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1. (WO2016062540) SUPPORT TABLE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD OF LOADING A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/062540    International Application No.:    PCT/EP2015/073112
Publication Date: 28.04.2016 International Filing Date: 07.10.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), F16C 32/06 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: TROMP, Siegfried, Alexander; (NL).
VERWEIJ, Antonie, Hendrik; (NL).
SOETHOUDT, Abraham, Alexander; (NL).
VAN DE POEL, Jan, Pieter; (NL).
BAGGEN, Mark, Constant, Johannes; (NL)
Agent: DUNG, S.; (NL)
Priority Data:
14190079.5 23.10.2014 EP
Title (EN) SUPPORT TABLE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD OF LOADING A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) TABLE SUPPORT POUR APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE CHARGEMENT D'UN SUBSTRAT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)There are disclosed a support table for a lithographic apparatus, a method of loading a substrate, a lithographic apparatus and a method for manufacturing a device using a lithographic apparatus. In one arrangement, a support table (100) is configured to support a substrate (W). The support table comprises a base surface (101). The base surface faces a bottom surface (103) of the substrate when the substrate is supported by the support table. One or more gas cushion members (102) are provided above the base surface. Each of the gas cushion members comprises a recess (108). The recess is shaped and configured such that a lowering of the substrate into a position on the support table at which the substrate is supported by the support table causes a localised build-up of pressure within the recess. The localised build-up of pressure provides a localised gas cushioning effect during the lowering of the substrate.
(FR)L'invention concerne une table support destinée à un appareil lithographique, un procédé de chargement d'un substrat, un appareil lithographique et un procédé de fabrication d'un dispositif utilisant un appareil lithographique. Dans une configuration, une table support (100) sert à porter un substrat (W). Cette table support comprend une surface de base (101). La surface de base se trouve en regard d'une surface inférieure (103) du substrat lorsque ce dernier est porté par la table support. Un ou plusieurs éléments à coussin de gaz (102) sont situés au-dessus de la surface de base. Chacun des éléments à coussin de gaz comporte un évidement (108). L'évidement est conçu et formé de telle sorte qu'un abaissement du substrat à un endroit sur la table support où le substrat est porté par ladite table provoque une accumulation localisée de la pression à l'intérieur de l'évidement. L'accumulation localisée de la pression produit un effet d'amortissement au gaz localisé pendant l'abaissement du substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)