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1. (WO2016060070) BLOCK COPOLYMER HYDRIDE AND STRETCHED FILM FORMED FROM SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/060070    International Application No.:    PCT/JP2015/078696
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 08.10.2015
IPC:
C08F 297/04 (2006.01), C08F 8/04 (2006.01)
Applicants: ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP)
Inventors: SAITOU Daisuke; (JP).
HARAUCHI Yosuke; (JP).
ISHIGURO Atsushi; (JP).
KOHARA Teiji; (JP)
Agent: OHISHI Haruhito; (JP)
Priority Data:
2014-210418 15.10.2014 JP
Title (EN) BLOCK COPOLYMER HYDRIDE AND STRETCHED FILM FORMED FROM SAME
(FR) HYDRURE DE COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ ET FILM ÉTIRÉ FORMÉ À PARTIR DE CELUI-CI
(JA) ブロック共重合体水素化物、およびそれからなる延伸フィルム
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a block copolymer hydride which is obtained by hydrogenating a block copolymer (C) that is composed of two polymer blocks (A) mainly composed of a repeating unit (I) derived from an aromatic vinyl compound and one polymer block (B) mainly composed of the repeating unit (I) and a repeating unit (II) derived from a chain conjugated diene compound, and wherein: if wA is the weight fraction of the polymer blocks (A) and wB is the weight fraction of the polymer block (B) in the block copolymer (C), (wA:wB) is from 45:55 to 65:35; if w(IB) is the weight fraction of the repeating unit (I) and w(IIB) is the weight fraction of the repeating unit (II) in the polymer block (B), (w(IB): w(IIB)) is from 40:60 to 55:45; 90% or more of all the unsaturated bonds in the block copolymer (C) is hydrogenated; the weight average molecular weight thereof is 60,000-150,000; and the lower side glass transition temperature (Tg1) thereof is 0°C or more and the higher side glass transition temperature (Tg2) thereof is 135°C or more as determined by dynamic viscoelasticity. The present invention also provides a stretched film which is formed from this block copolymer hydride.
(FR)La présente invention concerne un hydrure de copolymère séquencé, qui est obtenu par hydrogénation d'un copolymère séquencé (C), qui est composé de deux blocs polymères (A), principalement composés d'un motif récurrent (I) dérivé d'un composé aromatique de vinyle, et d'un bloc polymère (B), principalement composé du motif récurrent (I) et d'un motif récurrent (II) dérivé d'un composé diène à chaîne conjuguée. Selon l'invention, si wA est la fraction pondérale des blocs polymères (A) et si wB est la fraction pondérale du bloc polymère (B) dans le copolymère séquencé (C), (wA:wB) vaut 45:55 à 65:35 ; si w(IB) est la fraction pondérale du motif récurrent (I) et si w(IIB) est la fraction pondérale du motif récurrent (II) dans le bloc polymère (B), (w(IB):w(IIB)) vaut 40:60 à 55:45 ; 90 % ou plus de la totalité des liaisons insaturées dans le copolymère séquencé (C) sont hydrogénés ; la masse moléculaire pondérale moyenne correspondante est de 60.000 à 150.000 ; et la température de transition vitreuse (Tg1) inférieure correspondante est de 0°C ou plus et la température de transition vitreuse (Tg2) supérieure correspondante est de 135°C ou plus, telle que déterminée par viscoélasticité dynamique. La présente invention concerne également un film étiré qui est formé à partir de cet hydrure de copolymère séquencé.
(JA)本発明は、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位[I]を主成分とする2つの重合体ブロック[A]と、前記繰り返し単位[I]及び鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位[II]を主成分とする1つの重合体ブロック[B]とからなるブロック共重合体[C]を水素化したブロック共重合体水素化物であって、ブロック共重合体[C]に占める、重合体ブロック[A]の重量分率をwA、重合体ブロック[B]の重量分率をwBとしたときに、(wA:wB)が45:55~65:35、重合体ブロック[B]に占める返し単位[I]の重量分率をw[I]、繰り返し単位[II]の重量分率をw[II]としたときに、(w[I]:w[II])が40:60~55:45、ブロック共重合体[C]の全不飽和結合の90%以上が水素化されており、重量平均分子量が60,000~150,000、動的粘弾性による低温側のガラス転位温度[Tg]が0℃以上、かつ、高温側のガラス転位温度[Tg]が135℃以上であるブロック共重合体水素化物、及び、それからなる延伸フィルムである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)