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1. (WO2016060831) SILICONE COMPOSITION AND A PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE FILM HAVING A PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE LAYER MADE FROM THE COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/060831 International Application No.: PCT/US2015/052578
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 28.09.2015
IPC:
C08L 83/04 (2006.01) ,C08K 3/36 (2006.01) ,C09J 183/04 (2006.01) ,C09J 7/02 (2006.01)
Applicants: DOW CORNING CORPORATION[US/US]; 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US
Inventors: JO, Gunn; KR
HAN, Kyungdong; KR
KIM, Bokyung; KR
Agent: WYATT J. Istvan-Mitchell; US
Priority Data:
62/064,55816.10.2014US
Title (EN) SILICONE COMPOSITION AND A PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE FILM HAVING A PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE LAYER MADE FROM THE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE SILICONE ET FILM ADHÉSIF SENSIBLE À LA PRESSION AYANT UNE COUCHE ADHÉSIVE SENSIBLE À LA PRESSION FABRIQUÉ À PARTIR DE LA COMPOSITION
Abstract:
(EN) A pressure sensitive adhesive film comprising a substrate film and a pressure sensitive adhesive layer formed on a surface of the substrate film, said pressure sensitive adhesive layer being made from a silicone composition comprising: a diorganopolysiloxane having at least two alkenyl groups in a molecule and having a viscosity at 25°C of from 10,000 to 1,000,000 mPa.s; (B) a diorganopolysiloxane having at least one alkenyl group in a molecule, and being a raw rubberlike at 25°C or having a viscosity at 25°C of more than 1,000,000 mPa-s, in an amount of not more than 10 mass % based on a mass of the composition; (C) an organopolysiloxane resin represented by the following average unit formula: (R13SIO1/2)x (Si04/2)1.0, wherein each R1 represents a halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group free from an alkenyl group and ϰ is a number from 0.5 to 1.0; (D) an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in a molecule; (E) silica fine powder; and (F) a hydrosilylation catalyst.
(FR) L'invention concerne un film adhésif sensible à la pression comprenant un film substrat et une couche adhésive sensible à la pression formée sur une surface du film substrat, ladite couche adhésive sensible à la pression étant fabriquée à partir d'une composition de silicone comprenant : un diorganopolysiloxane ayant au moins deux groupes alcényle dans une molécule et ayant une viscosité à 25 °C de 10 000 à 1 000 000 mPa.s; (B) un diorganopolysiloxane ayant au moins un groupe alcényle dans une molécule, et étant du type caoutchouc brut à 25 °C ou ayant une viscosité à 25 °C de plus de 1 000 000 mPa.s, dans une quantité de pas plus de 10 % en masse sur la base d'une masse de la composition; (C) une résine d'organopolysiloxane représentée par la formule unitaire moyenne suivante : (R1 3SIO1/2) x (SiO4/2)1,0, dans laquelle chaque R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent substitué ou non substitué par un halogène, exempt de groupe alcényle et ϰ est un nombre allant de 0,5 à 1,0; (D) un organohydrogénopolysiloxane ayant au moins deux atomes d'hydrogène liés au silicium dans une molécule; (E) une poudre de silice fine; et (F) un catalyseur d'hydrosilylation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)