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1. (WO2016060168) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISC AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISC
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Pub. No.: WO/2016/060168 International Application No.: PCT/JP2015/079064
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 14.10.2015
IPC:
G11B 5/84 (2006.01)
G PHYSICS
11
INFORMATION STORAGE
B
INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5
Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
84
Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Applicants: HOYA CORPORATION[JP/JP]; 6-10-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1608347, JP
Inventors: YAMASHIRO, Yuji; JP
KUHARA, Takumi; JP
Agent: GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
Priority Data:
2014-20979014.10.2014JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISC AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISC
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT POUR DISQUE MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
Abstract:
(EN)  A method for manufacturing a substrate for a magnetic disc, with which it is possible to decrease micro-waviness having a wavelength of 50-200 μm. This method for manufacturing a substrate for a magnetic disc includes a polishing process for interposing a substrate between a pair of polishing pads, supplying a slurry that includes polishing abrasive grains between the polishing pads and the substrate, and sliding the polishing pads and the substrate relative to each other, whereby both of the main surfaces of the substrate are polished. The polishing surfaces of the polishing pads are configured from a foamed resin material having openings that were formed before the substrate was polished, the openings being formed by shaving off at least the surface film of the foamed resin material. The foamed resin material is used as a polishing pad material before the openings are formed, the arithmetic mean roughness Ra for the roughness of the surface films of the foamed resin material before the openings are formed being 0.65 μm or less.
(FR)  La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat pour un disque magnétique, à l'aide duquel il est possible de réduire une micro-ondulation ayant une longueur d'onde de 50 à 200 µm. Ce procédé de fabrication d'un substrat pour un disque magnétique comprend un processus de polissage pour interposition d'un substrat entre une paire de tampons de polissage, l'apport d'une suspension qui comprend des grains abrasifs de polissage entre les tampons de polissage et le substrat, et le glissement des tampons de polissage et du substrat l'un par rapport à l'autre, moyennant quoi les deux surfaces principales du substrat sont polies. Les surfaces de polissage des tampons de polissage sont configurées à partir d'une matière de résine expansée ayant des ouvertures qui ont été formées avant polissage du substrat, les ouvertures étant formées en rasant au moins le film de surface de la matière de résine expansée. La matière de résine expansée est utilisée en tant que matière de tampon de polissage avant formation des ouvertures, la rugosité moyenne arithmétique Ra pour la rugosité des films de surface de la matière de résine expansée avant formation des ouvertures étant de 0,65 µm ou moins.
(JA)  波長50~200μmの微小うねりを低下することができる磁気ディスク用基板の製造方法は、一対の研磨パッドで基板を挟み、前記研磨パッドと前記基板の間に研磨砥粒を含むスラリーを供給して、前記研磨パッドと前記基板を相対的に摺動させることにより、前記基板の両主表面を研磨する研磨処理を含む。前記研磨パッドの研磨面は、発泡樹脂材の少なくとも表面膜を削って開口を形成する開口処理を、前記基板の前記研磨処理前に施した開口処理済み発泡樹脂材で構成される。前記開口処理前の、前記発泡樹脂材の前記表面膜の表面粗さのうち算術平均粗さRaが0.65μm以下である発泡樹脂材を開口処理前の研磨パッドの素材として用いる。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)