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1. (WO2016056232) METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED OBJECT, PATTERNED OBJECT, AND LIGHT IRRADIATION APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/056232    International Application No.:    PCT/JP2015/005090
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 06.10.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H05K 3/10 (2006.01)
Applicants: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-6-5, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150 (JP)
Inventors: YAMADA, Go; (JP)
Agent: KONISHI, Kay; (JP)
Priority Data:
2014-207626 08.10.2014 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED OBJECT, PATTERNED OBJECT, AND LIGHT IRRADIATION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'OBJET À MOTIFS, OBJET À MOTIFS ET APPAREIL D'EXPOSITION À UN RAYONNEMENT LUMINEUX
(JA) パターン形成体の製造方法、パターン形成体及び光照射装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing a patterned object and a light irradiation apparatus that make it possible to precisely form a pattern that is faithful to a mask pattern in a patterning process in which a pattern formation substrate is irradiated with vacuum ultraviolet light via a mask in an atmosphere containing oxygen. A light irradiation apparatus (100) according to the present invention includes: a mask stage that is disposed so as to have a gap between it and a pattern formation substrate and that retains a mask having a predetermined pattern formed thereon; and a vacuum-ultraviolet light source unit that irradiates the pattern formation substrate via the mask with light containing vacuum ultraviolet light. The gap between the mask and the pattern formation substrate is an atmosphere containing oxygen. As the vacuum ultraviolet light for irradiation, the vacuum-ultraviolet light source unit uses light having a continuous spectrum over a wavelength range from 180 nm to 200 nm.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un objet à motifs et un appareil d'exposition à un rayonnement lumineux qui permettent de former avec précision un motif qui est fidèle à un motif de masque dans un processus de formation de motifs dans lequel un substrat de formation de motifs est exposé au rayonnement d'une lumière ultraviolette du vide par l'intermédiaire d'un masque dans une atmosphère contenant de l'oxygène. Un appareil d'exposition à un rayonnement lumineux (100) selon la présente invention comprend : un étage de masque qui est disposé de manière à présenter un espace entre lui et un substrat de formation de motifs et qui retient un masque sur lequel est formé un motif prédéfini; et une unité source de lumière ultraviolette du vide qui expose le substrat de formation de motifs, par l'intermédiaire du masque, au rayonnement d'une lumière contenant une lumière ultraviolette du vide. L'espace entre le masque et le substrat de formation de motifs est une atmosphère contenant de l'oxygène. Comme lumière ultraviolette du vide destinée à l'exposition à un rayonnement, l'unité source de lumière ultraviolette du vide utilise une lumière ayant un spectre continu sur une plage de longueurs d'onde de 180 nm à 200 nm.
(JA)酸素を含む雰囲気中で、マスクを介してパターン形成用基板に真空紫外線を照射するパターニング処理において、マスクパターンに忠実なパターンを精度良く形成することができるパターン形成体の製造方法及び光照射装置が開示される。光照射装置(100)は、パターン形成用基板に対して離間して配置され、所定のパターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、マスクを介して、パターン形成用基板上に真空紫外光を含む光を照射する真空紫外光光源部と、を備える。マスクとパターン形成用基板との間隙は酸素を含む雰囲気である。真空紫外光光源部は、真空紫外光として、波長180nm以上200nm以下の範囲に連続スペクトルを有する光を照射する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)