIRM; Urban Toranomon Bldg., 16-4, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
Title (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT
(FR) SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成システム及び極端紫外光を生成する方法
Abstract: front page image
(EN)This extreme ultraviolet light generation system may include a laser system and a control unit. The laser system may generate a mist target by irradiating a first target with first pulsed laser light and diffusing the first target, and may irradiate the mist target with second pulsed laser light. The control unit may measure the first mist diameter of the mist target, and on the basis of the first mist diameter, may control irradiation timing of the second pulsed laser light and/or energy of the first pulsed laser with which a second target is to be irradiated.
(FR)L'invention porte sur un système de génération de lumière ultraviolette extrême qui peut comprendre un système laser et une unité de commande. Le système laser peut générer une cible de brouillard par exposition d'une première cible à une première lumière laser pulsée et diffusion de la première cible, et peut exposer la cible de brouillard à une seconde lumière laser pulsée. L'unité de commande peut mesurer le premier diamètre de brouillard de la cible de brouillard, et sur la base du premier diamètre de brouillard, peut commander le positionnement temporel d'émission de la seconde lumière laser pulsée et/ou l'énergie du premier laser pulsé avec lesquels une seconde cible doit être exposée.
(JA) 極端紫外光生成システムは、レーザシステム及び制御部を含んでもよい。レーザシステムは、第1ターゲットに第1パルスレーザ光を照射して前記第1ターゲットを拡散させてミストターゲットを生成し、ミストターゲットに第2パルスレーザ光を照射してもよい。制御部は、ミストターゲットの第1ミスト径を計測し、第1ミスト径に基づいて、第2パルスレーザ光の照射タイミング及び第2ターゲットに照射する第1パルスレーザ光のエネルギの少なくとも一方を制御してもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)