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1. (WO2016060801) SYSTEMS AND METHODS FOR INTERNAL SURFACE CONDITIONING ASSESSMENT IN PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/060801    International Application No.:    PCT/US2015/051636
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 23.09.2015
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC [US/US]; 3050 Bowers Ave. Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: PARK, Soonam; (US).
ZHU, Yufei; (US).
SUAREZ, Edwin C.; (US).
INGLE, Nitin K.; (US).
LUBOMIRSKY, Dmitry; (US).
HUANG, Jiayin; (US)
Agent: LINDEMANN, John; (US)
Priority Data:
14/514,222 14.10.2014 US
Title (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR INTERNAL SURFACE CONDITIONING ASSESSMENT IN PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS D'ÉVALUATION DE CONDITIONNEMENT DE SURFACE INTERNE DANS UN ÉQUIPEMENT DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Abstract: front page image
(EN)In an embodiment, a plasma source includes a first electrode, configured for transfer of one or more plasma source gases through first perforations therein; an insulator, disposed in contact with the first electrode about a periphery of the first electrode; and a second electrode, disposed with a periphery of the second electrode against the insulator such that the first and second electrodes and the insulator define a plasma generation cavity. The second electrode is configured for movement of plasma products from the plasma generation cavity therethrough toward a process chamber. A power supply provides electrical power across the first and second electrodes to ignite a plasma with the one or more plasma source gases in the plasma generation cavity to produce the plasma products. One of the first electrode, the second electrode and the insulator includes a port that provides an optical signal from the plasma.
(FR)Dans un mode de réalisation, l'invention concerne une source de plasma qui comprend une première électrode, configurée pour le transfert d'un ou plusieurs gaz sources de plasma à travers des premières perforations en son sein ; un isolant, disposé en contact avec la première électrode autour d'une périphérie de la première électrode ; et une seconde électrode, disposée avec une périphérie de la seconde électrode contre l'isolant de manière que les première et seconde électrodes et l'isolant délimitent une cavité de génération de plasma. La seconde électrode est configurée pour le déplacement à travers elle, vers une chambre de traitement, de produits plasmatiques provenant de la cavité de génération de plasma. Une alimentation fournit de l'énergie électrique aux bornes des première et seconde électrodes pour allumer un plasma avec le ou les gaz sources de plasma dans la cavité de génération de plasma afin de produire les produits plasmatiques. L'un de la première électrode, de la seconde électrode et de l'isolant comporte un orifice qui fournit un signal optique provenant du plasma.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)