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1. (WO2016060773) CORROSION RESISTANT ABATEMENT SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/060773    International Application No.:    PCT/US2015/050184
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 15.09.2015
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: RAJ, Govinda; (IN).
AGARWAL, Monika; (US).
MOHIUDDIN, Hamid; (US).
NARENDRNATH, Kadthala R.; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US)
Priority Data:
62/064,461 15.10.2014 US
62/120,349 24.02.2015 US
Title (EN) CORROSION RESISTANT ABATEMENT SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RÉDUCTION RÉSISTANT À LA CORROSION
Abstract: front page image
(EN)Embodiments disclosed herein include a plasma source, and an abatement system for abating compounds produced in semiconductor processes. In one embodiment, a plasma source is disclosed. The plasma source includes a body having an inlet and an outlet, and the inlet and the outlet are fluidly coupled within the body. The body further includes inside surfaces, and the inside surfaces are coated with yttrium oxide or diamond-like carbon. The plasma source further includes a flow splitter disposed in the body in a position that formed two flow paths between the inlet and the outlet, and a plasma generator disposed in a position operable to form a plasma within the body between the flow splitter and inside surfaces of the body.
(FR)Les modes de réalisation de la présente invention concernent une source de plasma, et un système de réduction destiné à réduire les composés produits dans des procédés de semiconducteur. Selon un mode de réalisation, l'invention concerne une source de plasma. La source de plasma comprend un corps présentant une entrée et une sortie, l'entrée et la sortie étant en communication fluidique à l'intérieur du corps. Le corps comprend en outre des surfaces intérieures, et les surfaces intérieures sont revêtues avec de l'oxyde d'yttrium ou du carbone de type diamant. La source de plasma comprend en outre un diviseur de flux disposé dans le corps dans une position qui forme deux passages entre l'entrée et la sortie, et un générateur de plasma disposé dans une position ayant pour fonction de former un plasma à l'intérieur du corps entre le diviseur de flux et les surfaces intérieures du corps.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)