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1. (WO2016056397) IMAGING DEVICE, MANUFACTURING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/056397 International Application No.: PCT/JP2015/077011
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 25.09.2015
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,H01L 31/10 (2006.01)
Applicants: SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORPORATION[JP/JP]; 4-14-1, Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa 2430014, JP
Inventors: JOEI Masahiro; JP
MANDA Shuji; JP
Agent: NISHIKAWA Takashi; JP
Priority Data:
2014-20544206.10.2014JP
Title (EN) IMAGING DEVICE, MANUFACTURING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE, DISPOSITIF DE FABRICATION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 撮像装置、製造装置、製造方法
Abstract: front page image
(EN) The present technology is related to an imaging device, a manufacturing device, and a manufacturing method which can prevent infiltration of a substance such as hydrogen and prevent changes in performance. Provided are the following: an organic photoelectric conversion film; an upper electrode provided on the top of the organic photoelectric conversion film; a lower electrode provided on the bottom of the organic photoelectric conversion film; and a metallic thin film provided between the organic photoelectric conversion film and the upper electrode or between the organic photoelectric conversion film and the lower electrode. The metallic thin film is provided between the organic photoelectric conversion film and the upper electrode, and the upper electrode is constituted by an oxide semiconductor, a metal oxide, and a metallic thin film. The present technology can be applied to a vertical-type spectroscopic imaging device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'imagerie, un dispositif de fabrication et un procédé de fabrication qui peuvent empêcher l'infiltration d'une substance telle que de l'hydrogène et empêcher des changements dans les performances. L'objet de l'invention comprend : un film organique de conversion photoélectrique ; une électrode supérieure disposée sur le dessus du film organique de conversion photoélectrique ; une électrode inférieure disposée sur le dessous du film organique de conversion photoélectrique ; et un film mince métallique disposé entre le film organique de conversion photoélectrique et l'électrode supérieure ou entre le film organique de conversion photoélectrique et l'électrode inférieure. Le film mince métallique se trouve entre le film organique de conversion photoélectrique et l'électrode supérieure, et l'électrode supérieure est constituée d'un semiconducteur à oxyde, d'un oxyde métallique et d'un film métallique mince. La présente invention peut être appliquée à un dispositif d'imagerie spectroscopique de type vertical.
(JA) 本技術は、水素などの物質の侵入を防ぎ、性能が変化するようなことを防ぐことができるようにする撮像装置、製造装置、製造方法に関する。 有機光電変換膜と、有機光電変化膜の上部に設けられた上部電極と、有機光電変化膜の下部に設けられた下部電極と、有機光電変化膜と上部電極の間、または有機光電変化膜と下部電極との間に設けられた金属薄膜とを備える。金属薄膜は、有機光電変化膜と上部電極の間に設けられ、上部電極は、酸化物半導体、金属酸化物、および金属薄膜から構成されている。本技術は、縦型分光の撮像装置に適用できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)