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1. (WO2016059990) ELECTRON BEAM STERILISATION EQUIPMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/059990    International Application No.:    PCT/JP2015/078148
Publication Date: 21.04.2016 International Filing Date: 05.10.2015
IPC:
B65B 55/04 (2006.01), A61L 2/08 (2006.01), B65B 55/08 (2006.01), G21K 5/00 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01), G21K 5/10 (2006.01)
Applicants: HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559 (JP)
Inventors: SASAKI Kazuaki; .
YOKOBAYASHI Takayasu; .
TAKEDA Shinichi;
Agent: MORIMOTO INT'L PATENT OFFICE; Shinanobashi Mitsui Bldg. 3F, 11-7, Utsubohonmachi 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500004 (JP)
Priority Data:
2014-209570 14.10.2014 JP
Title (EN) ELECTRON BEAM STERILISATION EQUIPMENT
(FR) ÉQUIPEMENT DE STÉRILISATION SOUS FAISCEAU D'ÉLECTRONS
(JA) 電子線滅菌設備
Abstract: front page image
(EN)Electron beam sterilisation equipment comprising: an inner surface sterilisation chamber (5) in which an inner surface electron beam irradiation device is disposed; and a shield chamber (6) which receives preformed bodies (P) from the inner surface sterilisation chamber (5) and shields X-rays generated by irradiation with an electron beam. The shield chamber (6) has: an upstream side opening (62) which receives the preformed bodies (P); and a downstream side opening (63) which transfers the preformed bodies (P). The shield chamber (6) is provided with: gripping tools (74) which grip the preformed bodies (P); an aseptic revolving table (71) which conveys the gripped preformed bodies (P) on a circular path; and shield walls (81) which shield the X-rays and are not in contact with the aseptic revolving table (71). The shield walls (81) face the upstream side opening (62) [or the downstream side opening (63)] and have a larger surface area than the upstream side opening (62) [or the downstream side opening (63)].
(FR)La présente invention concerne un équipement de stérilisation sous faisceau d'électrons comprenant : une chambre de stérilisation (5) de surface interne dans laquelle est disposé un dispositif de rayonnement de faisceau d'électrons de surface interne; et une chambre de protection (6) qui reçoit des corps préformés (P) en provenance de la chambre de stérilisation (5) de surface interne et assure une protection vis-à-vis des rayons X générés par rayonnement d'un faisceau d'électrons. La chambre de protection (6) présente : une ouverture en amont (62) qui reçoit les corps préformés (P); et une ouverture en aval (63) qui transfère les corps préformés (P). La chambre de protection (6) est pourvue : d'outils de préhension (74) qui saisissent les corps préformés (P); d'une table tournante (71) aseptique qui transporte les corps préformés (P) saisis sur un trajet circulaire; et de parois (81) de protection qui assurent une protection vis-à-vis des rayons X et qui ne sont pas en contact avec la table tournante (71) aseptique. Les parois (81) de protection font face à l'ouverture en amont (62) [ou à l'ouverture en aval (63)] et présentent une surface supérieure à celle de l'ouverture en amont (62) [ou à celle de l'ouverture en aval (63)].
(JA)内面電子線照射装置が配置された内面滅菌室(5)と、内面滅菌室(5)からプリフォーム体(P)を受け取ると共に電子線の照射で発生するX線を遮蔽する遮蔽室(6)とを備える電子線滅菌設備である。遮蔽室(6)が、プリフォーム体(P)を受け取る上流側開口(62)と、プリフォーム体(P)を受け渡す下流側開口(63)とを有する。遮蔽室(6)に、プリフォーム体(P)を把持する把持具(74)と、把持されたプリフォーム体(P)を円経路で搬送する無菌旋回テーブル(71)と、無菌旋回テーブル(71)に非接触であってX線を遮蔽する遮蔽壁(81)とが設けられる。遮蔽壁(81)が、上流側開口(62)[または下流側開口(63)]に面して上流側開口(62)[または下流側開口(63)]よりも面積が大きいものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)