WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2016056574) MODIFIED POLYVINYL ALCOHOL, RESIN COMPOSITION, AND FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/056574    International Application No.:    PCT/JP2015/078413
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 06.10.2015
IPC:
C08F 16/06 (2006.01), B65D 65/46 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08L 29/04 (2006.01)
Applicants: KURARAY CO., LTD. [JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801 (JP)
Inventors: TAKAFUJI Masahiro; (JP).
KATO Masaki; (JP).
MORI Yoko; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; (JP)
Priority Data:
2014-208315 09.10.2014 JP
Title (EN) MODIFIED POLYVINYL ALCOHOL, RESIN COMPOSITION, AND FILM
(FR) ALCOOL POLYVINYLIQUE MODIFIÉ, COMPOSITION DE RÉSINE ET FILM
(JA) 変性ポリビニルアルコール、樹脂組成物及びフィルム
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a modified polyvinyl alcohol capable of forming a film exhibiting excellent cold-water solubility, mechanical strength, and chemical resistance. The present invention is a modified polyvinyl alcohol containing a monomer unit represented by formula (I) and a structural unit represented by formula (II), wherein the monomer unit (I) content relative to the total monomer units in the modified polyvinyl alcohol is 0.05-10 mol%, inclusive, the structural unit (II) content relative to the total monomer units in the modified polyvinyl alcohol is 0.001-0.5 mol%, inclusive, the viscosity average polymerization degree is 300-3,000, inclusive, and the degree of saponification is 82-99.5 mol%, inclusive. In formula (I), R1 is a hydrogen atom or an alkyl group. R2 is -R3-SO3-X+, -R3-N+(R4)3Cl-, or a hydrogen atom. R3 is an alkanediyl group. X+ is a hydrogen atom, a metal atom, or an ammonium group. R4 is an alkyl group.
(FR)La présente invention vise à fournir un alcool polyvinylique modifié apte à former un film présentant une excellente solubilité dans l'eau froide, résistance mécanique et résistance chimique. La présente invention est un alcool polyvinylique modifié contenant un motif monomère représenté par la formule (I) et un motif structural représenté par la formule (II). La teneur en motif monomère (I) par rapport aux motifs monomères totaux dans l'alcool polyvinylique modifié est de 0,05 à 10 % molaires, inclus, la teneur en motif structural (II) par rapport aux motifs monomères totaux dans l'alcool polyvinylique modifié est de 0,001 à 0,5 % molaire, inclus, le degré de polymérisation moyen en viscosité est de 300 à 3 000, inclus, et le degré de saponification est de 82 à 99,5 % molaires, inclus. Dans la formule (I), R1 est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle. R2 est -R3-SO3 -X+, -R3-N+(R4)3Cl-, ou un atome d'hydrogène. R3 est un groupe alcanediyle. X+ est un atome d'hydrogène, un atome de métal ou un groupe ammonium. R4 est un groupe alkyle.
(JA) 本発明は、冷水溶解性、機械的強度及び耐薬品性に優れるフィルムを形成可能な変性ポリビニルアルコールの提供を目的とする。本発明は、式(I)で表される単量体単位及び式(II)で表される構造単位を含む変性ポリビニルアルコールであって、上記変性ポリビニルアルコールの全単量体単位に対する単量体単位(I)の含有率が0.05モル%以上10モル%以下であり、上記変性ポリビニルアルコールの全単量体単位に対する構造単位(II)の含有率が0.001モル%以上0.5モル%以下であり、粘度平均重合度が300以上3,000以下、ケン化度が82モル%以上99.5モル%以下である。式(I)中、Rは、水素原子又はアルキル基である。Rは、-R-SO、-R-N(RCl又は水素原子である。Rは、アルカンジイル基である。Xは、水素原子、金属原子又はアンモニウム基である。Rは、アルキル基である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)