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1. (WO2016056524) FILM FOR DEPOSITION OF INORGANIC SUBSTANCE, INORGANIC SUBSTANCE DEPOSITED FILM, AND USE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/056524    International Application No.:    PCT/JP2015/078260
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 06.10.2015
IPC:
B32B 27/32 (2006.01), C08F 210/16 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), B65D 65/40 (2006.01)
Applicants: PRIME POLYMER CO., LTD. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057122 (JP)
Inventors: YANAGISHITA, Yoshio; (JP).
TAGUCHI, Eiichi; (JP).
MARUYAMA, Kazuhide; (JP).
NAMIKI, Akio; (JP)
Agent: SSINPAT PATENT FIRM; Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Priority Data:
2014-206232 07.10.2014 JP
Title (EN) FILM FOR DEPOSITION OF INORGANIC SUBSTANCE, INORGANIC SUBSTANCE DEPOSITED FILM, AND USE THEREOF
(FR) FILM POUR DÉPÔT DE SUBSTANCE INORGANIQUE, FILM AVEC SUBSTANCE INORGANIQUE DÉPOSÉE ET UTILISATION DE CEUX-CI
(JA) 無機物蒸着用フィルム、無機物蒸着フィルムおよびその用途
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a film for the deposition of an inorganic substance that forms an inorganic deposition layer and in which the adhesiveness of the inorganic deposition surface is not lowered during dry lamination even after long-term storage in a rolled state. [Solution] A film for the deposition of an inorganic substance that includes one or more resin layers, said film being characterized in that all of the resin layers contain an ethylenic polymer having a melt tension of at most 5.0 g as measured at 190°C and in that conditions (1) to (3) are satisfied. Condition (1): the amount of components generated when the film is heated under fixed conditions is at most 1.2 µg per 1 mg of the film. Condition (2): the amount of compounds containing pentavalent phosphorus recovered after the surface of the film is washed under fixed conditions is 9 µg or less. Condition (3): the amount of oligomeric oxides having 6 to 10 subunits recovered after the surface of the film is washed under fixed conditions is 1.5 µg or less.
(FR)L'objectif de l'invention est d'obtenir un film pour dépôt de substance inorganique, lequel permet de former une couche déposée inorganique et pour lequel l'adhérence de la surface déposée inorganique n'est pas diminuée dans un processus de stratification à sec même après un stockage de longue durée sous forme de rouleaux. Plus spécifiquement, ce film pour dépôt de substance inorganique comporte une ou plusieurs couches de résine, et se caractérise en ce que toutes les couches de résine contiennent un polymère de l'éthylène qui présente une tension à l'état fondu mesurée à 190℃ inférieure ou égale à 0,5g, et en ce que les conditions (1) à (3) suivantes sont remplies. Condition (1): la quantité de composant généré lorsque le film est chauffé dans des conditions prédéterminées, pour 1mg de film, est égale ou inférieure à 1,2μg. Condition (2): la quantité de composé contenant du phosphore pentavalent récupéré après lavage de la surface du film dans des conditions prédéterminées est égale ou inférieure à 9μg. Condition (3): la quantité de composé contenant un oxyde d'oligomère avec 6 à 10 parties récupéré après lavage de la surface du film dans des conditions prédéterminées est égale ou inférieure à 1,5μg.
(JA)[課題]無機物蒸着層を形成し、ロール状態で長期間保管した後であっても、ドライラミネート加工の際の無機物蒸着面の接着性を低下させない無機物蒸着用フィルムを提供すること。 [解決手段]単層または多層の樹脂層を含む無機物蒸着用フィルムであって、すべての前記樹脂層が190℃で測定された溶融張力が5.0g以下のエチレン系重合体を含み、下記要件(1)~(3)を満たすことを特徴とする無機物蒸着用フィルム。要件(1):前記フィルムを、一定条件下で加熱することにより発生する成分の量が、前記フィルム1mgあたり1.2μg以下である。要件(2):前記フィルムの表面を一定条件下で洗浄して回収される5価のリンを含む化合物の量が、9μg以下である。要件(3):前記フィルムの表面を一定条件下で洗浄して回収される6から10量体のオリゴマーの酸化物の量が、1.5μg以下である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)